Investigation of the p-GaN ohmic contact property by using a synchrotron radiation analysis

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 50, Issue 6, 2007, Pages 1894-1898

  Kim, T H ^a,b   Boo, J H ^b   Joo, M H ^a   Lee, J W ^a   Park, K H ^a   Ha, J S ^a   Jang, J H ^a   Lee, J S ^a   Shin, H J ^c  

^a LG Electronics Inc   (South Korea)

^b Sungkyunkwan University   (South Korea)

^c Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

Contact resistance; ITO; NEXAFS; Ohmic contact; P GaN

Indexed keywords

EID: 34547375937     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.50.1894     Document Type: Article

References (20)

1. S. Nakamura, T. Mukai and M. Senoh, Appl. Phys. Lett. 67, 1868 (1995).
2. S. C Binari, J. M. Redwing, G. Kelner and W. Kruppa, Electron. Lett. 30, 242 (1997).
3. W. Gotz, N. M. Johnson, J. Walker, D. P. Bour and R. A. Street, Appl. Phys. Lett. 68, 667 (1996).
4. H. Ishikawa, S. Kobayashi, Y. Koide, S. Yamasaki, S. Asami, N. Shibata and M. Koike, Appl. Phys. Lett. 69, 3537 (1996).
5. Y. Koide, H. Ishikawa, S. Kobayasi, S. Yamasaki, S. Nagai, J. Umezaki, M. Koike and M. Murakami, J. Appl. Phys. 81, 1315 (1997).
6. T. Kim, M. C Yoo and T. Kim, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 449, 1061 (1997).
7. D. J. King, S. D. Hersee, J. C Ramer and L. Zhang, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 468, 421 (1997).
8. S. Y. Kim, H. W. Jang and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 82, 61 (2003).
9. R. H. Horng, D. S. Wuu, Y. C Lien and W. H. Lan, Appl. Phys. Lett. 79, 2925 (2001).
10. D. W. Kim, Y. J. Sung, J. W. Park and G. Y. Yeom, Thin Solid Films 398-399, 87 (2001).
11. J. F. Lin, M. C Wu, M. J. Jou, C M. Chang, B. J. Lee and T. Y. Tsai, Electron Lett. 30, 1793 (1994).
12. D. R. Kammler, T. O. Mason, D. L. Young and J. T. Coutts, J. Appl. Phys. 90, 3263 (2001).
13. K. M. Chang, J. Y. Chu and C. C. Cheng, Solid-State Electron. 49, 1381 (2005).
14. C. H. Kuo, S. J. Chang, Y. K. Su, R. W. Chuang, C. S. Chang, L. W. Wu, W. C Lai, J. F. Chen, J. K. Sheu, H. M. Lo and J. M. Tsai, Mat. Sci. Eng. B 106, 69 (2004).
15. J. S. Kwak and Y. Park, J. Korean Phys. Soc. 45, 988 (2004).
16. S. W. Chae, J. S. Kwak, S. K. Yoon, M. Y. Kim, J. Song, T. Y. Seong and T. G. Kim, J. Korean Phys. Soc. 49, 899 (2006).
17. Y. Chung, J. C. Lee and H. J. Shin, Appl. Phys. Lett. 86, 022901 (2005).
18. O. Kubaschewski, C B. Alock and P. J. Spencer, Materials Thermochemistry (Pergamon, Oxford, 1993).
19. J. M. Zhao, S. T. Zhang, X. J. Wang, Y. Q. Zhan, X. Z. Wang, G. Y. Zhong, Z. J. Wang, X. M. Ding, W. Huang and X. Y. Hou, Appl. Phys. Lett. 84, 2913 (2004).
20. F. Zhu, B. Low, K. Zhang and S. Chua, Appl. Phys. Lett. 79, 1205 (2001).