-
1
-
-
0030104299
-
-
M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. De Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 380 (1996).
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.14
, pp. 380
-
-
Haverlag, M.1
Stoffels, E.2
Stoffels, W.W.3
Kroesen, G.M.W.4
De Hoog, F.J.5
-
2
-
-
0033474404
-
-
J. Röpcke, L. Mechold, M. Käning, W. Y. Fan, and P. B. Davies, Plasma Chem. Plasma Process. 19, 395 (1999).
-
(1999)
Plasma Chem. Plasma Process.
, vol.19
, pp. 395
-
-
Röpcke, J.1
Mechold, L.2
Käning, M.3
Fan, W.Y.4
Davies, P.B.5
-
4
-
-
0029184502
-
-
S. Naito, N. Ito, T. Hattori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 302 (1995).
-
(1995)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.34
, Issue.PART 1
, pp. 302
-
-
Naito, S.1
Ito, N.2
Hattori, T.3
Goto, T.4
-
5
-
-
21844510712
-
-
M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. De Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3102 (1994).
-
(1994)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.12
, pp. 3102
-
-
Haverlag, M.1
Stoffels, E.2
Stoffels, W.W.3
Kroesen, G.M.W.4
De Hoog, F.J.5
-
6
-
-
0030104436
-
-
M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. De Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 384 (1996).
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.14
, pp. 384
-
-
Haverlag, M.1
Stoffels, E.2
Stoffels, W.W.3
Kroesen, G.M.W.4
De Hoog, F.J.5
-
7
-
-
0003538591
-
-
G. M. W. Kroesen, J. H. W. G. den Boer, L. Boufendi, F. Vivet, K. Khouli, A. Bouchoule, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 546 (1996).
-
(1996)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.14
, pp. 546
-
-
Kroesen, G.M.W.1
Den Boer, J.H.W.G.2
Boufendi, L.3
Vivet, F.4
Khouli, K.5
Bouchoule, A.6
De Hoog, F.J.7
-
9
-
-
0028529871
-
-
S. Naito, N. Ito, T. Hattori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 5967 (1994).
-
(1994)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.33
, Issue.PART 1
, pp. 5967
-
-
Naito, S.1
Ito, N.2
Hattori, T.3
Goto, T.4
-
10
-
-
0027882391
-
-
S. Naito, M. Ikeda, N. Ito, T. Hattori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 5721 (1993).
-
(1993)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.32
, Issue.PART 1
, pp. 5721
-
-
Naito, S.1
Ikeda, M.2
Ito, N.3
Hattori, T.4
Goto, T.5
-
11
-
-
0001609782
-
-
M. Ikeda, N. Ito, M. Hiramatsu, M. Hori, and T. Goto, J. Appl. Phys. 82, 4055 (1997).
-
(1997)
J. Appl. Phys.
, vol.82
, pp. 4055
-
-
Ikeda, M.1
Ito, N.2
Hiramatsu, M.3
Hori, M.4
Goto, T.5
-
14
-
-
0001222690
-
-
W. Y. Fan, P. F. Knewstubb, M. Käning, L. Mechold, J. Röpcke, and P. B. Davies, J. Phys. Chem. A 103, 4118 (1999).
-
(1999)
J. Phys. Chem. A
, vol.103
, pp. 4118
-
-
Fan, W.Y.1
Knewstubb, P.F.2
Käning, M.3
Mechold, L.4
Röpcke, J.5
Davies, P.B.6
-
18
-
-
0347848486
-
-
Saillon, Switzerland
-
C. Lukas, T. Kawetzki, V. Schulz-von der Gathen, H. F. Döbele, M. Käning, and J. Röpcke, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics III, Conference Proceedings 261, Saillon, Switzerland, 1999.
-
(1999)
Frontiers in low Temperature Plasma Diagnostics III, Conference Proceedings
, vol.261
-
-
Lukas, C.1
Kawetzki, T.2
Schulz-von Der Gathen, V.3
Döbele, H.F.4
Käning, M.5
Röpcke, J.6
-
19
-
-
23544447801
-
-
Saillon, Switzerland
-
M. Käning, J. Röpcke, C. Lukas, T. Kawetzki, V. Schulz-von der Gathen, and H. F. Döbele, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics III, Conference Proceedings 257, Saillon, Switzerland, 1999.
-
(1999)
Frontiers in low Temperature Plasma Diagnostics III, Conference Proceedings
, vol.257
-
-
Käning, M.1
Röpcke, J.2
Lukas, C.3
Kawetzki, T.4
Schulz-von Der Gathen, V.5
Döbele, H.F.6
-
20
-
-
0347848485
-
-
Bonn
-
L. Mechold, J. Röpcke, X. Duten, and A. Rousseau, Frühjahrstagung Plasmaphysik der DPG 1024, Bonn, 2000.
-
(2000)
Frühjahrstagung Plasmaphysik der DPG 1024
-
-
Mechold, L.1
Röpcke, J.2
Duten, X.3
Rousseau, A.4
|