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Volumn 90, Issue 11, 2007, Pages

Excimer laser annealing of silicon nanowires

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HIGH TEMPERATURE PROCESSING; LASER ANNEALING; SILICON NANOWIRES; THERMAL ANNEALING;

EID: 33947316110     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2713774     Document Type: Article
Times cited : (26)

References (15)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.