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Volumn 99, Issue 8, 2011, Pages

Periodic variation of stress in sputter deposited Si/WSi2 multilayers

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AR GAS PRESSURE; INITIAL STAGES; PERIODIC VARIATION; SI LAYER; SI SURFACES; SURFACE REARRANGEMENT; SURFACE SMOOTHING; WAFER CURVATURE;

EID: 80052398806     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3628242     Document Type: Article
Times cited : (12)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.