Effects of processing conditions on the work function and energy-level alignment of NiO thin films

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 46, 2010, Pages 19777-19781

  Greiner, Mark T ^a   Helander, Michael G ^a   Wang, Zhi Bin ^a   Tang, Wing Man ^a   Lu, Zheng Hong ^a,b  

^a UNIVERSITY OF TORONTO   (Canada)

^b YUNNAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AIR EXPOSURE; CORE LEVELS; EX SITU; HOLE INJECTION; IN-SITU; IN-SITU OXIDATION; IN-VACUUM; NIO FILMS; NIO THIN FILM; OXIDE SURFACE; OZONE OXIDATION; PHOTOEMISSION SPECTRA; PROCESSING CONDITION; RESIDUAL GAS; ULTRAVIOLET PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY; VACUUM-ANNEALING; VALENCE-BAND MAXIMUMS; X RAY PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY;

ADSORPTION; ALIGNMENT; EMISSION SPECTROSCOPY; LUMINESCENCE OF ORGANIC SOLIDS; OXIDATION; OXYGEN VACANCIES; OZONE; PHOTOEMISSION; THIN FILMS; VACUUM;

WORK FUNCTION;

EID: 78649703990     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp108281m     Document Type: Article

References (43)

1. You, H., Dai, Y. F., Zhang, Z. Q., and Ma, D. G. J. Appl. Phys. 2007, 101 ((2)) 026105.
2. Zhang, D. D., Feng, J., Liu, Y. F., Zhong, Y. Q., Bai, Y., Jin, Y., Xie, G. H., Xue, Q., Zhao, Y., Liu, S. Y., and Sun, H. B. Appl. Phys. Lett. 2009, 94 ((22)) 223306.
3. Wang, F. X.; Qiao, X. F.; Xiong, T.; Ma, D. G. Org. Electron. 2008, 9 (6) 985-993
4. Murdoch, G. B.; Greiner, M.; Helander, M. G.; Wang, Z. B.; Lu, Z. H. Appl. Phys. Lett. 2008, 93 ((8)) 083309.
5. Meyer, J.; Winkler, T.; Hamwi, S.; Schmale, S.; Johannes, H. H.; Weimann, T.; Hinze, P.; Kowlasky, W.; Riedl, T. Adv. Mater. 2008, 20 (20) 3839
6. Matsushima, T.; Kinoshita, Y.; Murata, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 91 ((25)) 253504.
7. Lee, H.; Cho, S. W.; Han, K.; Jeon, P. E.; Whang, C. N.; Jeong, K.; Cho, K.; Yi, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 93 ((4)) 043308.
8. Matsushima, T.; Jin, G. H.; Murata, H. J. Appl. Phys. 2008, 104 ((5)) 054501.
9. Qiu, C. F.; Xie, Z. L.; Chen, H. Y.; Wong, M.; Kwok, H. S. J. Appl. Phys. 2003, 93 (6) 3253-3258
10. Helander, M. G.; Wang, Z. B.; Greiner, M. T.; Qiu, J.; Lu, Z. H. Appl. Phys. Lett. 2009, 95 ((8)) 083301.
11. Chan, I. M.; Hsu, T. Y.; Hong, F. C. Appl. Phys. Lett. 2002, 81 (10) 1899-1901
12. Chan, I. M.; Hong, F. C. Thin Solid Films 2004, 450 (2) 304-311
13. Sato, H.; Minami, T.; Takata, S.; Yamada, T. Thin Solid Films 1993, 236 (1-2) 27-31
14. Sasi, B.; Gopchandran, K. G.; Manoj, P. K.; Koshy, P.; Rao, P. P.; Vaidyan, V. K. Vacuum 2002, 68 (2) 149-154
15. Im, H. C.; Choo, D. C.; Kim, T. W.; Kim, J. H.; Seo, J. H.; Kim, Y. K. Thin Solid Films 2007, 515 (12) 5099-5102
16. Woo, S.; Kim, J.; Cho, G.; Kim, K.; Lyu, H.; Kim, Y. J. Ind. Eng. Chem. 2009, 15 (5) 716-718
17. Oey, C. C.; Djurisic, A. B.; Kwong, C. Y.; Cheung, C. H.; Chan, W. K.; Nunzi, J. M.; Chui, P. C. Thin Solid Films 2005, 492 (1-2) 253-258
18. Park, S. W.; Choi, J. M.; Kim, E.; Im, S. Appl. Surf. Sci. 2005, 244 (1-4) 439-443
19. Irwin, M. D.; Buchholz, B.; Hains, A. W.; Chang, R. P. H.; Marks, T. J. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2008, 105 (8) 2783-2787
20. Steirer, K. X.; Chesin, J. P.; Widjonarko, N. E.; Berry, J. J.; Miedaner, A.; Ginley, D. S.; Olson, D. C. Org. Electron. 2010, 11 (8) 1414-1418
21. Yi Wang, Z.; Lee, S.-H.; Kim, D.-H.; Kim, J.-H.; Park, J.-G. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2010, 94 (10) 1591-1596
22. Qin, P.; Linder, M.; Brinck, T.; Boschloo, G.; Hagfeldt, A.; Sun, L. C. Adv. Mater. 2009, 21 (29) 2993
23. Gibson, E. A.; Smeigh, A. L.; Le Pleux, L.; Fortage, J.; Boschloo, G.; Blart, E.; Pellegrin, Y.; Odobel, F.; Hagfeldt, A.; Hammarstrom, L. Angew. Chem., Int. Ed. 2009, 48 (24) 4402-4405
24. He, J. J.; Lindstrom, H.; Hagfeldt, A.; Lindquist, S. E. J. Phys. Chem. B 1999, 103 (42) 8940-8943
25. Han, J. W.; Chun, J. Y.; Ok, C. H.; Seo, D. S. Jpn. J. Appl. Phys. 2009, 48 ((1)) 010205.
26. Wang, Z. B.; Helander, M. G.; Greiner, M. T.; Qiu, J.; Lu, Z. H. Phys. Rev. B 2009, 80 ((23)) 235325.
27. Chun, J. Y.; Han, J. W.; Seo, D. S. Mol. Cryst. Liq. Cryst. 2009, 514, 445-451
28. Langell, M. A.; Furstenau, R. P. Appl. Surf. Sci. 1986, 26 (4) 445-460
29. Roberts, M. W.; Smart, R. S. C. Surf. Sci. 1980, 100 (3) 590-604
30. Oliva, P.; Leonardi, J.; Laurent, J. F.; Delmas, C.; Braconnier, J. J.; Figlarz, M.; Fievet, F.; Deguibert, A. J. Power Sources 1982, 8 (2-3) 229-255
31. Olivier, J.; Servet, B.; Vergnolle, M.; Mosca, M.; Garry, G. Synth. Met. 2001, 122 (1) 87-89
32. Yeh, W. C.; Matsumura, M. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1997, 36 (11) 6884-6887
33. Yun, D. J.; Rhee, S. W. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26 (5) 1787-1793
34. Sasi, B.; Gopchandran, K. G. Nanotechnology 2007, 18 ((11)) 115613.
35. Liu, Z. W.; Helander, M. G.; Wang, Z. B.; Lu, Z. H. J. Phys. Chem. C 2010, 114 (27) 11931-11935
36. Norton, P. R.; Tapping, R. L.; Goodale, J. W. Surf. Sci. 1977, 65 (1) 13-36
37. McEwen, R. S. J. Phys. Chem. 1971, 75 (12) 1782
38. Cairns, R. W.; Ott, E. J. Am. Chem. Soc. 1933, 55, 534-544
39. Aggarwal, P. S.; Goswami, A. J. Phys. Chem. 1961, 65 (11) 2105
40. de Jesus, J. C.; Carrazza, J.; Pereira, P.; Zaera, F. Surf. Sci. 1998, 397 (1-3) 34-47
41. Kim, K. S.; Winograd, N. Surf. Sci. 1974, 43 (2) 625-643
42. Kim, K. S.; Davis, R. E. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1972, 1 (3) 251-258
43. Lany, S.; Osorio-Guillen, J.; Zunger, A. Phys. Rev. B 2007, 75 ((24)) 241203.