Annealing effect on the electrical and the optical characteristics of undoped ZnO thin films grown on Si substrates by RF magnetron sputtering

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 4, 2007, Pages 1378-1382

  Lee, Do Kyu ^a   Kim, Sung ^a   Kim, Min Choul ^a   Eom, Sung Hwan ^a   Oh, Hyoung Taek ^a   Choi, Suk Ho ^a  

^a Kyung Hee University   (South Korea)

Author keywords

Annealing; Hall effect; Photoluminescence; Sputtering; X ray diffraction; ZnO films

Indexed keywords

EID: 35648965120     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.1378     Document Type: Article

References (21)

1. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai and H. Morkoc Solid State Commun. 101, 9 (1997).
2. J. Lee, W. Choi, C. Kim, J. Hong, T.-U. Nahm and H. Cheong, J. Korean Phys. Soc. 49, 1126 (2006).
3. R. Navamathavan, J.-H. Lim, D.-K. Hwang, B.-H. Kim, J.-Y. Oh, J.-H. Yang, H.-S. Kim, S.-J. Park and J.-H. Jang, J. Korean Phys. Soc. 48, 271 (2006).
4. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B 80, 383 (2001).
5. D. C. Look, J. W. Hemsky and J. R. Sizelove, Phys. Rev. Lett. 82, 2552 (1999).
6. Gang Xiong, John Wilkinson, Brian Mischuck, S. Tuzemen, K. B. Ucer and R. T. Williams, Appl. Phys. Lett. 80, 1195 (2002).
7. A. Y. Polyakov, N. B. Smirnov, A. V. Govorkov, A. I. Belogorokhov, E. A. Kozhukhova, A. V. Markov, A. Osinsky, J. W. Dong and S. J. Pearton , Appl. Phys. Lett. 90, 132103 (2007)
8. M. Joseph, H. Tabata, H. Saeki, K. Ueda and T. Kawai, Physica B 302/303, 140 (2001).
9. K. Nakahara, H. Takasu, P. Fons, A. Yamada, K. Iwata, K. Matsubara, R. Hunger and S. Niki, Appl. Phys. Lett. 79, 4139 (2001).
10. Z. P. Wei, Y. M. Lu, D. Z. Shen, Z. Z. Zhang, B. Yao, B. H. Li, J. Y. Zhang, D. X. Zhao, X. W. Fan and Z. K. Tang , Appl. Phys. Lett. 90, 042113 (2007).
11. G. Xiong, J. Wilkinson, B. Mischuck, S. Tuzemen, K. B. Ucer and R. T. Williams, Appl. Phys. Lett. 80, 1195 (2002).
12. Y. Ma, G. T. Du, S. R. Yang, Z. T. Li, B. J. Zhao, X. T. Yang, T. P. Yang, Y. T. Zhang and D. L. Liu, J. Appl. Phys. 95, 6268 (2004).
13. M.-S. Oh, S.-H. Kim and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 87, 122103 (2005).
14. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee and B. C. Shin, J. Appl. Phys. 101, 053106 (2007).
15. X. T. Zhang, Y. C. Liu, L. G. Zhang, J. Y. Zhang, Y. M. Lu, D. Z. Shen, W. Xu, G. Z. Zhong, X. W. Fan and X. G. Kong, J. Appl. Phys. 92, 3293 (2002).
16. B. Lin, Z. Fu and Y. Jia, Appl. Phys. Lett. 79, 943 (2001).
17. Z. Z. Zhi, Y. C. Liu, B. S. Li, X. T. Zhang, Y. M. Lu, D. Z. Shen and X. W. Fan, J. Phys. D 36, 719 (2003).
18. T. A. Polley and W. B. Carter, Thin Solid Films 384, 2,(2001).
19. A. Teke, Ü. Özgür, S. Doan, X. Gu, H. Morkoc, B. Nemeth, J. Nause and H. O. Everitt, Phys. Rev. B 70, 195207 (2004).
20. B. K. Meyer, H. Alves, D. M. Hofmann, W. Kriegseis, D. Foster, F. Bertram, J. Christen, A. Hoffmann, M. Strassburg, M. Dworzak, U. Haboeck and A. V. Rodina, Phys. Status Solidi B 241, 231 (2004).
21. H. P. He, H. P. Tang, Z. Z. Ye, L. P. Zhu, B. H. Zhao, L. Wang and X. H. Li, Appl. Phys. Lett. 90, 023104 (2007).