Effects of a TiO2 buffer layer on solution-deposited VO 2 films: Enhanced oxidization durability

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 50, 2010, Pages 22214-22220

  Zhang, Zongtao ^a,b   Gao, Yanfeng ^a   Kang, Litao ^a,b   Du, Jing ^a,b   Luo, Hongjie ^a  

^a SHANGHAI INSTITUTE OF CERAMICS   (China)

^b UNIVERSITY OF CHINESE ACADEMY OF SCIENCES   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COOLING STAGE; FUSED QUARTZ; HIGH OXYGEN PARTIAL PRESSURE; OXIDATION PROCESS; OXIDIZATION; RUTILE TIO; THERMAL OXIDIZATION; THERMO-CHROMIC; TIO;

BUFFER LAYERS; DURABILITY; MICROSTRUCTURAL EVOLUTION; OXIDE MINERALS; OXYGEN; REGENERATORS;

QUARTZ;

EID: 79951588061     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp108449m     Document Type: Article

References (49)

1. Eyert, V. Ann. Phys. 2002, 11, 650-702.
2. Goodenough, J. B. J. J. Solid State Chem. 1971, 3, 490-500.
3. Imada, M.; Fujimori, A.; Tokura, Y. Rev. Mod. Phys. 1998, 70, 1039-1263.
4. Morin, F. J. Phys. Rev. Lett. 1959, 3, 34-36.
5. Barker, A. S.; Verleur, H. W.; Guggenheim, H. J. Phys. Rev. Lett. 1966, 17, 1286.
6. Kang, L. T.; Gao, Y. F.; Luo, H. J. ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 2211-2218.
7. Parkin, I. P.; Manning, T. D. J. Chem. Educ. 2006, 83, 393-400.
8. Manning, T. D.; Parkin, I. P.; Clark, R. J. H.; Sheel, D.; Pemble, M. E.; Vernadou, D. J. Mater. Chem. 2002, 12, 2936-2939.
9. Vernardou, D.; Pemble, M. E.; Sheel, D. W. Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 158-162.
10. Lu, S. W.; Hou, L. S.; Gan, F. X. Adv. Mater. 1997, 9, 244-246.
11. Zhang, Z. T.; Gao, Y. F.; Chen, Z.; Du, J.; Cao, C. X.; Kang, L. T.; Luo, H. J. Langmuir 2010, 26, 10738-10744.
12. Neatu, S.; Sacaliuc-Parvulescu, E.; Levy, F.; Parvulescu, V. I. Catal. Today 2009, 142, 165-169.
13. Xu, G.; Jin, P.; Tazawa, M.; Yoshimura, K. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2004, 83, 29-37.
14. Griffiths, C. H.; Eastwood, H. K. J. Appl. Phys. 1974, 45, 2201-2206.
15. Chen, S. H.; Ma, H.; Dai, J.; Yi, X. J. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 101117.
16. Mlyuka, N. R.; Niklasson, G. A.; Granqvist, C. G. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2009, 93, 1685-1687.
17. Qureshi, U.; Manning, T. D.; Blackman, C.; Parkin, I. P. Polyhedron 2006, 25, 334-338.
18. Saeli, M.; Piccirillo, C.; Parkin, I. P.; Ridley, I.; Binions, R. Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 94, 141-151.
19. Fu, G. H.; Polity, A.; Volbers, N.; Meyer, B. K. Thin Solid Films 2006, 515, 2519-2522.
20. Jin, P.; Xu, G.; Tazawa, M.; Yoshimura, K. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2003, 77, 455-459.
21. Manning, T. D.; Parkin, I. P.; Pemble, M. E.; Sheel, D.; Vernardou, D. Chem. Mater. 2004, 16, 744-749.
22. Beteille, F.; Livage, J. J. Sol-Gel Sci. Technol. 1998, 13, 915-921.
23. Kang, L.; Gao, Y.; Zhang, Z.; Du, J.; Cao, C.; Chen, Z.; Luo, H. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 1901-1911.
24. Segawa, H.; Fukuyoshi, J.; Tateishi, K.; Tanaka, K.; Yoshida, K. J. Mater. Sci. Lett. 2003, 22, 687-690.
25. Miyazaki, H.; Yasui, I. Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 8367-8370.
26. Mendialdua, J.; Casanova, R.; Barbaux, Y. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1995, 71, 249-261.
27. Suh, J. Y.; Lopez, R.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F. J. Appl. Phys. 2004, 96, 1209-1213.
28. Chain, E. E. Appl. Opt. 1991, 30, 2782-2787.
29. Parker, J. C.; Lam, D. J.; Xu, Y. N.; Ching, W. Y. Phys. Rev. B 1990, 42, 5289.
30. Kakiuchida, H.; Jin, P.; Nakao, S.; Tazawa, M. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2007, 46, L113-L116.
31. Jin, P.; Xu, G.; Tazawa, M.; Yoshimura, K. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2002, 41, L278-L280.
32. Lopez, R.; Haynes, T. E.; Boatner, L. A.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F. Phys. Rev. B 2002, 65, 224113.
33. Narayan, J.; Bhosle, V. M. J. Appl. Phys. 2006, 100, 103524.
34. Aliev, R.; Klimov, V. Phys. Solid State 2004, 46, 532-536.
35. Petrov, G. I.; Yakovlev, V. V.; Squier, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1023-1025.
36. Lu, S. W.; Hou, L. S.; Gan, F. X. Thin Solid Films 1999, 353, 40-44.
37. Arsov, L. D.; Kormann, C.; Plieth, W. J. Raman Spectrosc. 1991, 22, 573-575.
38. Ma, H. L.; Yang, J. Y.; Dai, Y.; Zhang, Y. B.; Lu, B.; Ma, G. H. Appl. Surf. Sci. 2007, 253, 7497-7500.
39. Piccirillo, C.; Binions, R.; Parkin, I. P. Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 145-151.
40. Wu, X. C.; Lai, F. C.; Lin, L. M.; Li, Y. Z.; Lin, L. H.; Qu, Y.; Huang, Z. G. Appl. Surf. Sci. 2008, 255, 2840-2844.
41. Parker, J. C. Phys. Rev. B 1990, 42, 3164.
42. Lee, S.-H.; Cheong, H. M.; Seong, M. J.; Liu, P.; Tracy, C. E.; Mascarenhas, A.; Pitts, J. R.; Deb, S. K. J. Appl. Phys. 2002, 92, 1893-1897.
43. Qureshi, U.; Manning, T. D.; Parkin, I. P. J. Mater. Chem. 2004, 14, 1190-1194.
44. Kim, H. T.; Chae, B. G.; Youn, D. H.; Kim, G.; Kang, K. Y.; Lee, S. J.; Kim, K.; Lim, Y. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 242101.
45. Donev, E. U.; Lopez, R.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F. Nano Lett. 2009, 9, 702-706.
46. Marini, C.; Arcangeletti, E.; Di Castro, D.; Baldassare, L.; Perucchi, A.; Lupi, S.; Malavasi, L.; Boeri, L.; Pomjakushina, E.; Conder, K.; Postorino, P. Phys. Rev. B 2008, 77, 235111.
47. Kakiuchida, H.; Jin, P.; Tazawa, M. Thin Solid Films 2008, 516, 4563-4567.
48. Muraoka, Y.; Hiroi, Z. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 583-585.
49. Burrell, A. K.; McCleskey, T. M.; Shukla, P.; Wang, H.; Durakiewicz, T.; Moore, D. P.; Olson, C. G.; Joyce, J. J.; Jia, Q. Adv. Mater. 2007, 19, 3559-3563.