-
1
-
-
33846137675
-
-
Peng, H.; Schoen, D. T.; Meister, S.; Zhang, X. F.; Cui, Y. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 34-35
-
(2007)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.129
, pp. 34-35
-
-
Peng, H.1
Schoen, D.T.2
Meister, S.3
Zhang, X.F.4
Cui, Y.5
-
2
-
-
0032098227
-
-
Kwon, S. H.; Ahn, B. T.; Kim, S. K.; Yoon, K. H.; Song, J. Thin Solid Films 1998, 323, 265-269
-
(1998)
Thin Solid Films
, vol.323
, pp. 265-269
-
-
Kwon, S.H.1
Ahn, B.T.2
Kim, S.K.3
Yoon, K.H.4
Song, J.5
-
3
-
-
77955406898
-
-
Zhai, T.; Ma, Y.; Li, L.; Fang, X.; Liao, M.; Koide, Y.; Yao, J.; Bando, Y.; Golberg, D. J. Mater. Chem. 2012, 20, 6630-6637
-
(2012)
J. Mater. Chem.
, vol.20
, pp. 6630-6637
-
-
Zhai, T.1
Ma, Y.2
Li, L.3
Fang, X.4
Liao, M.5
Koide, Y.6
Yao, J.7
Bando, Y.8
Golberg, D.9
-
4
-
-
18844383407
-
-
Mitzi, B.; Copel, M.; Chey, S. J. Adv. Mater. 2005, 17, 1285-1289
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 1285-1289
-
-
Mitzi, B.1
Copel, M.2
Chey, S.J.3
-
5
-
-
33747370365
-
-
Sreekumar, R.; Jayakrishnan, R.; Kartha, C. S.; Vijayakumar, K. P. J. Appl. Phys. 2006, 100, 033707
-
(2006)
J. Appl. Phys.
, vol.100
, pp. 033707
-
-
Sreekumar, R.1
Jayakrishnan, R.2
Kartha, C.S.3
Vijayakumar, K.P.4
-
6
-
-
65249110568
-
-
Lai, K.; Peng, H.; Kundhikanjana, W.; Schoen, D. T.; Xie, C.; Meister, S.; Cui, Y.; Kelly, M. A.; Shen, Z. X. Nano Lett. 2009, 9, 1265-1269
-
(2009)
Nano Lett.
, vol.9
, pp. 1265-1269
-
-
Lai, K.1
Peng, H.2
Kundhikanjana, W.3
Schoen, D.T.4
Xie, C.5
Meister, S.6
Cui, Y.7
Kelly, M.A.8
Shen, Z.X.9
-
7
-
-
77956388069
-
-
Lee, J. Y.; Sun, K.; Li, B.; Xie, Y. H.; Wei, X.; Russell, T. P. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 092114
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 092114
-
-
Lee, J.Y.1
Sun, K.2
Li, B.3
Xie, Y.H.4
Wei, X.5
Russell, T.P.6
-
8
-
-
46749114103
-
-
Peng, H.; Xie, C.; Schoen, D. T.; Cui, Y. Nano Lett. 2008, 8, 1511-1516
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 1511-1516
-
-
Peng, H.1
Xie, C.2
Schoen, D.T.3
Cui, Y.4
-
9
-
-
38849168125
-
-
Sreekmar, R.; Jayakrishnan, R.; Kartha, S. K.; Vijayakumar, K. P.; Khan, S. A.; Avasthi, D. K. J. Appl. Phys. 2008, 103, 023709
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.103
, pp. 023709
-
-
Sreekmar, R.1
Jayakrishnan, R.2
Kartha, S.K.3
Vijayakumar, K.P.4
Khan, S.A.5
Avasthi, D.K.6
-
10
-
-
83755173277
-
-
Li, Q. L.; Gao, L. J.; Wang, S. D.; Sun, X. H. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 243105
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.99
, pp. 243105
-
-
Li, Q.L.1
Gao, L.J.2
Wang, S.D.3
Sun, X.H.4
-
11
-
-
77950184553
-
-
Zhai, T.; Fang, X.; Liao, M.; Xu, X.; Li, L.; Liu, B.; Koide, Y.; Ma, Y.; Yao, J.; Bando, Y.; Golberg, D. ACS Nano 2010, 4, 1596-1602
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 1596-1602
-
-
Zhai, T.1
Fang, X.2
Liao, M.3
Xu, X.4
Li, L.5
Liu, B.6
Koide, Y.7
Ma, Y.8
Yao, J.9
Bando, Y.10
Golberg, D.11
-
13
-
-
0018020180
-
-
Merle, J. C.; Batiromo, R.; Borsella, E.; Piacentini, M.; Savoia, A. Solid State Commun. 1978, 28, 251-255
-
(1978)
Solid State Commun.
, vol.28
, pp. 251-255
-
-
Merle, J.C.1
Batiromo, R.2
Borsella, E.3
Piacentini, M.4
Savoia, A.5
-
15
-
-
79955372181
-
-
Li, Y.; Gao, J.; Li, Q.; Peng, M.; Sun, X.; Li, Y.; Yuan, G.; Wen, W.; Meyyappan, M. J. Mater. Chem. 2011, 21, 6944-6947
-
(2011)
J. Mater. Chem.
, vol.21
, pp. 6944-6947
-
-
Li, Y.1
Gao, J.2
Li, Q.3
Peng, M.4
Sun, X.5
Li, Y.6
Yuan, G.7
Wen, W.8
Meyyappan, M.9
-
18
-
-
0030289498
-
-
Marsillac, S.; Combot-Marie, A. M.; Bernéde, J. C.; Conan, A. Thin Solid Films 1996, 288, 14-20
-
(1996)
Thin Solid Films
, vol.288
, pp. 14-20
-
-
Marsillac, S.1
Combot-Marie, A.M.2
Bernéde, J.C.3
Conan, A.4
-
19
-
-
0032131414
-
-
Ye, J.; Soeda, S.; Nakamura, Y.; Nittono, O. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 4264-4271
-
(1998)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.37
, pp. 4264-4271
-
-
Ye, J.1
Soeda, S.2
Nakamura, Y.3
Nittono, O.4
-
20
-
-
0033889280
-
-
Emziane, M.; Marsillac, S.; Bernéde, J. C. Mater. Chem. Phys. 2000, 62, 84-87
-
(2000)
Mater. Chem. Phys.
, vol.62
, pp. 84-87
-
-
Emziane, M.1
Marsillac, S.2
Bernéde, J.C.3
-
21
-
-
0037011489
-
-
Jansinski, J.; Swider, W.; Washburn, J.; Liliental-Weber, Z.; Chaiken, A.; Nauka, K.; Gibson, G. A.; Yang, C. C. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4356-4358
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 4356-4358
-
-
Jansinski, J.1
Swider, W.2
Washburn, J.3
Liliental-Weber, Z.4
Chaiken, A.5
Nauka, K.6
Gibson, G.A.7
Yang, C.C.8
-
22
-
-
11244337542
-
-
Robles, R.; Barreau, N.; Vega, A.; Marsillac, S.; Bernède, J. C.; Mokrani, A. Opt. Mater. 2005, 27, 647-653
-
(2005)
Opt. Mater.
, vol.27
, pp. 647-653
-
-
Robles, R.1
Barreau, N.2
Vega, A.3
Marsillac, S.4
Bernède, J.C.5
Mokrani, A.6
-
23
-
-
77956304163
-
-
Ho, C. H.; Wang, Y. P.; Chan, C. H.; Huang, Y. S.; Li, C. H. J. Appl. Phys. 2012, 108, 043518
-
(2012)
J. Appl. Phys.
, vol.108
, pp. 043518
-
-
Ho, C.H.1
Wang, Y.P.2
Chan, C.H.3
Huang, Y.S.4
Li, C.H.5
-
25
-
-
78249289080
-
-
Wang, Y. P.; Ho, C. H.; Huang, Y. S. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 415301
-
(2010)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.43
, pp. 415301
-
-
Wang, Y.P.1
Ho, C.H.2
Huang, Y.S.3
-
26
-
-
2042540048
-
-
Ho, C. H.; Lee, H. W.; Cheng, Z. H. Rev. Sci. Instrum. 2004, 75, 1098-1102
-
(2004)
Rev. Sci. Instrum.
, vol.75
, pp. 1098-1102
-
-
Ho, C.H.1
Lee, H.W.2
Cheng, Z.H.3
-
28
-
-
80054029083
-
-
Hsin, C. L.; Lee, W. F.; Huang, C. T.; Huang, C. W.; Wu, W. W.; Chen, L. J. Nano Lett. 2011, 11, 4348-4351
-
(2011)
Nano Lett.
, vol.11
, pp. 4348-4351
-
-
Hsin, C.L.1
Lee, W.F.2
Huang, C.T.3
Huang, C.W.4
Wu, W.W.5
Chen, L.J.6
-
30
-
-
0025519159
-
-
Faur, M.; Faur, M.; Jayne, D. T.; Goradia, M.; Goradia, C. Sur. Interface Anal. 1990, 15, 641-650
-
(1990)
Sur. Interface Anal.
, vol.15
, pp. 641-650
-
-
Faur, M.1
Faur, M.2
Jayne, D.T.3
Goradia, M.4
Goradia, C.5
-
31
-
-
21544473300
-
-
Cahen, D.; Ireland, P. J.; Kazmerski, L. L.; Thiel, F. A. J. Appl. Phys. 1985, 57, 4761-4771
-
(1985)
J. Appl. Phys.
, vol.57
, pp. 4761-4771
-
-
Cahen, D.1
Ireland, P.J.2
Kazmerski, L.L.3
Thiel, F.A.4
-
32
-
-
0000537222
-
-
Neison, A. J.; Gebhard, S.; Kazmerski, L. L.; Colavita, E.; Engelhardt, M.; Höchst, H. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 1428-1430
-
(1990)
Appl. Phys. Lett.
, vol.57
, pp. 1428-1430
-
-
Neison, A.J.1
Gebhard, S.2
Kazmerski, L.L.3
Colavita, E.4
Engelhardt, M.5
Höchst, H.6
-
33
-
-
84863115472
-
-
Ho, C. H.; Chan, C. H.; Tien, L. C.; Huang, Y. S. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 25088-25096
-
(2011)
J. Phys. Chem. C
, vol.115
, pp. 25088-25096
-
-
Ho, C.H.1
Chan, C.H.2
Tien, L.C.3
Huang, Y.S.4
-
34
-
-
0001022502
-
-
Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1997, 82, 865-870
-
(1997)
J. Appl. Phys.
, vol.82
, pp. 865-870
-
-
Tahar, R.B.H.1
Ban, T.2
Ohya, Y.3
Takahashi, Y.4
-
35
-
-
0003568126
-
-
In; Balkanski, M. North Holland: Amsterdam, The Netherlands
-
Aspnes, D. E. In Handbook on Semiconductors; Balkanski, M., Ed.; North Holland: Amsterdam, The Netherlands, 1980.
-
(1980)
Handbook on Semiconductors
-
-
Aspnes, D.E.1
|