-
2
-
-
0032620447
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.123746.
-
S. Yoon, Y. Moon, T.-W. Lee, E. Yoon, and Y. D. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.123746 74, 2029 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.74
, pp. 2029
-
-
Yoon, S.1
Moon, Y.2
Lee, T.-W.3
Yoon, E.4
Kim, Y.D.5
-
3
-
-
0037382422
-
-
JCRGAE 0022-0248 10.1016/S0022-0248(02)02371-0.
-
R. Schwertberger, D. Gold, J. P. Reithmaier, and A. Forchel, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 10.1016/S0022-0248(02)02371-0 251, 248 (2003).
-
(2003)
J. Cryst. Growth
, vol.251
, pp. 248
-
-
Schwertberger, R.1
Gold, D.2
Reithmaier, J.P.3
Forchel, A.4
-
4
-
-
4544224590
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1787155.
-
D. Fuster, M. U. González, L. González, Y. González, T. Ben, A. Ponce, S. I. Molina, and J. Martínez-Pastor, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1787155 85, 1424 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 1424
-
-
Fuster, D.1
González, M.U.2
González, L.3
González, Y.4
Ben, T.5
Ponce, A.6
Molina, S.I.7
Martínez-Pastor, J.8
-
5
-
-
0035911467
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1356449.
-
C. Paranthon, N. Bertru, O. Dehaese, A. Le Corre, S. Loualiche, B. Lambert, and G. Patriarche, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1356449 78, 1751 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 1751
-
-
Paranthon, C.1
Bertru, N.2
Dehaese, O.3
Le Corre, A.4
Loualiche, S.5
Lambert, B.6
Patriarche, G.7
-
6
-
-
0842290100
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1640474.
-
Q. Gong, R. Nötzel, P. J. van Veldhoven, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1640474 84, 275 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 275
-
-
Gong, Q.1
Nötzel, R.2
Van Veldhoven, P.J.3
Eijkemans, T.J.4
Wolter, J.H.5
-
7
-
-
22944489896
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1938271.
-
S. Anantathanasarn, R. Nötzel, P. J. van Veldhoven, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1938271 98, 013503 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 013503
-
-
Anantathanasarn, S.1
Nötzel, R.2
Van Veldhoven, P.J.3
Eijkemans, T.J.4
Wolter, J.H.5
-
8
-
-
33846418764
-
-
JCRGAE 0022-0248.
-
S. Anantathanasarn, R. Nötzel, P. J. van Veldhoven, F. W. M. van Otten, T. J. Eijkemans, Y. Barbarin, T. de Vries, E. Smalbrugge, E. J. Geluk, E. A. J. M. Bente, Y. S. Oei, M. K. Smit, and J. H. Wolter, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 298, 553 (2007).
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.298
, pp. 553
-
-
Anantathanasarn, S.1
Nötzel, R.2
Van Veldhoven, P.J.3
Van Otten, F.W.M.4
Eijkemans, T.J.5
Barbarin, Y.6
De Vries, T.7
Smalbrugge, E.8
Geluk, E.J.9
Bente, E.A.J.M.10
Oei, Y.S.11
Smit, M.K.12
Wolter, J.H.13
-
9
-
-
0033357804
-
-
PHYBE3 0921-4526 10.1016/S0921-4526(99)00507-4.
-
R. M. Feenstra, Physica B PHYBE3 0921-4526 10.1016/S0921-4526(99)00507-4 273, 796 (1999).
-
(1999)
Physica B
, vol.273
, pp. 796
-
-
Feenstra, R.M.1
-
10
-
-
79956008217
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1504162.
-
D. M. Bruls, J. W. A. M. Vugs, P. M. Koenraad, H. W. M. Salemink, J. H. Wolter, M. Hopkinson, M. S. Skolnick, F. Long, and S. P. A. Gill, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1504162 81, 1708 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1708
-
-
Bruls, D.M.1
Vugs, J.W.A.M.2
Koenraad, P.M.3
Salemink, H.W.M.4
Wolter, J.H.5
Hopkinson, M.6
Skolnick, M.S.7
Long, F.8
Gill, S.P.A.9
-
11
-
-
34249891049
-
-
JCRGAE 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2007.04.035.
-
N. Sritirawisarn, F. W. M. van Otten, T. J. Eijkemans, and R. Nötzel, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2007.04.035 305, 63 (2007).
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.305
, pp. 63
-
-
Sritirawisarn, N.1
Van Otten, F.W.M.2
Eijkemans, T.J.3
Nötzel, R.4
-
12
-
-
0001624261
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.121396.
-
B. Wang, F. Zhao, Y. Peng, Z. Jin, Y. Li, and S. Liu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.121396 72, 2433 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 2433
-
-
Wang, B.1
Zhao, F.2
Peng, Y.3
Jin, Z.4
Li, Y.5
Liu, S.6
|