Characteristics of atmospheric-pressure, radio-frequency glow discharges operated with argon added ethanol

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 12, 2007, Pages

  Sun, Wen Ting ^a   Li, Guo ^a   Li, He Ping ^a   Bao, Cheng Yu ^a   Wang, Hua Bo ^a,d   Zeng, Shi ^a   Gao, Xing ^b   Luo, Hui Ying ^c  

^a TSINGHUA UNIVERSITY   (China)

^b CAPITAL MEDICAL UNIVERSITY   (China)

^c CHINESE CENTER FOR DISEASE CONTROL AND PREVENTION   (China)

^d Infinova (Shen Zhen) Ltd   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ARGON; ELECTRIC BREAKDOWN; ELECTRODES; ETHANOL; IONIZATION; MIXTURES;

ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE (APGD); METAL ELECTRODES; PLASMA AIDED ETCHING; RADIO FREQUENCY GLOW DISCHARGES;

PLASMAS;

EID: 34547323759     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2748430     Document Type: Article

References (38)

1. A. Schütze, J. Y. Jeong, S. E. Babayan, J. Park, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 1685 (1998).
2. M. Laroussi, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 1188 (1996).
3. N. Puač, Z. L. Petrović, G. Malović, A. orević, S. Živković, Z. Giba, and D. Grubišić , J. Phys. D 39, 3514 (2006).
4. J. Toshifuji, T. Katsumata, H. Takikawa, T. Sakakibara, and I. Shimizu, Surf. Coat. Technol. 171, 302 (2003).
5. T. C. Montie, K. Kelly-Wintenberg, and J. R. Roth, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 41 (2000).
6. M. Moisan, Z. Zakrzewski, R. Etemadi, and J. C. Rostaing, J. Appl. Phys. 83, 5691 (1998).
7. M. Miclea, K. Kunze, U. Heitmann, S. Florek, J. Franzke, and K. Niemax, J. Phys. D 38, 1709 (2005).
8. J. Park, I. Henins, H. W. Herrmann, G. S. Selwyn, J. Y. Jeong, R. F. Hicks, D. Shim, and C. S. Chang, Appl. Phys. Lett. 76, 288 (2000).
9. G. S. Selwyn, H. W. Herrmann, J. Park, and I. Henins, Contrib. Plasma Phys. 41, 610 (2001).
10. J. J. Shi and M. G. Kong, J. Appl. Phys. 97, 023306 (2005).
11. J. J. Shi and M. G. Kong, IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 624 (2005).
12. J. J. Shi and M. G. Kong, Phys. Rev. Lett. 96, 105009 (2006).
13. J. Laimer, S. Haslinger, W. Meissl, J. Hell, and H. Störi, Vacuum 79, 209 (2005).
14. X. Yang, M. Moravej, G. R. Nowling, S. E. Babayan, J. Panelon, J. P. Chang, and R. F. Hicks, Plasma Sources Sci. Technol. 14, 314 (2005).
15. S. Y. Moon, J. K. Rhee, D. B. Kim, and W. Choe, Phys. Plasmas 13, 033502 (2006).
16. J. Y. Jeong, S. E. Babayan, V. J. Tu, J. Park, I. Henins, R. F. Hicks, and G. S. Selwyn, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 282 (1998).
17. J. Y. Jeong, S. E. Babayan, A. Schütze, V. J. Tu, J. Park, I. Henins, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2581 (1999).
18. S. E. Babayan, J. Y. Jeong, V. J. Tu, J. Park, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 286 (1998).
19. S. E. Babayan, J. Y. Jeong, A. Schütze, V. J. Tu, M. Moravej, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 573 (2001).
20. G. R. Nowling, S. E. Babayan, V. Jankovic, and R. F. Hicks, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 97 (2002).
21. H. W. Herrmann, I. Henins, J. Park, and G. S. Selwyn, Phys. Plasmas 6, 2284 (1999).
22. V. J. Tu, J. Y. Jeong, A. Schütze, S. E. Babayan, G. Ding, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2799 (2000).
23. M. Vleugels, G. Shama, X. T. Deng, E. Greenacre, T. Brocklehurst, and M. G. Kong, IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 824 (2005).
24. S. Perni, X. T. Deng, G. Shama, and M. G. Kong, IEEE Trans. Plasma Sci. 34, 1297 (2006).
25. K. A. Svitil, Discover 18, 30 (1997).
26. J. Park, I. Henins, H. W. Herrmann, and G. S. Selwyn, J. Appl. Phys. 89, 15 (2001).
27. J. Park, I. Henins, H. W. Herrmann, G. S. Selwyn, and R. F. Hicks, J. Appl. Phys. 89, 20 (2001).
28. J. J. Shi, X. T. Deng, R. Hall, J. D. Punnett, and M. G. Kong, J. Appl. Phys. 94, 6303 (2003).
29. J. J. Shi and M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 87, 201501 (2005).
30. J. Laimer, S. Haslinger, W. Meissl, J. Hell, and H. Störi, Proceedings of the 17th International Symposium on Plasma Chemistry, Toronto, Canada, 7-12 August 2005, edited by, J. Mostaghimi, T. W. Coyle, V. A. Pershin, and, H. R. Salimi Jazi, pp. 238-239.
31. S. Wang, V. Schulz-von der Gathen, and H. F. Döbele, Appl. Phys. Lett. 83, 3272 (2003).
32. J. Park and I. Henins, U. S. Patent No. US 6909237 B1 (21 June 2005).
33. Y. P. Raizer, M. N. Shneider, and N. A. Yatsenko, Radio-Frequency Capacitive Discharges (CRC, Boca Raton, FL, 1995), pp. 36-43.
34. J. Glosík, J. Pavlík, M. Šícha, and M. Tich, Czech. J. Phys., Sect. B 37, 188 (1987).
35. J. Muoz, M. Pineda, M. Jiḿnez, I. Santiago, and M. D. Calzada, 32nd EPS Conference on Plasma Phys. Tarragona, Spain, 27 June-1 July, 2005, Vol. 29C, P-4.136.
36. S. Y. Moon, W. Choe, and B. K. Kang, Appl. Phys. Lett. 84, 188 (2004).
37. S. Y. Moon and W. Choe, Spectrochim. Acta, Part B 58, 249 (2003).
38. F. Tochikubo, Z. L. Petrović, S. Kakuta, N. Nakano, and T. Makabe, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4271 (1994).