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Physical Review Letters

Volumn 105, Issue 4, 2010, Pages

Large interlayer relaxation at a metal-oxide interface: The case of a supported ultrathin alumina film

(4) Vesselli, Erik a,b Baraldi, Alessandro a,b Lizzit, Silvano c Comelli, Giovanni a,b

a UNIVERSITY OF TRIESTE (Italy)

b IOM CNR LABORATORIO TASC (Italy)

c SINCROTRONE TRIESTE (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALLOY SURFACES; ALUMINA FILMS; ATOMIC REARRANGEMENTS; METAL OXIDE INTERFACE; METALLIC LAYERS; MODULATION FUNCTIONS; OXYGEN SPECIES; PHOTOELECTRON DIFFRACTION; RELAXATION EFFECT; ULTRA-THIN;

FORWARD SCATTERING; OXIDE FILMS; OXYGEN;

METALLIC COMPOUNDS;

EID: 77954945995 PISSN: 00319007 EISSN: 10797114 Source Type: Journal
DOI: 10.1103/PhysRevLett.105.046102 Document Type: Article

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