Strong effect of interelectrode distance on the performance of a novel zno nanorod lateral field emission device fabricated by a single-step hydrothermal approach

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 18, 2010, Pages 8575-8580

  Liu, Nishuang ^a   Fang, Guojia ^a   Zeng, Wei ^b   Long, Hao ^a   Fan, Xi ^a   Yuan, Longyan ^a   Zou, Xiao ^a   Liu, Yuping ^a   Zhao, Xingzhong ^a  

^a WUHAN UNIVERSITY   (China)

^b JIUJIANG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS-GROWN; COLD ELECTRONS; COMBINED EFFECT; ELECTROSTATIC FIELD; EMISSION PROCESS; FIELD-EMISSION CHARACTERISTICS; FN THEORY; FOWLER-NORDHEIM; GLASS SUBSTRATES; INTERELECTRODE DISTANCE; LATERAL FIELD EMISSION DEVICES; MEASUREMENT RESULTS; NANOROD GROWTH; PASSIVATION LAYER; PICK AND PLACE; SEED LAYER; SEPARATION DISTANCES; SINGLE-STEP; STRAIGHT LINES; ZNO; ZNO NANOROD;

ELECTRIC FIELDS; FIELD EMISSION; PASSIVATION; SINGLE CRYSTALS; SUBSTRATES; ZINC OXIDE;

NANORODS;

EID: 77952018641     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp1011389     Document Type: Article

References (30)

1. Kanemaru, S.; Itoh, J. IEEE Trans. Electron Devices 1991, 38, 2334
2. Park, J. H.; Lee, H. I.; Tae, H. S.; Huh, J. S.; Lee, J. H. IEEE Trans. Electron Devices 1997, 44, 1018
3. Lim, M. S.; Park, C. M.; Han, M. K.; Choi, Y. I. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 635
4. Subramanian, K.; Kang, W. P.; Davidson, J. L.; Hofmeister, W. H.; Choi, B. K.; Howell, M. Diamond Relat. Mater. 2005, 14, 2099
5. Song, X. F.; Gao, J. Y.; Fu, Q.; Xu, J.; Zhao, Q.; Yu, D. P. Nanotechnology 2009, 20, 405208
6. Xu, N. S.; Huq, S. E. Mater. Sci. Eng. R. 2005, 48, 47
7. Liu, N. S.; Fang, G. J.; Zeng, W.; Long, H.; Yuan, L. Y.; Zhao, X. Z. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 153505
8. Soci, C.; Zhang, A.; Xiang, B.; Dayeh, S. A.; Aplin, D. P. R.; Park, J.; Bao, X. Y.; Lo, Y. H.; Wang, D. Nano Lett. 2007, 7, 1003
9. Zhou, J.; Gu, Y.; Hu, Y.; Mai, W.; Yeh, P.; Bao, G.; Sood, A. K.; Polla, D. L.; Wang, Z. L. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 191103
10. Haraguchi, K.; Hiruma, K.; Katsuyama, T.; Tominaga, K.; Shirai, M.; Shimada, T. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 386
11. Islam, M. S.; Sharma, S.; Kamins, T. I.; Williams, R. S. Nanotechnology 2004, 15, L5
12. Conley, J. F.; Stecher, L.; Ono, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 223114
13. Chen, R. S.; Wang, S. W.; Lan, Z. H.; Tsai, J. T. H.; Wu, C. T.; Chen, L. C.; Chen, K. H.; Huang, Y. S.; Chen, C. C. Small 2008, 4, 925
14. Lee, J. S.; Islam, M. S.; Kim, S. Nano Lett. 2006, 6, 1487
15. He, R.; Gao, D.; Fan, R.; Hochbaum, A. I.; Carraro, C.; Maboudian, R.; Yang, P. D. Adv. Mater. 2005, 17, 2098
16. Qin, Y.; Yang, R. S.; Wang, Z. L. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 18734
17. Van, D. A.; Meulenkamp, E. A. J. Lumin. 2000, 454, 87
18. Vanheusden, K.; Warren, W. L.; Seager, C. H.; Tallant, D. R.; Voigt, J. A.; Gnade, B. E. J. Appl. Phys. 1996, 79, 7983
19. Zhang, X. T.; Liu, Y. C.; Zhang, J. Y.; Lu, Y. M.; Shen, D. Z.; Fan, X. W.; Kong, X. G. J. Cryst. Growth 2003, 254, 80
20. Izaki, M.; Watase, S.; Takahashi, H. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4930
21. Fowler, R. H.; Nordheim, L. Proc. R. Soc. London 1928, 119, 173
22. She, J. C.; Xiao, Z. M.; Yang, Y. H.; Deng, S. Z.; Chen, J.; Yang, G. W.; Xu, N. S. ACS Nano 2008, 2, 2015
23. Huang, Y. H.; Zhang, Y.; Gu, Y. S.; Bai, X. D.; Qi, J. J.; Liao, Q. L.; Liu, J. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 9039
24. Wang, X. D.; Zhou, J.; Lao, C. S.; Song, J. H.; Xu, N. S.; Wang, Z. L. Adv. Mater. 2007, 19, 1627
25. Fang, X. S.; Bando, Y.; Gautam, U. K.; Ye, C. H.; Golberg, D. J. Mater. Chem. 2008, 18, 509
26. Tseng, Y. K.; Huang, C. J.; Cheng, H. M.; Lin, I. N.; Liu, K. S.; Chen, I. C. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 811
27. Zhong, D. Y.; Zhang, G. Y.; Liu, S.; Sakurai, T.; Wang, E. G. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 506
28. Xue, X. Y.; Li, L. M.; Yu, H. C.; Chen, Y. J.; Wang, Y. G.; Wang, T. H. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 043118
29. Li, C.; Fang, G. J.; Liu, N. S.; Li, J.; Liao, L.; Su, F.; Li, G.; Wu, X.; Zhao, X. Z. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 12566
30. Fujii, S.; Honda, S. I.; Machida, H.; Kawai, H.; Ishida, K.; Katayama, M.; Furuta, H.; Hirao, T.; Oura, K. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 153108