-
2
-
-
0036731045
-
-
Okamura, H.; Shogo, T.; Masahiro, T.; Masamitsu, S. J Polym Sci Part A: Polym Chem 2002, 40, 3055-3066.
-
(2002)
J Polym Sci Part A: Polym Chem
, vol.40
, pp. 3055-3066
-
-
Okamura, H.1
Shogo, T.2
Masahiro, T.3
Masamitsu, S.4
-
3
-
-
79956041814
-
-
Halik, M.; Klauk, H.; Zschieschang, U.; Kriem, T.; Schmid, G.; Radlik, W. Appl Phys Lett 2002, 81, 289-291.
-
(2002)
Appl Phys Lett
, vol.81
, pp. 289-291
-
-
Halik, M.1
Klauk, H.2
Zschieschang, U.3
Kriem, T.4
Schmid, G.5
Radlik, W.6
-
4
-
-
18744383136
-
-
Klauk, H.; Halik, M.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Radlik W. J Appl Phys 2002, 92, 5259-5263.
-
(2002)
J Appl Phys
, vol.92
, pp. 5259-5263
-
-
Klauk, H.1
Halik, M.2
Zschieschang, U.3
Schmid, G.4
Radlik, W.5
-
5
-
-
0037016210
-
-
Halik, M.; Klauk, H.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Radlik, W.; Weber, W. Adv Mater (Weinheim, Ger) 2002, 14, 1717-1722.
-
(2002)
Adv Mater (Weinheim, Ger)
, vol.14
, pp. 1717-1722
-
-
Halik, M.1
Klauk, H.2
Zschieschang, U.3
Schmid, G.4
Radlik, W.5
Weber, W.6
-
6
-
-
8444231667
-
-
Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G.; de Leeuw, D. Chem Mater 2004, 16, 4543-4555.
-
(2004)
Chem Mater
, vol.16
, pp. 4543-4555
-
-
Veres, J.1
Ogier, S.2
Lloyd, G.3
de Leeuw, D.4
-
7
-
-
33749533450
-
-
Yoon, M.-H.; Kim, C.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J Am Chem Soc 2006, 128, 12851-12869.
-
Yoon, M.-H.; Kim, C.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J Am Chem Soc 2006, 128, 12851-12869.
-
-
-
-
8
-
-
33745196448
-
-
Hwang, D. K.; Lee, K.; Kim, J. H.; Im, S.; Kim, C. S.; Baik, H. K.; Park, J. H.; Kim, E. Appl Phys Lett 2006, 88, 243513/1-243513/243513.
-
Hwang, D. K.; Lee, K.; Kim, J. H.; Im, S.; Kim, C. S.; Baik, H. K.; Park, J. H.; Kim, E. Appl Phys Lett 2006, 88, 243513/1-243513/243513.
-
-
-
-
9
-
-
33748803011
-
-
Chen, F.-C.; Chuang, C.-S.; Lin, Y.-S.; Kung, L.J.; Chen, T.-H.; Shieh, H.-P. D. Org Electron 2006, 7, 435-439.
-
(2006)
Org Electron
, vol.7
, pp. 435-439
-
-
Chen, F.-C.1
Chuang, C.-S.2
Lin, Y.-S.3
Kung, L.J.4
Chen, T.-H.5
Shieh, H.-P.D.6
-
10
-
-
4344581438
-
-
Fakhruddin, M.; Singh, R.; Poole, K. F.; Kondapi, S. V.; Jagdish N. J Electrochem Soc 2004, 151, G507-G511.
-
(2004)
J Electrochem Soc
, vol.151
-
-
Fakhruddin, M.1
Singh, R.2
Poole, K.F.3
Kondapi, S.V.4
Jagdish, N.5
-
11
-
-
0042026828
-
-
Uemura, S.; Yoshida, M.; Hoshino, S.; Kodzasa, T.; Kamata, T. Thin Solid Films 2003, 438/439, 378-381.
-
(2003)
Thin Solid Films
, vol.438-439
, pp. 378-381
-
-
Uemura, S.1
Yoshida, M.2
Hoshino, S.3
Kodzasa, T.4
Kamata, T.5
-
12
-
-
0037245896
-
-
Knipp, D.; Street, R. A.; Volkel, A.; Ho, J. J Appl Phys 2003, 93, 347-355.
-
(2003)
J Appl Phys
, vol.93
, pp. 347-355
-
-
Knipp, D.1
Street, R.A.2
Volkel, A.3
Ho, J.4
-
13
-
-
0037443016
-
-
Rep, D. B. A.; Morpurgo, A. F.; Sloof, W. G.; Klapwijk, T. M. J Appl Phys 2003, 93, 2082-2090.
-
(2003)
J Appl Phys
, vol.93
, pp. 2082-2090
-
-
Rep, D.B.A.1
Morpurgo, A.F.2
Sloof, W.G.3
Klapwijk, T.M.4
-
14
-
-
33744809815
-
-
Chung, Y. C.; Chiu, Y. H.; Liu, H. J.; Chang, Y. F.; Cheng, C. Y.; Hong, F. C. N. J Vac Sci Technol B: Microelectron Nanometer Struct Process Meas Phenom 2006, 24, 1377-1383.
-
(2006)
J Vac Sci Technol B: Microelectron Nanometer Struct Process Meas Phenom
, vol.24
, pp. 1377-1383
-
-
Chung, Y.C.1
Chiu, Y.H.2
Liu, H.J.3
Chang, Y.F.4
Cheng, C.Y.5
Hong, F.C.N.6
-
15
-
-
0003505854
-
-
Bradley, G, Ed, John Wiley & Sons: Chichester, Chapter 2, pp
-
Dietliker, K. In Photoinitiators for Free Radical Cationic & Anionic Polymerisation, Bradley, G., Ed.; John Wiley & Sons: Chichester, 1998; Vol. 3, Chapter 2, pp 151-188.
-
(1998)
Photoinitiators for Free Radical Cationic & Anionic Polymerisation
, vol.3
, pp. 151-188
-
-
Dietliker, K.1
-
16
-
-
0038646266
-
-
Knipp, D.; Street, R. A.; Volkel, A. R. Appl Phys Lett 2003, 82, 3907-3909.
-
(2003)
Appl Phys Lett
, vol.82
, pp. 3907-3909
-
-
Knipp, D.1
Street, R.A.2
Volkel, A.R.3
-
17
-
-
0032869272
-
-
Bao, Z.; Rogers, J. A.; Katz, H. E. J Mater Chem 1999, 9, 1895-1904.
-
(1999)
J Mater Chem
, vol.9
, pp. 1895-1904
-
-
Bao, Z.1
Rogers, J.A.2
Katz, H.E.3
-
18
-
-
33645505144
-
-
Hwang, D. K.; Park, J. H.; Lee, J.; Choi, J.-M.; Kim, J.-H.; Kim, E.; Im, S. J Electrochem Soc 2006, 153, G23-G26.
-
(2006)
J Electrochem Soc
, vol.153
-
-
Hwang, D.K.1
Park, J.H.2
Lee, J.3
Choi, J.-M.4
Kim, J.-H.5
Kim, E.6
Im, S.7
-
19
-
-
33748270236
-
-
Hwang, D. K.; Lee, K.; Kim, J. H.; Im, S.; Park, J. H.; Kim, E. Appl Phys Lett 2006, 89, 093507/ 093501-093507/093503.
-
Hwang, D. K.; Lee, K.; Kim, J. H.; Im, S.; Park, J. H.; Kim, E. Appl Phys Lett 2006, 89, 093507/ 093501-093507/093503.
-
-
-
-
20
-
-
22944446145
-
-
Yoon, M.-H.; Yan, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J Am Chem Soc 2005, 127, 10388-10395.
-
Yoon, M.-H.; Yan, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J Am Chem Soc 2005, 127, 10388-10395.
-
-
-
-
21
-
-
33751264426
-
-
Park, S. S. Ryu M. K.; Heo, J. H.; Cho, D. H.; Kim, S. H.; Yang, Y. S.; Kim, J. P.; Jang, M. S. Ferroelectrics 2005, 328, 111-115.
-
(2005)
Ferroelectrics
, vol.328
, pp. 111-115
-
-
Park, S.S.1
Ryu, M.K.2
Heo, J.H.3
Cho, D.H.4
Kim, S.H.5
Yang, Y.S.6
Kim, J.P.7
Jang, M.S.8
-
22
-
-
39649104752
-
-
Bao, Z.; Kuck, V.; Rogers, J. A.; Paczkowski, M. A. Adv Funct Mater 2002, 12, 526-531.
-
(2002)
Adv Funct Mater
, vol.12
, pp. 526-531
-
-
Bao, Z.1
Kuck, V.2
Rogers, J.A.3
Paczkowski, M.A.4
|