-
5
-
-
22544463387
-
-
0013-4651 10.1149/1.1896528.
-
Y. Lou, M. Yin, S. O'Brien, and C. Burda, J. Electrochem. Soc. 0013-4651 10.1149/1.1896528 152, G427 (2005).
-
(2005)
J. Electrochem. Soc.
, vol.152
, pp. 427
-
-
Lou, Y.1
Yin, M.2
O'brien, S.3
Burda, C.4
-
7
-
-
0017910432
-
-
0038-1101 10.1016/0038-1101(78)90113-2.
-
J. Shah, Solid-State Electron. 0038-1101 10.1016/0038-1101(78)90113-2 21, 43 (1978).
-
(1978)
Solid-State Electron.
, vol.21
, pp. 43
-
-
Shah, J.1
-
8
-
-
0345872411
-
-
0003-6951 10.1063/1.1633973.
-
F. Chen, A. N. Cartwright, H. Lu, and W. J. Schaff, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1633973 83, 4984 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 4984
-
-
Chen, F.1
Cartwright, A.N.2
Lu, H.3
Schaff, W.J.4
-
9
-
-
4043096846
-
-
0268-1242 10.1088/0268-1242/19/8/013.
-
D. Zanato, N. Balkan, B. K. Ridley, G. Hill, and W. J. Schaff, Semicond. Sci. Technol. 0268-1242 10.1088/0268-1242/19/8/013 19, 1024 (2004).
-
(2004)
Semicond. Sci. Technol.
, vol.19
, pp. 1024
-
-
Zanato, D.1
Balkan, N.2
Ridley, B.K.3
Hill, G.4
Schaff, W.J.5
-
10
-
-
36049027179
-
-
0947-8396 10.1007/s00339-007-4281-5.
-
M. D. Yang, Y. P. Chen, G. W. Shu, J. L. Shen, S. C. Hung, G. C. Chi, T. Y. Lin, Y. C. Lee, C. T. Chen, and C. H. Ko, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 0947-8396 10.1007/s00339-007-4281-5 90, 123 (2008).
-
(2008)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.90
, pp. 123
-
-
Yang, M.D.1
Chen, Y.P.2
Shu, G.W.3
Shen, J.L.4
Hung, S.C.5
Chi, G.C.6
Lin, T.Y.7
Lee, Y.C.8
Chen, C.T.9
Ko, C.H.10
-
11
-
-
34247249436
-
-
0003-6951 10.1063/1.2722200.
-
K. T. Tsen, J. G. Kiang, D. K. Ferry, H. Lu, W. J. Schaff, H. W. Lin, and S. Gwo, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2722200 90, 152107 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 152107
-
-
Tsen, K.T.1
Kiang, J.G.2
Ferry, D.K.3
Lu, H.4
Schaff, W.J.5
Lin, H.W.6
Gwo, S.7
-
12
-
-
33750589882
-
-
0953-8984 10.1088/0953-8984/18/42/L02.
-
G. W. Shu, P. F. Wu, Y. W. Liu, J. S. Wang, J. L. Shen, T. Y. Lin, P. J. Pong, G. C. Chi, H. J. Chang, Y. F. Chen, and Y. C. Lee, J. Phys.: Condens. Matter 0953-8984 10.1088/0953-8984/18/42/L02 18, L543 (2006).
-
(2006)
J. Phys.: Condens. Matter
, vol.18
, pp. 543
-
-
Shu, G.W.1
Wu, P.F.2
Liu, Y.W.3
Wang, J.S.4
Shen, J.L.5
Lin, T.Y.6
Pong, P.J.7
Chi, G.C.8
Chang, H.J.9
Chen, Y.F.10
Lee, Y.C.11
-
13
-
-
3342931415
-
-
0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2004.05.045.
-
M. Higashiwaki and T. Matsui, J. Cryst. Growth 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2004.05.045 269, 162 (2004).
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.269
, pp. 162
-
-
Higashiwaki, M.1
Matsui, T.2
-
14
-
-
30744433587
-
-
0003-6951 10.1063/1.2163709.
-
K. Wang, J. Simon, N. Goel, and D. Jena, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2163709 88, 022103 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 022103
-
-
Wang, K.1
Simon, J.2
Goel, N.3
Jena, D.4
-
15
-
-
0035878652
-
-
0021-8979 10.1063/1.1379561.
-
B. Jogai, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1379561 90, 699 (2001).
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 699
-
-
Jogai, B.1
-
16
-
-
20844436146
-
-
0003-6951 10.1063/1.1935031.
-
V. M. Naik, R. Naik, D. B. Haddad, J. S. Thakur, G. W. Auner, H. Lu, and W. J. Schaff, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1935031 86, 201913 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 201913
-
-
Naik, V.M.1
Naik, R.2
Haddad, D.B.3
Thakur, J.S.4
Auner, G.W.5
Lu, H.6
Schaff, W.J.7
-
17
-
-
2342565119
-
-
0003-6951 10.1063/1.1704853.
-
J. Wu, W. Walukiewicz, S. X. Li, R. Armitage, J. C. Ho, E. R. Weber, E. E. Haller, H. Lu, W. J. Schaff, A. Barcz, and R. Jakiela, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1704853 84, 2805 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 2805
-
-
Wu, J.1
Walukiewicz, W.2
Li, S.X.3
Armitage, R.4
Ho, J.C.5
Weber, E.R.6
Haller, E.E.7
Lu, H.8
Schaff, W.J.9
Barcz, A.10
Jakiela, R.11
-
18
-
-
0000301752
-
-
0163-1829 10.1103/PhysRevB.23.1909.
-
E. J. Yoffa, Phys. Rev. B 0163-1829 10.1103/PhysRevB.23.1909 23, 1909 (1981).
-
(1981)
Phys. Rev. B
, vol.23
, pp. 1909
-
-
Yoffa, E.J.1
-
19
-
-
0000443509
-
-
0021-8979 10.1063/1.1334642.
-
N. M. Stanton, A. J. Kent, A. V. Akimov, P. Hawker, T. S. Cheng, and C. T. Foxon, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1334642 89, 973 (2001).
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.89
, pp. 973
-
-
Stanton, N.M.1
Kent, A.J.2
Akimov, A.V.3
Hawker, P.4
Cheng, T.S.5
Foxon, C.T.6
|