메뉴 건너뛰기




Volumn 48, Issue 5, 2010, Pages 449-455

Crystallized Nano-thick TiO2 films with low temperature ALD process

Author keywords

ALD; Crystallization; Deposition; TEM; Thin films

Indexed keywords


EID: 77953497183     PISSN: 17388228     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3365/KJMM.2010.48.05.449     Document Type: Article
Times cited : (5)

References (27)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.