-
1
-
-
0142011538
-
-
Harnack, O.; Pacholski, C.; Weller, H.; Yasuda, A.; Wessels, J. M. Nano Lett. 2003, 3, 1097.
-
(2003)
Nano Lett
, vol.3
, pp. 1097
-
-
Harnack, O.1
Pacholski, C.2
Weller, H.3
Yasuda, A.4
Wessels, J.M.5
-
2
-
-
33748279455
-
-
Cheng, Y.; Xiong, P.; Fields, L.; Zheng, J. P.; Yang, R. S. Wang, Z. L. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 093114.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.89
, pp. 093114
-
-
Cheng, Y.1
Xiong, P.2
Fields, L.3
Zheng, J.P.4
Yang, R.S.5
Wang, Z.L.6
-
3
-
-
33644898897
-
-
Lao, C. S.; Liu, J.; Gao, P.; Zhang, L.; Davidovic, D.; Tummala, R.; Wang, Z. L. Nano Lett. 2006, 6, 263.
-
(2006)
Nano Lett
, vol.6
, pp. 263
-
-
Lao, C.S.1
Liu, J.2
Gao, P.3
Zhang, L.4
Davidovic, D.5
Tummala, R.6
Wang, Z.L.7
-
4
-
-
33847359985
-
-
Xu, C. K.; Chun, J.; Lee, H. J.; Jeong, Y. H.; Han, S. E.; Kim, J. J.; Kim, D. E.; J. Phys. Chem. C 2007, 111, 1180.
-
(2007)
J. Phys. Chem. C
, vol.111
, pp. 1180
-
-
Xu, C.K.1
Chun, J.2
Lee, H.J.3
Jeong, Y.H.4
Han, S.E.5
Kim, J.J.6
Kim, D.E.7
-
5
-
-
17044404206
-
-
Lee, Y. H.; Yoo, J. M.; Park, D.; Kim, D. H.; Ju, B. K. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 033110.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett
, vol.86
, pp. 033110
-
-
Lee, Y.H.1
Yoo, J.M.2
Park, D.3
Kim, D.H.4
Ju, B.K.5
-
6
-
-
1242331522
-
-
Ronning, C.; Gao, P. X.; Ding, Y.; Wang, Z. L. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 783.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett
, vol.84
, pp. 783
-
-
Ronning, C.1
Gao, P.X.2
Ding, Y.3
Wang, Z.L.4
-
9
-
-
33748260366
-
-
Xu, C. K.; Chun, J.; Rho, K.; Lee, H. J.; Jeong, Y. H.; Kim, D. E.; Chon, B.; Hong, S.; Joo, T. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 093117.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.89
, pp. 093117
-
-
Xu, C.K.1
Chun, J.2
Rho, K.3
Lee, H.J.4
Jeong, Y.H.5
Kim, D.E.6
Chon, B.7
Hong, S.8
Joo, T.9
-
10
-
-
79956053751
-
-
Zhao, B.; Monch, I.; Vinzelberg, H.; Muhl, T.; Schneider, C. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3144.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett
, vol.80
, pp. 3144
-
-
Zhao, B.1
Monch, I.2
Vinzelberg, H.3
Muhl, T.4
Schneider, C.M.5
-
11
-
-
17944370353
-
-
Sahoo, S.; Kontos, T.; Schonenberger, C.; Sugers, C. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 112109.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett
, vol.86
, pp. 112109
-
-
Sahoo, S.1
Kontos, T.2
Schonenberger, C.3
Sugers, C.4
-
13
-
-
22944439362
-
-
Dong, L. F.; Chirayos, V.; Bush, J.; Dubin, V. M.; Chebian, R. V.; Ono, Y.; Conley, J. F., Jr.; Vlrich, B. D. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 13148.
-
(2005)
J. Phys. Chem. B
, vol.109
, pp. 13148
-
-
Dong, L.F.1
Chirayos, V.2
Bush, J.3
Dubin, V.M.4
Chebian, R.V.5
Ono, Y.6
Conley Jr., J.F.7
Vlrich, B.D.8
-
14
-
-
33847718674
-
-
Dong, L. F.; Youkey, S.; Bush, J.; Jiao, J.; Dobin, V. M.; Chebiam, R. V. J. Appl. Phys. 2007, 101, 024320.
-
(2007)
J. Appl. Phys
, vol.101
, pp. 024320
-
-
Dong, L.F.1
Youkey, S.2
Bush, J.3
Jiao, J.4
Dobin, V.M.5
Chebiam, R.V.6
-
15
-
-
33846033111
-
-
Huo, H. B.; Dai, L.; Liu, C.; You, L. P.; Yang, W. Q.; Ma, R. M. Nanotechnology 2006, 17, 5912.
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 5912
-
-
Huo, H.B.1
Dai, L.2
Liu, C.3
You, L.P.4
Yang, W.Q.5
Ma, R.M.6
-
16
-
-
29144521458
-
-
Yang, M. H.; Teo, K. B. K.; Milne, W. I.; Hasko, D. G. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 253116.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett
, vol.87
, pp. 253116
-
-
Yang, M.H.1
Teo, K.B.K.2
Milne, W.I.3
Hasko, D.G.4
-
17
-
-
29144440171
-
-
Xu, C. K.; Rho, K.; Chun, J.; Kim, D. E. Nanotechnology 2006, 17, 60.
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 60
-
-
Xu, C.K.1
Rho, K.2
Chun, J.3
Kim, D.E.4
-
18
-
-
33645775456
-
-
Xu, C. K.; Chun, J.; Rho, K.; Kim, D. E.; Kim, B. J.; Yoon, S.; Han, S. E.; Kim, J. J. J. Appl. Phys. 2006, 99, 064312.
-
(2006)
J. Appl. Phys
, vol.99
, pp. 064312
-
-
Xu, C.K.1
Chun, J.2
Rho, K.3
Kim, D.E.4
Kim, B.J.5
Yoon, S.6
Han, S.E.7
Kim, J.J.8
-
19
-
-
0034635396
-
-
Dietl, T.; Ohno, H.; Matsukura, F.; Cibert, J.; Ferrand, D. Science 2000, 287, 1019.
-
(2000)
Science
, vol.287
, pp. 1019
-
-
Dietl, T.1
Ohno, H.2
Matsukura, F.3
Cibert, J.4
Ferrand, D.5
-
20
-
-
33847203592
-
-
Xu, C. K.; Chun, J.; Kim, D. E.; Kim, J. J.; Chon, B.; Hong, S. Joo. T. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 083113.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett
, vol.90
, pp. 083113
-
-
Xu, C.K.1
Chun, J.2
Kim, D.E.3
Kim, J.J.4
Chon, B.5
Hong, S.6
Joo, T.7
-
21
-
-
33846455047
-
-
Salfi, J.; Philipose, U.; Aouba, S.; Nair, S. V.; Ruda, H. E. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 032104.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett
, vol.90
, pp. 032104
-
-
Salfi, J.1
Philipose, U.2
Aouba, S.3
Nair, S.V.4
Ruda, H.E.5
-
22
-
-
33846644090
-
-
Motayed, A.; Vaudin, M.; Davydov, A. V.; Melngailis, J.; He, M.; Mohammad S. N. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 043104.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett
, vol.90
, pp. 043104
-
-
Motayed, A.1
Vaudin, M.2
Davydov, A.V.3
Melngailis, J.4
He, M.5
Mohammad, S.N.6
-
23
-
-
0037011077
-
-
Iliadis, A. A.; Vispute, R. D.; Venkatesan, T.; Jones, K. A. Thin Solid Films 2002, 420-421, 478.
-
(2002)
Thin Solid Films
, vol.420-421
, pp. 478
-
-
Iliadis, A.A.1
Vispute, R.D.2
Venkatesan, T.3
Jones, K.A.4
-
24
-
-
0036779176
-
-
Inompudi, A.; Illiadis, A. A.; Krishnamoorthy, S.; Choopun, S.; Vispute, R. D. Venkatesan, T. Solid State Electron. 2002, 46, 1665.
-
(2002)
Solid State Electron
, vol.46
, pp. 1665
-
-
Inompudi, A.1
Illiadis, A.A.2
Krishnamoorthy, S.3
Choopun, S.4
Vispute, R.D.5
Venkatesan, T.6
-
25
-
-
24144503749
-
-
Fan, Z.; Wen, X.; Yang, S.; Lu, J. G. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 013113.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett
, vol.87
, pp. 013113
-
-
Fan, Z.1
Wen, X.2
Yang, S.3
Lu, J.G.4
-
26
-
-
0037421409
-
-
Zhang, D.; Li, C.; Han, S.; Liu, X.; Tang, T.; Jin, W.; Zhou, C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 112.
-
(2003)
Appl. Phys. Lett
, vol.82
, pp. 112
-
-
Zhang, D.1
Li, C.2
Han, S.3
Liu, X.4
Tang, T.5
Jin, W.6
Zhou, C.7
-
27
-
-
33750169254
-
-
Kim, B. K.; Oh, H.; Jeon, E. K.; Kim, S. R.; Kim, J. R.; Kim, J. J.; Lee, J. O.; Lee, C. J. Appl. Phys. A 2006, 85, 255.
-
(2006)
Appl. Phys. A
, vol.85
, pp. 255
-
-
Kim, B.K.1
Oh, H.2
Jeon, E.K.3
Kim, S.R.4
Kim, J.R.5
Kim, J.J.6
Lee, J.O.7
Lee, C.J.8
-
28
-
-
0942267202
-
-
Ip, K.; Baik, K.; Heo, Y. W.; Norton, D. P.; Pearton, S. J.; Laroche, J. R.; Ren, F.; Zavada, J. M. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 2378.
-
(2003)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.21
, pp. 2378
-
-
Ip, K.1
Baik, K.2
Heo, Y.W.3
Norton, D.P.4
Pearton, S.J.5
Laroche, J.R.6
Ren, F.7
Zavada, J.M.8
-
29
-
-
0037461671
-
-
Arnold, M. S.; Avouris, P.; Pan, Z. W.; Wang, Z. L. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 659.
-
(2003)
J. Phys. Chem. B
, vol.107
, pp. 659
-
-
Arnold, M.S.1
Avouris, P.2
Pan, Z.W.3
Wang, Z.L.4
-
30
-
-
33645500222
-
-
Han, S.; Zhang, D.; Zhou, C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 133109.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.88
, pp. 133109
-
-
Han, S.1
Zhang, D.2
Zhou, C.3
|