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Journal of Materials Chemistry

Volumn 22, Issue 8, 2012, Pages 3377-3382

Electroless deposition of Cu nanostructures on molecular patterns prepared by dip-pen nanolithography

(2) Chang, Yu Hsu a Wang, Chia Hsin a

a NATIONAL TAIPEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY (Taiwan)

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16-MERCAPTOHEXADECANOIC ACID; AFM; DIP-PEN NANOLITHOGRAPHY; HIGH REPRODUCIBILITY; MOLECULAR JUNCTION; MOLECULAR PATTERNS; NANOSTRUCTURE ARRAYS; OCTADECANETHIOL; POLYCRYSTALLINE GOLD; REACTION CONDITIONS; SELF-ASSEMBLED; UNDERPOTENTIAL DEPOSITION;

NANOLITHOGRAPHY; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

NANOSTRUCTURES;

EID: 84863062080 PISSN: 09599428 EISSN: 13645501 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c1jm13987h Document Type: Article

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