Ion-assisted precursor dissociation and surface diffusion: Enabling rapid, low-temperature growth of carbon nanofibers

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 25, 2007, Pages

  Denysenko, I ^a,b   Ostrikov, K ^a  

^a UNIVERSITY OF SYDNEY   (Australia)

^b V N KARAZIN KHARKIV NATIONAL UNIVERSITY   (Ukraine)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DISSOCIATION; GROWTH (MATERIALS); LOW TEMPERATURE EFFECTS; SURFACE DIFFUSION;

CARBON ADATOMS; HYDROCARBON PRECURSOR; ION-INDUCED DISSOCIATION; PROCESS TEMPERATURES;

CARBON NANOFIBERS;

EID: 34547309850     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2750392     Document Type: Article

References (29)

1. N. Grobert, Mater. Today 10, 28 (2007).
2. S. G. Rao, L. Huang, W. Setyawan, and S. Hong, Nature (London) 425, 36 (2003).
3. M. Keidar, Y. Raitses, A. Knapp, and A. M. Waas, Carbon 44, 1022 (2006).
4. M. Xu, S. Xu, J. W. Chai, J. D. Long, and Y. C. Ee, Appl. Phys. Lett. 89, 251904 (2006).
5. A. V. Melechko, V. I. Merkulov, T. E. McKnight, M. A. Guillorn, K. L. Klein, D. H. Lowndes, and M. L. Simpson, J. Appl. Phys. 97, 041301 (2005).
6. M. Meyyappan, L. Delzeit, A. Cassell, and D. Hash, Plasma Sources Sci. Technol. 12, 205 (2003).
7. J. D. Whittaker, M. Brink, G. A. Husseini, M. R. Linford, and R. C. Davis, Appl. Phys. Lett. 83, 5307 (2003).
8. T. Fujita, Y. Hayashi, T. Tokunaga, and K. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 88, 243118 (2006).
9. E. I. Waldorff, A. M. Waas, P. P. Friedmann, and M. Keidar, J. Appl. Phys. 95, 2749 (2004).
10. V. Ligatchev, Rusli, and Z. Pan, Appl. Phys. Lett. 87, 242903 (2005).
11. S. Hofmann, G. Csanyi, A. C. Ferrari, M. C. Payne, and J. Robertson, Phys. Rev. Lett. 95, 036101 (2005).
12. S. Hofmann, C. Ducati, J. Robertson, and B. Kleinsorge, Appl. Phys. Lett. 83, 135 (2003).
13. M. Keidar, O. R. Monteiro, and I. G. Brown, Appl. Phys. Lett. 76, 3002 (2000).
14. K. B. K. Teo, D. B. Hash, R. G. Lacerda, N. L. Rupesinghe, M. S. Bell, S. H. Dalal, D. Bose, T. R. Govindan, B. A. Cruden, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, M. Meyyappan, and W. I. Milne, Nano Lett. 4, 921 (2004).
15. A. Okita, Y. Suda, A. Ozeki, H. Sugawara, Y. Sakai, A. Oda, and J. Nakamura, J. Appl. Phys. 99, 014302 (2006).
16. S. H. Lim, H. S. Yoon, J. H. Moon, K. C. Park, and J. Jang, Appl. Phys. Lett. 88, 033114 (2006).
17. A. Anders, Appl. Phys. Lett. 80, 1100 (2002).
18. K. Ostrikov, Rev. Mod. Phys. 77, 489 (2005).
19. O. A. Louchev and Y. Sato, Appl. Phys. Lett. 74, 194 (1999);
20. O. A. Louchev, Y. Sato, and H. Kanda, ibid. 80, 2752 (2002).
21. J. C. Charlier, A. DeVita, X. Blase, and R. Car, Science 275, 647 (1997).
22. C. Ducati, I. Alexandrou, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, and J. Robertson, J. Appl. Phys. 92, 3299 (2002).
23. M. Tanemura, K. Iwata, K. Takahashi, Y. Fujimoto, F. Okuyama, H. Sugie, and V. Filip, J. Appl. Phys. 90, 1529 (2001).
24. O. A. Louchev, T. Laude, Y. Sato, and H. Kanda, J. Chem. Phys. 118, 7622 (2003).
25. O. A. Louchev, C. Dussarrat, and Y. Sato, J. Appl. Phys. 86, 1736 (1999).
26. N. V. Mantzaris, E. Gogolides, A. G. Boudouvis, A. Rhallabi, and G. Turban, J. Appl. Phys. 79, 3718 (1996).
27. Y-S. Woo, I.-T. Han, Y.-J. Park, H.-J. Kim, J.-E. Jung, N.-S. Lee, D.-Y. Jean, and J. M. Kim, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 42, 1410 (2003).
28. I. Levchenko, K. Ostrikov, and E. Tam, Appl. Phys. Lett. 89, 223108 (2006).
29. I. Levchenko, K. Ostrikov, M. Keidar, and S. Xu, Appl. Phys. Lett. 89, 033109 (2006).