Surface Kinetics of Bi 4-xLa xTi 3O 12 Films Etched in a CF 4/Ar Gas Chemistry

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 44, Issue 1, 2004, Pages 1-5

  Kim, Dong Pyo ^a   Kim, Kyoung Tae ^a   Efremov, A M ^a   Kim, Chang Il ^a  

^a Chung Ang University   (South Korea)

Author keywords

BLT; CF 4 Ar; OES; XPS

Indexed keywords

EID: 84862036753     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (19)

1. Y. Xu, Feroelectric Materials and Their Applications (North-Holland, New York, 1991).
2. B. H. Park, B. S. Kang, S. D. Bu, T. W. Noh, J. Lee and W. Jo, Nature 401, 682 (1999).
3. B. H. Park, S. J. Hyun, S. D. Bu, T. W. Noh, J. Lee, H. D. Kim, T. H. Kim and W. Jo, Appl. Phys. Lett. 74, 1907 (1999).
4. Y. Dinga, J. S. Liu, H. X. Qin, J. S. Zhu and Y. N. Wang, Appl. Phys. Lett. 78, 4175 (2001).
5. M. G. Kang, K. T. Kim, D. P. Kim and C. I. Kim, J. Korean Phys. Soc. 41, 445 (2002).
6. J. K. Jung and W. J. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 1408 (2001).
7. J. W. Seo, D. H. Lee, W. J. Lee, B. G. Yu, K. H. Kwon, G. Y. Yeom, E. G. Chang and C. I. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 1354 (2000).
8. D. P. Kim and C. I. Kim, J. Korean Phys. Soc. 39, 189 (2001).
9. Y. H. Im, J. S. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, Y. B. Hahn, S. H. Lee and J. K. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1315 (2001).
10. H. Mace, H. Achard and L. Peccoud, Microelectron. Eng. 29, 45 (1995).
11. R. Chen, H. Huang, C. J. Spanos and M. Gatto, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1901 (1996).
12. J. Y. Choe, I. P. Herman and V. M. Donnelly, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 3024 (1997).
13. S. H. Kim, S. W. Lee, J. H. Hwang and J. H. Ahn, J. Korean Phys. Soc. 42, 196 (2003).
14. K. H. Kwon, C. I. Kim, S. J. Yun and G. Y. Yeom, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2772 (1998).
15. S. B. Desu and W. Pan, Appl. Phys. Lett. 68, 566 (1996).
16. K. Asami, I. Koiwa and T. Yamanobe, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 5423 (1999).
17. B. Chapman, Glow Discharge Process (Wiley Inter Science, New York, 1980).
18. Handbook of Chemistry and Physics, edited by David R. Lide (CRC Press, New York, 1998-1999).
19. Practical Surface Analysis Vol. 1: Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, edited by D. Briggs ans M. P. Seah (Wiley, New York, 1990), p. 606.