Approaching charge balance in organic light-emitting diodes by tuning charge injection barriers with mixed monolayers

Langmuir

Volumn 28, Issue 1, 2012, Pages 424-430

  Yu, Szu Yen ^a   Huang, Ding Chi ^a   Chen, Yi Ling ^b   Wu, Kun Yang ^c   Tao, Yu Tai ^a,c  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CENTRAL UNIVERSITY   (Taiwan)

^c INSTITUTE OF CHEMISTRY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE BALANCES; CHARGE INJECTION BARRIERS; DEVICE CURRENTS; HOLE-TRANSPORTING LAYERS; INJECTION LAYERS; MAXIMUM LUMINANCE; MIXED MONOLAYERS; MIXING RATIOS;

BINARY MIXTURES; CESIUM; LIGHT EMITTING DIODES;

SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

EID: 84862907795     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la2036423     Document Type: Article

References (63)

1. Tang, C. W.; Vanslyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913
2. Burroughes, J. H.; Bradley, D. D. C.; Brown, A. R.; Marks, R. N.; Mackay, K.; Friend, R. H.; Burns, P. L.; Holmes, A. B. Nature 1990, 347, 539
3. Burrows, P. E.; Gu, G.; Bulovic, V.; Shen, Z.; Forrest, S. R.; Thompson, M. E. IEEE Trans. Electron Devices 1997, 44, 1188
4. Adachi, C.; Baldo, M. A.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2001, 90, 5048
5. Baldo, M. A.; O'Brien, D. F.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Phys. Rev. B 1999, 60, 14422
6. Swanson, S. A.; Wallraff, G. M.; Chen, J. P.; Zhang, W. J.; Bozano, L. D.; Carter, K. R.; Salem, J. R.; Villa, R.; Scott, J. C. Chem. Mater. 2003, 15, 2305
7. Bulovic, V.; Shoustikov, A.; Baldo, M. A.; Bose, E.; Kozlov, V. G.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Chem. Phys. Lett. 1998, 287, 455
8. Hepp, A.; Ulrich, G.; Schmechel, R.; Vonseggern, H.; Ziessel, R. Synth. Met. 2004, 146, 11
9. You, H.; Dai, Y.; Zhang, Z.; Ma, D. J. Appl. Phys. 2007, 101, 026105
10. Kanno, H.; Hamada, Y.; Takahashi, H. IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2004, 10, 30
11. Kanno, H.; Giebink, N. C.; Sun, Y.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 023503
12. Wen, S. W.; Lee, M. T.; Chen, C. H. J. Disp. Technol. 2005, 1, 90
13. Lu, M. H.; Sturm, J. C. J. Appl. Phys. 2002, 91, 595
14. Liao, L. S.; Klubek, K. P.; Tang, C. W. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 167
15. Möller, S.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3324
16. Aguirre, C. M.; Auvray, S.; Pigeon, S.; Izquierdo, R.; Desjardins, P.; Martel, R. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 183104
17. Chan, I. M.; Hong, F. C. Thin Solid Films 2004, 450, 304
18. Hung, L. S.; Liao, L. S.; Lee, C. S.; Lee, S. T. J. Appl. Phys. 1999, 86, 4607
19. Li, Y. Q.; Tan, L. W.; Hao, X. T.; Ong, K. S.; Zhu, F. R.; Hung, L. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 153508
20. Wu, J. B.; Agrawal, M.; Becerril, H. A.; Bao, Z. N.; Liu, Z. F.; Chen, Y. S.; Peumans, P. ACS Nano 2010, 4, 43
21. Kim, J. S.; Park, J. H.; Lee, J. H.; Jo, J.; Kim, D.-Y.; Cho, K. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 112111
22. Hung, M.-C.; Wu, K.-Y.; Tao, Y.-T.; Huang, H.-W. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 203106
23. Wu, K.-Y.; Tao, Y.-T.; Huang, H.-W. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 241104
24. Hotchkiss, P. J.; Li, H.; Paramonov, P. B.; Paniagua, S. A.; Jones, S. C.; Armstrong, N. R.; Bredas, J.-L.; Marder, S. R. Adv. Mater. 2009, 21, 4496
25. Wu, C. C.; Wu, C. I.; Sturm, J. C.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1348
26. Kim, J. S.; Cacialli, F.; Cola, A.; Gigli, G.; Cingolani, R. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 19
27. Li, C.; Kwong, C.; Djurisic, A.; Lai, P.; Chui, P.; Chan, W.; Liu, S. Thin Solid Films 2005, 477, 57
28. Mason, M. G.; Hung, L. S.; Tang, C. W.; Lee, S. T.; Wong, K. W.; Wang, M. J. Appl. Phys. 1999, 86, 1688
29. Campbell, A. J.; Bradley, D. D. C.; Antoniadis, H. Synth. Met. 2001, 122, 161
30. Campbell, I. H.; Rubin, S.; Zawodzinski, T. A.; Kress, J. D.; Martin, R. L.; Smith, D. L.; Barashkov, N. N.; Ferraris, J. P. Phys. Rev. B 1996, 54, 14321
31. Ishii, H.; Sugiyama, K.; Ito, E.; Seki, K. Adv. Mater. 1999, 11, 972
32. Ishii, H.; Hayashi, N.; Ito, E.; Washizu, Y.; Sugi, K.; Kimura, Y.; Niwano, M.; Ouchi, Y.; Seki, K. Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1075
33. Hatton, R. A.; Day, S. R.; Chesters, M. A.; Willis, M. R. Thin Solid Films 2001, 394, 292
34. Khodabakhsh, S.; Poplavskyy, D.; Heutz, S.; Nelson, J.; Bradley, D. D. C.; Murata, F.; Jones, T. S. Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 1205
35. Bardecker, J. A.; Ma, H.; Kim, T.; Huang, F.; Liu, M. S.; Cheng, Y.-J.; Ting, G.; Jen, A. K. Y. Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 3964
36. Sharma, A.; Haldi, A.; Hotchkiss, P. J.; Marder, S. R.; Kippelen, B. J. Appl. Phys. 2009, 105, 074511
37. Sharma, A.; Hotchkiss, P. J.; Marder, S. R.; Kippelen, B. J. Appl. Phys. 2009, 105, 084507
38. Holmlin, R. E.; Haag, R.; Chabinyc, MN. L.; Ismagilov, R. F.; Cohen, A. E.; Terfort, A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5075
39. Sharma, A.; Kippelen, B.; Hotchkiss, P. J.; Marder, S. R. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 163308
40. 3-terminated SAM. The lifetime study will be published elsewhere.
41. Folkers, J. P.; Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M.; Deutch, J. J. Phys. Chem. 1994, 98, 563
42. Chen, S. F.; Li, L. Y.; Boozer, C. L.; Jiang, S. Y. Langmuir 2000, 16, 9287
43. Wu, K.-Y.; Yu, S.-Y.; Tao, Y.-T. Langmuir 2009, 25, 6232
44. Rissner, F.; Egger, D. A.; Romaner, L.; Heimel, G.; Zojer, E. ACS Nano 2010, 4, 6735
45. Katsouras, I.; Geskin, V.; Kronemeijer, A. J.; Blom, P. W. M.; de Leeuw, D. M. Org. Electron. 2011, 12, 857
46. Shaporenko, A.; Cyganik, P.; Buck, M.; Ulman, A.; Zharnikov, A. Langmuir 2005, 21, 8204
47. Qiao, X.; Tao, Y.; Wang, Q.; Ma, D.; Yang, C.; Wang, L.; Qin, J.; Wang, F. J. Appl. Phys. 2010, 108, 034508
48. Malliaras, G. G.; Scott, J. C. J. Appl. Phys. 1998, 83, 5399
49. Wakimoto, T.; Fukuda, Y.; Nagayama, K.; Yokoi, A.; Nakada, H.; Tsuchida, M. IEEE Trans. Electron Devices 1997, 44, 1245
50. Hung, L. S.; Tang, C. W.; Mason, M. G. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 152
51. Jabbour, G. E.; Kippelen, B.; Armstrong, N. R.; Peyghambarian, N. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2218
52. Chen, M.-H.; Wu, C.-I. J. Appl. Phys. 2008, 104, 113713
53. Wu, C.-I.; Lin, C.-T.; Chen, Y.-H.; Chen, M.-H.; Lu, Y.-J.; Wu, C.-C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 152104
54. Li, Y.; Zhang, D.-Q.; Duan, L.; Zhang, R.; Wang, L.-D.; Qiu, Y. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 012119
55. Huang, J.; Xu, Z.; Yang, Y. Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 1966
56. Koh, S. E.; McDonald, K. D.; Holt, D. H.; Dulcey, C. S.; Chaney, J. A.; Pehrsson, P. E. Langmuir 2006, 22, 6249
57. Paniagua, S. A.; Hotchkiss, P. J.; Jones, S. C.; Marder, S. R.; Mudalige, A.; Marrikar, F. S.; Pemberton, J. E.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 7809
58. Chang, Y.; Wang, L.; Su, W. Org. Electron. 2008, 9, 968
59. Donley, C.; Dunphy, D.; Paine, D.; Carter, C.; Nebesny, K.; Lee, P.; Alloway, D.; Armstrong, N. R. Langmuir 2002, 18, 450
60. Graupe, M.; Takenaga, M.; Koini, T.; Colorado, R.; Lee, T. R. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 3222
61. Kang, J. F.; Liao, S.; Jordan, R.; Ulman, A. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 9662
62. Chaudhury, M. K. Mater. Sci. Eng., R 1996, 16, 97
63. Ko, C. W.; Tao, Y. T. Synth. Met. 2002, 126, 37