Electrochemical deposition of Mn:ZnO films under hydrothermal conditions

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 160, Issue 4, 2013, Pages

  Yilmaz, Ceren ^a   Unal, Ugur ^a  

^a KOÇ UNIVERSITY   (Turkey)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL BINDING; CRYSTAL QUALITIES; ELECTROCHEMICAL DEPOSITION; HYDROTHERMAL CONDITIONS; LATERAL GROWTH; LATTICE STRUCTURES; NON-POLAR SURFACES; PHOTOLUMINESCENCE SPECTRUM;

DEPOSITION; ELECTRODEPOSITION; MANGANESE OXIDE; METALLIC FILMS; OPTICAL PROPERTIES; PHOTOELECTRONS; PHOTOLUMINESCENCE; PHOTOLUMINESCENCE SPECTROSCOPY; REDUCTION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC OXIDE;

MANGANESE;

EID: 84875694652     PISSN: 00134651     EISSN: 19457111     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.077304jes     Document Type: Article

References (44)

1. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B, 80, 383 (2001).
2. U. Ozgur, Y. Alivov, C. Liu, C. Teke, M. Reshchikov, S. Dogǎn, V. Avrutin, S. J. Cho, and H. Morkoç, J. Appl. Phys., 98, 041301 (2005).
3. S. M. Chou, L. G. Teoh, W. H. Lai, Y. H. Su, and M. H. Hon, Sensors, 6, 1420 (2006).
4. A. Ohtomoa, M. Kawasakia, Y. Sakuraib, Y. Yoshida, H. Koinumac, P. Yue, Z. K. Tange, G. K. L. Wonge, and Y. Segawaf, Mater. Sci. Eng. B, 54, 24 (1998).
5. J. H. Choy, E. S. Jang, J. H. Won, J. H. Chung, D. J. Jang, and Y. W. Kim, Adv. Mater., 15, 1911 (2003).
6. H. Kind, H. Yan, B. Messer, M. Law, and P. Yang, Adv. Mater., 14, 158 (2002).
7. M. Willander, O. Nur, N. Bano, and K. Sultana, New J. Phys., 11, 125020 (2009).
8. W. Y. Weng, S. J. Chang, C. L. Hsu, and T. J. Hsueh, ACS Appl. Mater. Interfaces, 3, 162 (2011).
9. H. Majidi and J. B. Baxter, Electrochim. Acta, 56, 2703 (2010).
10. A. Ohtomo, M. Kawasaki, T. Koida, K. Masubuchi, H. Koinuma, Y. Sakurai, Y. Yoshida, T. Yasuda, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett., 72, 2466 (1998).
11. K. Wu, S. Gu, K. Tang, J. Ye, S. Zhu, M. Zhou, Y. Huang, M. Xu, R. Zhang, and Y. Zheng, J. Magn. Magn. Mater., 324, 1649 (2012).
12. T. Liu, H. Xu, W. S. Chin, P. Yang, Z. Yong, and A. T. S. Wee, J. Phys. Chem. C, 112, 13410 (2008).
13. K. Jug and V. Tikhomirov, J. Phys. Chem. A, 113, 11651 (2009).
14. T. Bu, M. Hilgendorff, S. Irsen, F. Wilhelm, A. Rogalev, D. Goll, and M. Giersig, J. Phys. Chem. C, 112, 2412 (2008).
15. Z. Yin, N. Chen, C. Chai, and F. Yang, J. Appl. Phys., 96, 5093 (2004).
16. S. Sain, J. Bhattacharjee, M. Mukherjee, D. Das, and S. K. Pradhan, J. Alloy Compd., 519, 112 (2012).
17. M. Tortosa, M. Mollar, and B. Marí, Phys. Status Solidi C, 5, 3467 (2008).
18. T. Fukumura, Z. Jin, A. Ohtomo, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett., 75, 3366 (1999).
19. I. Polat, S. Aksu, M. Altunbas, S. Yi{dotless}lmaz, and E. Bacaksi{dotless}z, J. Solid State Chem., 184, 2683 (2011).
20. H. T. Cao, Z. L. Pei, J. Gong, C. Sun, R. F. Huang, and L. S. Wen, J. Solid State Chem., 177, 1480 (2004).
21. X. Yan, D. Hu, H. Li, L. Li, X. Chong, and Y. Wang, Physica B, 406, 3956 (2011).
22. Y. S. Wang, P. J. Thomas, and P. O'Brien, J. Phys. Chem. B, 110, 21412 (2006).
23. M. Tortosa, M. Mollar, and B. Mari, J. Cryst. Growth, 304, 97 (2007).
24. T. Yoshida, Thin Solid Films, 451-452, 166 (2004).
25. Z. L. Wang, J. Phys.: Condens. Matter, 16, R829 (2004).
26. T. Pauporte, R. Cortes, M. Froment, B. Beaumont, and D. Lincot, Chem. Mater., 14, 4702 (2002).
27. L. Xu, Y. Guo, Q. Liao, J. Zhang, and D. Xu, J. Phys. Chem. B, 109, 13519 (2005).
28. D. Pradhan and K. T. Leung, Langmuir, 24, 9707 (2008).
29. A. Goux, T. Pauporte, J. Chivot, and D. Lincot, Electrochim. Acta, 50, 2239 (2005).
30. X. Lu, D. Wang, G. Li, C. Su, D. Kuang, and Y. Tong, J. Phys. Chem. C, 2, 13574 (2009).
31. T. Zhai, S. Xie, Y. Zhao, X. Sun, X. Lu, M. Yu, M. Xu, F. Xiao, and Y. Tong, Cryst. Eng. Comm., 14, 1850 (2012).
32. G. Rodríguez-Gattorno, P. Santiago-Jacinto, L. Rendon-Vázquez, J. Németh, L. Dékány, and D. Díaz, J. Phys. Chem. B, 107, 12597 (2003).
33. C. J. Lan, J. S. Tsay, C. K. Lo, C. Lin, J. H. He, and R. J. Chung, J. Electrochem. Soc., 157, D559 (2010).
34. A. Goux, D. Lincot, and T. Pauporte, J. Electroanal. Chem., 587, 193 (2006).
35. A. Goux, D. Lincot, and T. Pauporte, Electrochim. Acta, 53, 50 (2007).
36. M. K. Sharma, R. N. Gayen, A. K. Pal, D. Kanjilal, and R. Chatterjee, Solid State Commun., 151, 1182 (2011).
37. D. Banerjee and H. W. Nesbitt, Am. Mineral., 83, 305 (1998).
38. C. N. R. Rao, D. D. Sarma, S. Vasudevan, and M. S. Hegde, Proc. R. Soc. A, 367, 239 (1979).
39. J. W. Lee, A. S. Hall, J. Kim, and T. E. Mallouk, Chem. Mater., 24, 1158 (2012).
40. A. M. E. Raj, S. G. Victoria, V. B. Jothy, C. Ravidhas, J. Wollschlager, M. Suendorf, M. Nemann, M. Jayachandran, and C. Sanjeeviraja, Appl. Surf. Sci., 256, 2920 (2010).
41. S. Riyadi, A. Muafif, A. Nugroho, A. Rusydi, and M. O. Tjia, J. Phys.: Condens. Matter, 19, 476214 (2007).
42. C. Gu, J. Li, J. Lian, and G. Zheng, Appl. Surf. Sci., 253, 7011 (2007).
43. H. W. Lee, S. P. Lau, Y. G. Wang, K. Y. Tse, H. H. Hng, and B. K. Tay, J. Cryst. Growth, 268, 596 (2008).
44. Y. Lin, Y. Yang, J. Xu, X. Liu, J. Wang, Z. Huang, F. Zhang, and Y. Du, Chinese Phys. Lett., 24, 2685 (2007).