Optimizing picene molecular assembling by supersonic molecular beam deposition

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 46, 2012, Pages 24503-24511

  Gottardi, Stefano ^a,e   Toccoli, Tullio ^a   Iannotta, Salvatore ^a   Bettotti, Paolo ^b   Cassinese, Antonio ^c   Barra, Mario ^c   Ricciotti, Laura ^c   Kubozono, Yoshihiro ^d  

^a CNR   (Italy)

^b UNIVERSITY OF TRENTO   (Italy)

^c UNIVERSITY OF NAPLES FEDERICO II   (Italy)

^d OKAYAMA UNIVERSITY   (Japan)

^e UNIVERSITY OF GRONINGEN   (Netherlands)

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CRYSTALLITES; DEPOSITION; MOLECULAR BEAMS; MORPHOLOGY; ORGANIC POLYMERS; OXIDE FILMS; SILICON COMPOUNDS; SILICON OXIDES; SUPERSONIC AIRCRAFT;

BALANCING MECHANISMS; DEPOSITION CONDITIONS; GROWTH MODELING; HEXAMETHYLDISILOXANE; SUPERSONIC MOLECULAR BEAM; THERMAL SILICON; TOP-CONTACT DEVICES; WEAK INTERACTIONS;

FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 84870266141     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp304561s     Document Type: Article

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