Efficient field emission from an individual aligned carbon nanotube bundle enhanced by edge effect

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 15, 2007, Pages

  Fujii, Shunjiro ^a   Honda, Shin Ichi ^a   Machida, Hironobu ^a   Kawai, Hideyasu ^a   Ishida, Kazuhiro ^a   Katayama, Mitsuhiro ^a   Furuta, Hiroshi ^b   Hirao, Takashi ^b   Oura, Kenjiro ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b KOCHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON NANOTUBES; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CURRENT DENSITY; ELECTRIC FIELD MEASUREMENT; THERMODYNAMIC STABILITY;

ELECTRIC FIELD DISTRIBUTION; EMISSION STABILITY; THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

FIELD EMISSION;

EID: 34247276661     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2721876     Document Type: Article

References (24)

1. S. Iijima, Nature (London) 354, 56 (1991).
2. M. S. Dresselhaus, G. Dresselhaus, and P. Avouris, Carbon Nanotubes: Synthesis, Structure, Properties, and Application (Springer, Berlin, 2001).
3. W. A. de Heer, A. Chatelain, and D. Urgate, Science 270, 1197 (1995).
4. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, and H. Dai, Science 283, 512 (1999).
5. Y. C. Kim and E. H. Yoo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 44, L454 (2005).
6. H. Sugie, M. Tanemura, V. Filip, K. Iwata, K. Takahashi, and F. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 78, 2578 (2001).
7. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Science 282, 1105 (1998).
8. S. H. Jo, Y. Tu, Z. P. Huang, D. L. Carnahan, D. Z. Wang, and Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 82, 3520 (2003).
9. L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L. Schlapbach, H. Kind, J.-M. Bonard, and K. Kern, Appl. Phys. Lett. 76, 2071 (2000).
10. Y. C. Choi, Y. M. Shin, D. J. Bae, S. C. Lim, Y. H. Lee, and B. S. Lee, Diamond Relat. Mater. 10, 1457 (2001).
11. S. Huang, A. W. H. Mau, T. W. Turney, P. A. White, and L. Dai, J. Phys. Chem. B 104, 2193 (2000).
12. V. B. Golovko, H. W. Li, B. Kleinsorge, S. Hofmann, J. Geng, M. Cantoro, Z. Yang, D. A. Jefferson, B. F. G. Johnson, W. T. S. Huck, and J. Robertson, Nanotechnology 16, 1636 (2005).
13. S. M. C. Vieira, K. B. K. Teo, W. I. Milne, O. Groning, L. Gangloff, E. Minoux, and P. Legagneux, Appl. Phys. Lett. 89, 022111 (2006).
14. M. Katayama, K.-Y. Lee, S. Honda, T. Hirao, and K. Oura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 43, L774 (2004).
15. W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. 75, 873 (1999).
16. C. Liu, Y. Tong, H.-M. Cheng, D. Golberg, and Y. Bando, Appl. Phys. Lett. 86, 223114 (2005).
17. W. S. Kim, J. Lee, T. W. Jeong, J. N. Heo, B. Y. Kong, Y. W. Jin, J. M. Kim, S. H. Cho, J. H. Park, and D. H. Choe, Appl. Phys. Lett. 87, 163112 (2005).
18. Z. Chen, D. den Engelsen, P. K. Bachmann, V. van Eisbergen, I. Koehler, J. Merikhi, and D. U. Wiechert, Appl. Phys. Lett. 87, 243104 (2005).
19. J.-M. Bonard, C. Klinke, K. A. Dean, and B. F. Coll, Phys. Rev. B 67, 115406 (2003).
20. Y. Saito, K. Seko, and J. Kinoshita, Diamond Relat. Mater. 14, 1843 (2005).
21. M. Doytcheva, M. Kaiser, and N. d. Jonge, Nanotechnology 17, 3226 (2006).
22. K. A. Dean and B. R. Chalamala, Appl. Phys. Lett. 75, 3017 (1999).
23. S. C. Lim, H. J. Jeong, Y. S. Park, D. S. Bae, Y. C. Choi, Y. M. Shin, W. S. Kim, K. H. An, and Y. H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1786 (2001).
24. A. Wadhawan, R. E. Stallcup II, K. F. Stephens II, J. M. Perez, and I. A. Akwani, Appl. Phys. Lett. 79, 1867 (2001).