Thermodynamics of the production of condensed phases in the CVD of methyltrichlorosilane pyrolysis

Chemical Vapor Deposition

Volumn 15, Issue 10-12, 2009, Pages 281-290

  Deng, Juanli ^b   Su, Kehe ^a   Zeng, Qingfeng ^a   Wang, Xin ^a   Cheng, Laifei ^a   Xu, Yongdong ^a   Zhang, Litong ^a  

^a NORTHWESTERN POLYTECHNICAL UNIVERSITY   (China)

^b CHANG'AN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Mts; Production of condensed phase; Silicon carbide; Thermodynamics

Indexed keywords

CODEPOSITION; CONDENSED PHASE; CONDENSED PHASIS; EXPERIMENTAL CONDITIONS; GAS RATIO; METHYLTRICHLOROSILANE; MOLAR RATIO; PRODUCTION CONDITION; THEORETICAL INVESTIGATIONS; THERMO DYNAMIC ANALYSIS;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PETROLEUM REFINING; PYROLYSIS; THERMOANALYSIS; THERMODYNAMICS;

SILICON CARBIDE;

EID: 73849113699     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200806757     Document Type: Article

References (89)

1. I. Golecki, Mater. Sci. Eng. 1997, R20, 37.
2. J. H. Park, T. S. Sudarshan, Chemical Vapor Deposition. Surface Engineering Series, Vol. 2 Typset in India by Emptek Inc, Scarborough, ON, Canada 2001.
3. Y. D. Xu, L. F. Cheng, L. T. Zhang, Mater. Sci. Eng. A. 2001, 318, 183.
4. C. A. Nannetti, B. Riccardi, A. Ortona, J. Nucl. Mater. 2002, 307-311, 1196.
5. K. L. Luthra, Melt Infiltrated (MI) SiC/SiC Composites for Gas Turbine Applications. Talk Presented at DER Peer Review for Microturbine & Industrial Gas Turbines Programs on March 14 2002.
6. J.-J. Brennan, Acta Mater. 2000, 48, 4619.
7. T. Yano, K. Budiyanto, K. Yoshida, Fusion Eng. Des. 1998, 41, 157.
8. S. P. Lee, Y. Katoh, A. Kohyama, Scripta Mater. 2001, 44, 153.
9. C. K. Whitmarsh, L. V. Interrante, Organometallics 1991, 10, 1336.
10. C. K. Whitmarsh, L. V. Interrante, US Patent 5153295, (1992).
11. R. P. Boisvert, Ph. D. Thesis, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, NY 1995.
12. S. Veintemillas, V. Madigou, R. Rodrlguez-Clemente, A. Figueras, J. Cryst. Growth 1995, 148, 383.
13. R. Naslain, Comp. Sci. Tech. 2004, 64, 155.
14. S. Qionghua, L. S. Macdonald, US Patent 6730802 B2 (2004).
15. B. Li, C. R. Zhang, X. D. Li, H. F. Hu, Silicone Mater. 2006, 20, 183.
16. W. Wesch, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. 1996, 116, 305.
17. S. Ulrich, T. Theel, J. Schwan, V. Batori, M. Scheib, H. Ehrhardt, Diamond Relat. Mater. 1997, 6, 645.
18. A. N. Vorob'ev, S. Y. Karpov, A. I. Zhmakin, A. A. Lovtsus, Y. N. Makarov, A. Krishnan, J. Cryst. Growth 2000, 211, 343.
19. M. S. Lee, S. F. Bent, J. Appl. Phys. 2000, 87, 4600.
20. F. Chen, R. Mourhatch, T. T. Tsotsis, M. Sahimi, Chem. Eng. Sci. 2008, 63, 1460.
21. M. D. Su, H. B. Schlegel, J. Phys. Chem. 1993, 97, 9981.
22. M. D. Allendorf, R. J. Kee, J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 841.
23. M. D. Allendorf, C. F. Melius, J. Phys. Chem. 1992, 96, 428.
24. R. Moene, H. T. Boon, J. Schoonman, M. Makkee, J. A. Moulijn, Carbon 1996, 34, 567.
25. Y. L. Lee, J. M. Sanchez, J. Cryst. Growth 1997, 178, 513.
26. J. Radić-Perić, N. Pantelić, J. Therm. Anal. Calorim. 2003, 72, 35.
27. C. Bernard, E. Blanquet, M. Pons, Surf. Coat. Technol. 2007, 202, 790.
28. M. A. Fanton, B. E. Weiland, D. W. Snyder, J. M. Redwing, J. Appl. Phys. 2007, 101, 014903-1.
29. V. S. Srikanth, V. B. Trindade, T. Staedler, X. Jiang, Chem. Vap. Deposition 2008, 14, 78.
30. M. T. Schulberg, M. D. Allendorf, D. A. Outka, Surf. Sci. 1995, 341, 262.
31. F. Loumagne, F. Langlais, R. Naslain, J. Cryst. Growth 1995, 155, 198.
32. S. Jonas, W. S. Ptak, W. Sadowski, E. Walasek, C. Paluszkiewicz, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2357.
33. G. D. Papasouliotis, S. V. Sotirchos, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 3834.
34. V. Hopfe, H. Mosebach, M. Erhard, M. Meyer, J. Mol. Struct. 1995, 347, 331.
35. F. Loumagne, F. Langlais, R. Naslain, S. Schamm, D. Dorignac, J. Saævely, Thin Solid Films 1995, 254, 75.
36. F. Loumagne, F. Langlais, R. Naslain, J. Cryst. Growth 1995, 155, 205.
37. A. Josiek, F. Langlais, J. Cryst. Growth 1996, 160, 253.
38. G. D. Papasouliotis, S. V. Sotirchos, J. Mater. Res. 1999, 14, 3397.
39. G. D. Papasouliotisa, S. V. Sotirchos, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 3908.
40. H. S. Kim, D. J. Choi, Thin Solid Films 1998, 312, 195.
41. G. Emig, N. Popovska, G. Schooh, T. Stumm, Carbon 1998, 36, 407.
42. J. H OH, D. J. Choi, J. Mater. Sci. Lett. 2000, 19, 2043.
43. H. Sone, T. Kaneko, N. Miyakawa, J. Cryst. Growth 2000, 219, 245.
44. Y. J. Lee, D. J. Choi, J. Y. Park, G. W. Hong, J. Mater. Sci. 2000, 35, 4519.
45. Y. D. Xu, L. F. Cheng, L. T. Zhang, J. Mater. Process. Technol. 2000, 101, 47.
46. J. H. Oh, B. J. Oh, D. J. Choi, G. H. Kim, H. S. Song, J. Mater. Sci. 2001, 36, 1695.
47. T. Kaneko, N. Miyakawa, H. Sone, H. Yamazakia, Surf. Coat. Technol. 2001, 142-144, 360.
48. S. F. Nitodas, S. V. Sotirchos, J. Electrochem. Soc. 2002, 149, C112.
49. B. Reznika, D. Gerthsena, W. G. Zhang, K. J. Hüttinger, J. Eur. Ceram. Soc. 2003, 23, 1499.
50. S. H. Mousavipour, V. Saheb, S. Ramezani, J. Phys. Chem. A 2004, 108, 1946.
51. Y. J. Lee, D. J. Choi, S. S. Kim, H. L. Lee, H. D. Kim, Surf. Coat. Technol. 2004, 177-178, 415.
52. R. J. Liu, C. R. Zhang, X. G. Zhou, Y. B. Cao, J. Cryst. Growth 2004, 270, 124.
53. L. M. Ivanova, P. A. Aleksandrov, K. D. Demakov, V. A. Starostin, S. G. Shemardov, Inorg. Mater. 2005, 41, 239.
54. P. Lu, J. H. Edgar, O. J. Glembocki, P. B. Klein, E. R. Glaser, J. Perrin, J. Chaudhuri, J. Cryst. Growth 2005, 285, 506.
55. D. C. Lim, Y. J. Lee, D. J. Choi, Surf. Coat. Technol. 2005, 192, 247.
56. H. Pedersen, S. Leone, A. Henry, V. Darakchieva, E. Janzén, Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 8931.
57. G. D. Papasouliotis, S. V. Sotirchos, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 235.
58. M. Ganz, N. Dorval, M. Lefebvre, M. Péalat, F. Loumagne, F. Langlais, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 1654.
59. J. Mi, R. Johnson, W. Jack Lackeyw, J. Am. Ceram. Soc. 2006, 89, 519.
60. B. P. William, Ph. D. Thesis The Ohio State University 1993.
61. W. G. Zhang, K. J. Hüttinger, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 167.
62. W. G. Zhang, K. J. Hüttinger, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 173.
63. M. D. Allendorf, C. F. Melius, J. Phys. Chem. 1993, 97, 720.
64. T. H. Osterheld, M. D. Allendorf, C. F. Melius, J. Phys. Chem. 1994, 98, 6995.
65. D. Lespiaux, F. Langlais, Thin Solid Films 1995, 265, 40.
66. G. D. Papasouliotis, S. V. Sotirchos, J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1599.
67. A. Josiek, J. Cryst. Growth 1996, 160, 261.
68. Y. Ge, M. S. Gordon, F. Battaglia, R. O. Fox, J. Phys. Chem. A 2007, 111, 1462.
69. Y. Ge, M. S. Gordon, F. Battaglia, R. O. Fox, J. Phys. Chem. A 2007, 111, 1475.
70. F. Christin, R. Naslain, C. Bernard, Proc. of CVD VII Int. Conf, Los Angeles, J. Electrochem. Soc, Pennington N.J 1979, 499.
71. G. S. Fishman, W. T. Petuskey, J. Am. Ceram. Soc. 1985, 68(4), 185.
72. M. W. Chase, NIST-JANAF Thermochemical Tables Forth Edition J. Phys. Chem. Ref. Data Monograph No.9 1998.
73. L. V. Gurvich, I. V. Veyts, C. B. Alcock, Thermodynamic Properties of Individual Substances, Fouth Edition, Hemisphere Pub. Co, New York 1989.
74. The NBS Tables of Chemical Thermodynamic Properties. Selected Values for Inorganic and C1 and C2 Organic Substances in SI Units J. Phys. Chem. Ref. Data, 11, Suppl. 2 1982.
75. J. L. Deng, K. H. Su, X. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, Theor. Chim. Acta 2009, 122, 1.
76. J. L. Deng, K. H. Su, Y. Zeng, X. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, Physica A: 2008, 387, 5440.
77. J. L. Deng, K. H. Su, X. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, Eur. Phys. J. D 2008, 49, 21.
78. X. P. Yao, K. H. Su, J. L. Deng, X. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, Comput. Mater. Sci. 2007, 40, 504;
79. Erratum: J. L. Deng, K. H. Su, X. P. Yao X. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, Comput. Mater. Sci. 2008, 44, 838.
80. Y. Zeng, K. H. Su, J. L. Deng, T. Wang, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, Y. D. Xu, L. T. Zhang, J. Mol. Struct. 2008, 861, 103.
81. Q. F. Zeng, K. H. Su, L. T. Zhang, Phys. Chem. Ref. Data 2006, 35, 1385.
82. T. Wang, K. H. Su, J. L. Deng, Y. Zeng, Q. F. Zeng, L. F. Cheng, L. T. Zhang, J. Theor. Compu. Chem. 2008, 7(6), 1269.
83. P. Rocabois, C. Chatillon, C. Bernard, F. Genet, High Temp. - High Pressures 1995/1996, 27/28, 25.
84. P. Xiao, Y. D. Xu, B. Y. Huang, J. Inorg. Mater. 2002, 17, 877.
85. FactSage 5.4.1, Montreal, Quebec, Canada. 2006.
86. Scientific Group Thermodata Europe (SGTE) data base, BP 166,38402 Saint Martin d'Hères, France.
87. R. Naslain, F. Langlais, R. Feou, J. Physique 1989, 50, C5.
88. M. W. Chase, J. C. A. Davies, J. R. Downey, D. J. Frurip, R. A. McDonald, A. N. Syverud, JANAF Thermochemical Tables. Third Edition J. Phys. Chem. Ref. Data, Vol. 14, Suppl. 1. 1985.
89. Q. F. Zeng, Ph. D. Thesis, Northwestern Polytechnical University, 2001.