Optical and electric properties of Bi 0.5Na 0.5TiO 3-based thin films grown on indium-tin-oxide-coated glass substrates

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 51, Issue 1, 2012, Pages

  Zhang, Shan Tao ^a   Chen, Y B ^a   Gu, Zheng Bin ^a  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD CURVES; GLASS SUBSTRATES; OPTICAL AND ELECTRIC PROPERTIES; TETRAGONAL CRYSTAL STRUCTURE; TIO;

BARIUM COMPOUNDS; CRYSTAL STRUCTURE; ELECTRIC FIELDS; ELECTRIC PROPERTIES; FERROELECTRIC MATERIALS; FERROELECTRICITY; GLASS; INDIUM; NIOBIUM OXIDE; OXIDE FILMS; PULSED LASER DEPOSITION; SODIUM; SUBSTRATES; THIN FILMS; TIN; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; VAPOR DEPOSITION; X RAY DIFFRACTION;

OPTICAL FILMS;

EID: 84862963824     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.51.011502     Document Type: Article

References (29)

1. J. Rödel, W. Jo, K. T. P. Seifert, E.-M. Anton, and T. Granzow: J. Am. Ceram. Soc. 92(2009) 1153.
2. S. J. Zhang, R. Xia, and T. R. Shrout: J. Electroceram. 19(2007) 251.
3. M. Abazari, A. Safari, S. S. N. Bharadwaja, and S. Trolier-McKinstry: Appl. Phys. Lett. 96(2010) 082903.
4. J. Miao, X. G. Xu, Y. Jiang, L. X. Cao, and B. R. Zhao: Appl. Phys. Lett. 95(2009) 132905.
5. L. Y. Wang, K. Yao, and W. Ren: Appl. Phys. Lett. 93(2008) 092903.
6. J. S. Kim, S. Y. Lee, C. W. Ahn, H. I. Hwang, H. J. Lee, S. H. Bae, and I. W. Kim: Jpn. J. Appl. Phys. 49(2010) 095805.
7. M. Bousquet, J.-R. Duclère, C. Champeaux, A. Boulle, P. Marchet, A. Catherinot, A. Wu, P. M. Vilarinho, S. Députier, M. Guilloux-Viry, A. Crunteanu, B. Gautier, D. Albertini, and C. Bachelet: J. Appl. Phys. 107(2010) 034102.
8. S. Yamazoe, Y. Miyoshi, T. Hattori, H. Adachi, and T. Wada: Jpn. J. Appl. Phys. 49(2010) 09MA06.
9. M. Abazari and A. Safari: J. Appl. Phys. 105(2009) 094101.
10. J. Xu, Y. Liu, R. L. Withers, F. Brink, H. Yang, and M. Wang: J. Appl. Phys. 104(2008) 116101.
11. K. Shibata, K. Suenaga, A. Nomoto, and T. Mishima: Jpn. J. Appl. Phys. 48(2009) 121408.
12. L. Y. Wang, W. Ren, P. Shi, X. F. Chen, X. Q. Wu, and X. Yao: Appl. Phys. Lett. 97(2010) 072902.
13. C. W. Ahn, S. Y. Lee, H. J. Lee, A. Ullah, J. S. Bae, E. D. Jeong, J. S. Choi, B. H. Park, and I. W. Kim: J. Phys. D 42(2009) 215304.
14. Y. P. Guo, D. Akai, K. Sawada, M. Ishida, and M. Y. Gu: Solid State Commun. 149(2009) 14.
15. G. H. Haertling: J. Am. Ceram. Soc. 82(1999) 797.
16. K. D. Preston and G. H. Haertling: Appl. Phys. Lett. 60(1992) 2831.
17. W. J. Leng, C. R. Yang, H. Ji, J. H. Zhang, H. W. Chen, and J. L. Tang: J. Appl. Phys. 100(2006) 083505.
18. K. B. Ruan, X. M. Chen, T. Liang, G. H. Wu, and D. H. Bao: J. Appl. Phys. 103(2008) 074101.
19. M. F. Zhang, B. Yang, H. Z. Chen, and W. W. Cao: Opt. Mater. 32(2009) 406.
20. W. C. Liu, Y. B. Yao, C. L. Lam, C. S. Ng, C. L. Mak, K. H. Wong, W. Zhou, and R. Sooryakuma: J. Appl. Phys. 106(2009) 073523.
21. M. N. Kamalasanan, S. Chandra, P. C. Joshi, and A. Mansigh: Appl. Phys. Lett. 59(1991) 3547.
22. H. L. Du, W. C. Zhou, D. M. Zhu, and L. Fa: J. Am. Ceram. Soc. 91(2008) 2903.
23. S. T. Zhang, A. B. Kounga, E. Aulbach, H. Ehrenberg, and J. Rödel: Appl. Phys. Lett. 91(2007) 112906.
24. S.-T. Zhang, A. B. Kounga, W. Jo, C. Jamin, K. Seifert, T. Granzow, J. Rödel, and D. Damjanovic: Adv. Mater. 21(2009) 4716.
25. A. Z. Simões, C. S. Riccardi, L. S. Cavalcante, A. H. M. Gonzalez, E. Longo, and J. A. Varela: Mater. Res. Bull. 43(2008) 158.
26. U. Pal, D. Samanta, S. Ghoral, and A. K. Chaudhuri: J. Appl. Phys. 74(1993) 6368.
27. S. E. Leach, R. E. Garćia, and V. Nagarajan: Acta Mater. 59(2011) 191.
28. D. Nuzhnyy, J. Petzelt, S. Kamba, T. Yamada, M. Tyunina, A. K. Tagantsev, J. Levoska, and N. Setter: J. Electroceram. 22(2009) 297.
29. S. W. Liu, J. Weaver, Z. Yuan, W. Donner, C. L. Chen, J. C. Jiang, E. I. Meletis, W. Chang, S. W. Kirchoefer, J. Horwitz, and A. Bhalla: Appl. Phys. Lett. 87(2005) 142905.