Universal field-emission model for carbon nanotubes on a metal tip

Applied Physics Letters

Volumn 80, Issue 3, 2002, Pages 506-508

  Zhong, D Y ^a   Zhang, G Y ^a   Liu, S ^a   Sakurai, T ^b   Wang, E G ^a,b  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

^b TOHOKU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CNT EMITTERS; CURRENT SATURATION; EMISSION BEHAVIOR; EMISSION CURRENT; FIELD AMPLIFICATION FACTOR; FOWLER-NORDHEIM THEORY; METAL TIP; THRESHOLD FIELDS; UNIVERSAL RELATIONSHIP; VACUUM GAP;

VACUUM;

CARBON NANOTUBES;

EID: 79956043044     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1430507     Document Type: Article

References (20)

1. W. A. de Heer, A. Chatelain, and D. Ugarte, Science 270, 1179 (1995). sci SCIEAS 0036-8075
2. W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 75, 3129 (1999). apl APPLAB 0003-6951
3. Y. Saito, S. Uemura, and K. Hamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 37, L346 (1998). jjc JAPLD8 0021-4922
4. J.-M. Bonard, T. Stöckli, O. Noury, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 78, 2775 (2001). apl APPLAB 0003-6951
5. H. Sugie, M. Tanemura, V. Filip, K. Iwata, K. Takahashi, and F. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 78, 2578 (2001). apl APPLAB 0003-6951
6. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, and H. Dai, Science 283, 512 (1999). sci SCIEAS 0036-8075
7. J.-M. Bonard, J.-P. Salvetat, T. Stöckli, W. A. de Heer, L. Forró, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998). apl APPLAB 0003-6951
8. W. B. Choi, Y. W. Jin, H. Y. Kim, S. J. Lee, M. J. Yun, J. H. Kang, Y. S. Choi, N. S. Park, N. S. Lee, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 78, 1547 (2001). apl APPLAB 0003-6951
9. Q. H. Wang, M. Yan, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 78, 1294 (2001). apl APPLAB 0003-6951
10. R. H. Fowler and D. L. Nordheim, Proc. R. Soc. London, Ser. A 119, 173 (1928). prz PRLAAZ 0962-8444
11. P. G. Collins and A. Zettl, Phys. Rev. B 55, 9391 (1997). prb PRBMDO 0163-1829
12. S. Dimitrijevic, J. C. Withers, V. P. Mammana, O. R. Monteiro, J. W. Ager III, and I. G. Brown, Appl. Phys. Lett. 75, 2680 (1999). apl APPLAB 0003-6951
13. H. Murakami, M. Hirakawa, C. Tanaka, and H. Yamakawa, Appl. Phys. Lett. 76, 1776 (2000). apl APPLAB 0003-6951
14. X. Xu and G. R. Brandes, Appl. Phys. Lett. 74, 2549 (1999). apl APPLAB 0003-6951
15. K. A. Dean and B. R. Chalamala, Appl. Phys. Lett. 76, 375 (2000). apl APPLAB 0003-6951
16. X. Ma, E. G. Wang, W. Zhou, D. A. Jefferson, J. Chen, S. Deng, N. Xu, and J. Yuan, Appl. Phys. Lett. 75, 3105 (1999); apl APPLAB 0003-6951
17. X. Ma, E. G. Wang, R. D. Tilley, D. A. Jefferson, and W. Zhou, Appl. Phys. Lett. 77, 4136 (2000); apl APPLAB 0003-6951
18. X. Ma and E. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 78, 978 (2001). apl APPLAB 0003-6951
19. J.-M. Bonard, T. Stöckli, F. Maier, W. A. de Heer, A. Chatelain, J.-P. Salvetat, and L. Forró, Phys. Rev. Lett. 81, 1441 (1998). prl PRLTAO 0031-9007
20. R. Gao, Z. Pan, and Z. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 78, 1757 (2001). apl APPLAB 0003-6951