-
1
-
-
0037171273
-
-
PRLTAO 0031-9007,. 10.1103/PhysRevLett.88.126803
-
W. G. Van der Wiel, S. De Franceschi, J. M. Elzerman, S. Tarucha, L. P. O. Kouwenhoven, J. Motohisa, F. Nakajima, and T. Fukui, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 88, 126803 (2002). 10.1103/PhysRevLett.88.126803
-
(2002)
Phys. Rev. Lett.
, vol.88
, pp. 126803
-
-
Van Der Wiel, W.G.1
De Franceschi, S.2
Elzerman, J.M.3
Tarucha, S.4
Kouwenhoven, L.P.O.5
Motohisa, J.6
Nakajima, F.7
Fukui, T.8
-
2
-
-
0041526785
-
-
SCIEAS 0036-8075,. 10.1126/science.1083800
-
X. Li, Y. Wu, D. Steel, D. Gammon, T. H. Stievater, D. S. Katzer, D. Park, C. Piermarocchi, and L. J. Sham, Science SCIEAS 0036-8075 301, 809 (2003). 10.1126/science.1083800
-
(2003)
Science
, vol.301
, pp. 809
-
-
Li, X.1
Wu, Y.2
Steel, D.3
Gammon, D.4
Stievater, T.H.5
Katzer, D.S.6
Park, D.7
Piermarocchi, C.8
Sham, L.J.9
-
3
-
-
33645139969
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2185615
-
J. H. Jung, J. Y. Jin, I. Lee, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 88, 112107 (2006). 10.1063/1.2185615
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 112107
-
-
Jung, J.H.1
Jin, J.Y.2
Lee, I.3
Kim, T.W.4
-
4
-
-
33846955049
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2454286
-
M. Sakai, M. Nakamura, and K. Kudo, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 90, 062101 (2007). 10.1063/1.2454286
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 062101
-
-
Sakai, M.1
Nakamura, M.2
Kudo, K.3
-
5
-
-
44849115591
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2938878
-
K. S. Yook, J. Y. Lee, S. H. Kim, and J. Jang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 92, 223305 (2008). 10.1063/1.2938878
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 223305
-
-
Yook, K.S.1
Lee, J.Y.2
Kim, S.H.3
Jang, J.4
-
6
-
-
64149107357
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3111445
-
D. I. Son, C. H. You, W. T. Kim, J. H. Jung, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 94, 132103 (2009). 10.1063/1.3111445
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 132103
-
-
Son, D.I.1
You, C.H.2
Kim, W.T.3
Jung, J.H.4
Kim, T.W.5
-
7
-
-
0000298224
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.116085
-
S. Tiwari, F. Rana, H. Hanafi, A. Hartstein, and E. F. Crabbe, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 68, 1377 (1996). 10.1063/1.116085
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 1377
-
-
Tiwari, S.1
Rana, F.2
Hanafi, H.3
Hartstein, A.4
Crabbe, E.F.5
-
8
-
-
38049066949
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2830617
-
F. Li, T. W. Kim, W. Dong, and Y. H. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 92, 011906 (2008). 10.1063/1.2830617
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 011906
-
-
Li, F.1
Kim, T.W.2
Dong, W.3
Kim, Y.H.4
-
9
-
-
34648826740
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2783189
-
F. Li, D. I. Son, S. M. Seo, H. M. Cha, H. J. Kim, B. J. Kim, J. H. Jung, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 91, 122111 (2007). 10.1063/1.2783189
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 122111
-
-
Li, F.1
Son, D.I.2
Seo, S.M.3
Cha, H.M.4
Kim, H.J.5
Kim, B.J.6
Jung, J.H.7
Kim, T.W.8
-
10
-
-
51349095971
-
-
NNOTER 0957-4484,. 10.1088/0957-4484/19/39/395201
-
D. I. Son, D. H. Park, S. Y. Ie, W. K. Shoi, J. W. Choi, F. Li, and T. W. Kim, Nanotechnology NNOTER 0957-4484 19, 395201 (2008). 10.1088/0957-4484/19/ 39/395201
-
(2008)
Nanotechnology
, vol.19
, pp. 395201
-
-
Son, D.I.1
Park, D.H.2
Ie, S.Y.3
Shoi, W.K.4
Choi, J.W.5
Li, F.6
Kim, T.W.7
-
11
-
-
65249151909
-
-
NNOTER 0957-4484,. 10.1088/0957-4484/20/8/085202
-
F. Li, D. I. Son, T. W. Kim, E. Ryu, and S. W. Kim, Nanotechnology NNOTER 0957-4484 20, 085202 (2009). 10.1088/0957-4484/20/8/085202
-
(2009)
Nanotechnology
, vol.20
, pp. 085202
-
-
Li, F.1
Son, D.I.2
Kim, T.W.3
Ryu, E.4
Kim, S.W.5
-
12
-
-
17044410869
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.1850194
-
J. H. Kim, J. Y. Jin, J. H. Jung, I. Lee, T. W. Kim, S. K. Kim, C. S. Yoon, and Y. H. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 86, 032904 (2005). 10.1063/1.1850194
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 032904
-
-
Kim, J.H.1
Jin, J.Y.2
Jung, J.H.3
Lee, I.4
Kim, T.W.5
Kim, S.K.6
Yoon, C.S.7
Kim, Y.H.8
-
13
-
-
70349900273
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3243463
-
D. Y. Yun, J. K. Kwak, J. H. Jung, T. W. Kim, and D. I. Son, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 143301 (2009). 10.1063/1.3243463
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 143301
-
-
Yun, D.Y.1
Kwak, J.K.2
Jung, J.H.3
Kim, T.W.4
Son, D.I.5
-
15
-
-
34250163947
-
-
CMATEX 0897-4756,. 10.1021/cm070209c
-
H. J. Seo and S. W. Kim, Chem. Mater. CMATEX 0897-4756 19, 2715 (2007). 10.1021/cm070209c
-
(2007)
Chem. Mater.
, vol.19
, pp. 2715
-
-
Seo, H.J.1
Kim, S.W.2
-
16
-
-
33745284580
-
-
SSTEET 0268-1242,. 10.1088/0268-1242/21/7/025
-
B. Park, K. Cho, H. Kim, and S. Kim, Semicond. Sci. Technol. SSTEET 0268-1242 21, 975 (2006). 10.1088/0268-1242/21/7/025
-
(2006)
Semicond. Sci. Technol.
, vol.21
, pp. 975
-
-
Park, B.1
Cho, K.2
Kim, H.3
Kim, S.4
-
17
-
-
33846567589
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2435598
-
W. L. Leong, P. S. Lee, S. G. Mhaisalkar, T. P. Chen, and A. Dodabalapur, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 90, 042906 (2007). 10.1063/1.2435598
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 042906
-
-
Leong, W.L.1
Lee, P.S.2
Mhaisalkar, S.G.3
Chen, T.P.4
Dodabalapur, A.5
-
18
-
-
33846046981
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2425042
-
C. A. Lee, D. -W. Park, K. -D. Jung, B. -J. Kim, Y. C. Kim, J. D. Lee, and B. -G. Park, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 89, 262120 (2006). 10.1063/1.2425042
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 262120
-
-
Lee, C.A.1
Park, D.-W.2
Jung, K.-D.3
Kim, B.-J.4
Kim, Y.C.5
Lee, J.D.6
Park, B.-G.7
-
19
-
-
79956019464
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.1477622
-
T. Sugino, C. Kimura, and T. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 80, 3602 (2002). 10.1063/1.1477622
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 3602
-
-
Sugino, T.1
Kimura, C.2
Yamamoto, T.3
-
20
-
-
70350397023
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3254232
-
J. Y. Zhang, L. E. Cai, B. P. Zhang, X. L. Hu, F. Jiang, J. Z. Yu, and Q. M. Wang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 161110 (2009). 10.1063/1.3254232
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 161110
-
-
Zhang, J.Y.1
Cai, L.E.2
Zhang, B.P.3
Hu, X.L.4
Jiang, F.5
Yu, J.Z.6
Wang, Q.M.7
-
21
-
-
67650770299
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3174913
-
W. T. Kim, J. H. Jung, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 022104 (2009). 10.1063/1.3174913
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 022104
-
-
Kim, W.T.1
Jung, J.H.2
Kim, T.W.3
-
22
-
-
40849089262
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2898163
-
F. Li, S. H. Cho, D. I. Son, K. H. Park, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 92, 102110 (2008). 10.1063/1.2898163
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 102110
-
-
Li, F.1
Cho, S.H.2
Son, D.I.3
Park, K.H.4
Kim, T.W.5
|