Low-temperature growth of ZnO thin films by atomic layer deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 50, Issue 6, 2007, Pages 1716-1718

  Kim, E H ^a   Lee, D H ^a   Chung, B H ^a   Kim, H S ^a   Kim, Y ^a   Noh, S J ^a  

^a Dankook University   (South Korea)

Author keywords

ALD; Monolayer; Self limiting; ZnO

Indexed keywords

EID: 34547261106     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.50.1716     Document Type: Article

References (18)

1. Y. Yan, S. B. Zhang and S. T. Pantelides, Phys. Rev. Lett. 86, 5723 (2001).
2. M. Scharrer, X. Wu, A. Yamilov, H. Cao and P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 86, 151113 (2005).
3. C. S. Son, S. M. Kim, Y. H. Kim, S. I. Kim, Y. T. Kim, K. H. Yoon, I. H. Choi and H. C. Lopez, J. Korean Phys. Soc. 45, S685 (2004).
4. R. Ondo-Ndong, F. Pascal-Delannoy, A. Boyer, A. Giani and A. Foucaran, Mater Sci. Eng. B 97, 68 (2003).
5. H. Y. Xu, H. Wang, Y. C. Zhang, S. Wang, M. K. Zhu and H. Yan, Cryst. Res. Technol. 38, 429 (2003).
6. J. H. Lee, K. H. Ko and B. O. Park, J. Cryst. Growth 247, 119 (2003).
7. R. Ayouchi, F. Martin, D. Leinen and J. R. Ramos-Barrado, J. Cryst. Growth 247, 497 (2003).
8. B. J. Lokhande, P. S. Patil and M. D. Upane, Mater. Lett. 57, 573 (2002).
9. J. N. Zeng, J. K. Low, Z. M. Ren, T. Liew and Y. F. Lu, Appl. Surf. Sci. 197, 362 (2002).
10. H. Kim, J. S. Horwitz, S. B. Qadri and D. B. Chrisey, Thin Solid Films 420, 107 (2002).
11. K. Iwata, P. Fons, S. Niki, A. Yamada, K. Matsubara, K. Nakahara, T. Tanabe and H. Takasu, J. Cryst. Growth 215, 50 (2000).
12. J. H. Jo, T. B. Hur, J. S. Kwak, D. Y. Kwon, Y. H. Hwang and H. K. Kim, J. Korean Phys. Soc. 47, S300 (2005).
13. I. H. Choi, J. Korean Phys. Soc. 47, 696 (2005).
14. T. E. Park, D. C. Kim, B. H. Kong and H. K. Cho, J. Korean Phys. Soc. 45, S697 (2004).
15. B. Sang and M. Konagai, Proc. of 25th PVSC (Washington D.C., 1996), p. 1085.
16. H. Kim and P. C. Mcintyre, J. Korean Phys. Soc. 48, 5 (2006).
17. W. Lee, Y. Choi, K. Hong, N. H. Kim, Y. Park and J. Park, J. Korean Phys. Soc. 46, L756 (2005).
18. S. J. Noh, S. K. Lee, E. H. Kim and Y. J. Kong, Curr. Appl. Phys. 6, 171 (2006).