Plasma Chemical Study of a RF Discharge Containing Aluminum Tri-Isopropoxide Using MIR Absorption Spectroscopy Based on External-Cavity Quantum Cascade Lasers

Contributions to Plasma Physics

Volumn 52, Issue 10, 2012, Pages 864-871

  Lopatik, D ^a   Niemietz, S ^b   Frohlich M ^b   Ropcke J ^a   Kersten, H ^b  

^a LEIBNIZ INSTITUTE FOR PLASMA SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Germany)

^b UNIVERSITY OF KIEL   (Germany)

Author keywords

Aluminum tri isopropoxide; Fragmentation; Plasma chemistry; Quantum cascade laser spectroscopy

Indexed keywords

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ALUMINUM COMPOUNDS; ARGON LASERS; ELECTRIC DISCHARGES; LASER SPECTROSCOPY; LIGHT ABSORPTION; MOLECULES; ORGANOMETALLICS;

ADMIXTURE; ALUMINUM-TRI-ISOPROPOXIDE; EXTERNAL CAVITY; FRAGMENTATION; METAL ORGANIC PRECURSORS; MIR ABSORPTION; PLASMA CHEMISTRIES; QUANTUM CASCADE LASER SPECTROSCOPY; RF DISCHARGE; RF PLASMA;

QUANTUM CASCADE LASERS;

EID: 84869071822     PISSN: 08631042     EISSN: 15213986     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ctpp.201200044     Document Type: Article

References (41)

1. K. Bhattacharya and D. Das, Nanotechnology 18, 415704 (2007).
2. M. Hähnel, V. Brüser, and H. Kersten, Plasma Process. Polym. 6, 629 (2007).
3. S. Bornholdt, M. Wolter, and H. Kersten, Eur. Phys. J. D 60, 653 (2010).
4. H. Kersten, G. Thieme, M. Fröhlich, D. Bojic, D. H. Tung, M. Quaas, H. Wulff, and R. Hippler, Pure Appl. Chem. 77, 415 (2005).
5. L. Daasch and H. Fales, Organic Mass Spectr. 2, 143 (1969).
6. K. Folting, K. E. Streib, K. G. Caulton, O. Poncelet, and L. G. Hubert-Pfalzgraf, Polyhedron 10, 1639 (1991).
7. N. Y. Turova, V. A. Kozunov, A. I. Yanovskii, N. G. Bokii, Y. T. Struchkov, and B. L. Tarnopolskii, J. Inorg. Nuclear Chem. 41, 5 (1979).
8. S. Blittersdorf, N. Bahlawane, K. Kohse-Höinghaus, B. Atakan, and J. Muller, Chemical Vapor Dep. 9, 194 (2003).
9. M. Kathrein, W. Schintlmeister, W. Wallgram, and U. Schleinkofer, Surf. Coat. Technol. 163-164, 181 (2003).
10. M. D. Groner, S. M. George, R. S. McLean, and P. F. Garcia, Appl. Phys. Lett. 88, 051907 (2006).
11. T. A. Zevaco, A. Janssen, J. Sypien, and E. Dinjus, Green Chem. 7, 659-666 (2005).
12. I. Saraie, J. Kwon, Y. Yodogawa, J. Electrochem. Soc. 132, 890 (1985).
13. A. M. Huntz, M. Andrieux, C. Vahlas, M. M. Sovar, D. Samelor, and A. N. Gleizes, J. Electrochem. Soc. 154, 63 (2007).
14. M. M. Sovar, D. Samelor, A. Gleizes, and C. Vahlas, Surf. Coat. Technol. 201, 9159 (2007).
15. L. M. Miller and D. A. Gulino, Surf. Coat. Technol. 68-69, 76 (1994).
16. H. Kersten, R. Wiese, G. Thieme, M. Fröhlich, A. Kopitov, D. Bojic, F. Scholze, H. Neumann, M. Quaas, H. Wulff, and R. Hippler, New J. Phys. 5, 93.1 (2003).
17. J. Röpcke, G. Lombardi, A. Rousseau, and P. B. Davies, Plasma Sources Sci. Technol. 15, S148 (2006).
18. J. Röpcke, L. Mechold, M. Käning, J. Anders, F. G. Wienhold, D. Nelson, and M. Zahniser, Rev. Sci. Instrum. 71, 3706 (2000).
19. J. B. McManus, D. Nelson, M. Zahniser, L. Mechold, M. Osiac, J. Röpcke, and A. Rousseau, Rev. Sci. Instrum. 74, 2709 (2003).
20. C. Yamada and E. Hirota, Phys. Rev. Lett. 56, 923 (1986).
21. J. Röpcke, G. Revalde, M. Osiac, K. Li, and J. Meichsner, Plasma Chem. Plasma Process. 22, 139 (2002).
22. M. Hübner, S. Welzel, D. Marinov, O. Guaitella, S. Glitsch, A. Rousseau, and J. Röpcke, Rev. Sci. Instr. 82, 093102 (2011).
23. S. Welzel, F. Hempel, M. Hübner, N. P. Lang, P. B. Davies, and J. Röpcke, Sensors 10, 6861 (2010).
24. R. Bartlome, A. Feltrin, and C. Ballif, Appl. Phys. Lett. 94, 21501 (2009).
25. M. Wolter, M. Hundt, and H. Kersten, Vacuum 85, 482 (2010).
26. R. F. Curl, F. Capasso, C. Gmachl, A. A. Kostorev, B. McManus, R. Lewicki, M. Pusharsky, G. Wysocki, and F. K. Tittel, Chem. Phys. Lett. 487, 1 (2010).
27. R. J. Walker, J. H. van Helden, and G. A. D. Richie, Chem. Phys. Lett. 501, 20 (2010).
28. A. Karpf and G. N. Rao, Appl. Optics 49, 1406 (2010).
29. R. Furstenberg, C. A. Kendziora, J. Stepnowski, S. V. Stepnowski, M. Rake, M. R. Papantonakis, V. Nguyen, G. K. Hubler, and R. A. McGill, Appl. Phys. Lett. 93, 224103 (2008).
30. D. Lopatik, N. Lang, U. Macherius, H. Zimmermann, and J. Röpcke, Meas. Sci. Technol. 2012, submitted.
31. J. U. White, J. Optical Soc. America 32, 285 (1942).
32. L. S. Rothman, D. Jacquemart, A. Barbe, D. C. Benner, M. Birk, L. R. Brown, M. R. Carleer, C. Chackerian, K. Chance, L. H. Coudert, V. Dana, V. M. Devi, J. M. Flaud, R. R. Gamache, A. Goldman, J. M. Hartmann, K. W. Jucks, A. G. Maki, J. Y. Mandin, S. T. Massie, J. Orphal, A. Perrin, C. P. RinslM. A. H. Smith, J. Tennyson, R. N. Tolchenov, R. A. Toth, J. Vander Auwera, P. Varanasi, and G. Wagner, J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer 96, 139 (2005).
33. S. Niemietz, M. Fröhlich, and H. Kersten, Plasma Process. Polym. (2012) DOI: 10.1002/ppap.201200012.
34. M. Masi, C. Cavallotti, and S. Carra, Chemical Engineering Sci. 53, 3875 (1998).
35. K. Bleecker, A. Bogaerts, W. Goedheer, and R. Gijbels, IEEE Trans. Plasma Sci. 32, 691 (2004).
36. M. Hundt, P. Sadler, I. Levchenko, M. Wolter, H. Kersten, and K. Ostrikov, J. Appl. Phys. 109, 123305 (2011).
37. E. Kovacevic, I. Stefanovi, J. Berndt, and J. Winter, J. Appl. Phys. 93, 2924 (2003).
38. S. Stepanov and J. Meichsner, Plasma Sources Sci. Technol. 21, 024008 (2012)
39. S. Welzel, S. Stepanov, J. Meichsner, and J. Röpcke, J. Phys. D: Appl. Phys. 43, 124014 (2010)
40. S. Reuter, J. Winter, S. Iseni, S. Peters, A. Schmidt-Bleker, M. Dünnbier, J. Schäfer, R. Foest, and K.-D. Weltmann, Plasma Sources Sci. Technol. 21, 034015 (2012).
41. S. Saloum, M. Naddaf, and B. Alkhaled, J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 045205 (2008).