Deposition of silicon oxide film from tetraethoxysilane using a pulsed dielectric barrier discharge

Czechoslovak Journal of Physics

Volumn 56, Issue SUPPL. 2, 2006, Pages

  Ulejczyk, B ^a   Karpinski L ^a   Scholz, M ^a   Ekwinska M A ^b   Rymuza, Z ^b   Opalinska T ^c   Zukowska E A ^d   Schmidt Szalowski K ^b  

^a SOLTAN INSTITUTE FOR NUCLEAR STUDIES   (Poland)

^b WARSAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Poland)

^c TELE AND RADIO RESEARCH INSTITUTE   (Poland)

^d INDUSTRIAL CHEMISTRY RESEARCH INSTITUTE   (Poland)

Author keywords

Polycarbonates; Pulsed plasma; Silicon oxide; Tetraethoxysilane; Thin films

Indexed keywords

EID: 33750707950     PISSN: 00114626     EISSN: 15729486     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s10582-006-0378-x     Document Type: Conference Paper

References (15)

1. E. Bapin, Ph. R. von Roth: Surf. Coat. Technol. 142-144 (2001) 649.
2. L. Zajičková, V. Buršiková, V. Peřina, A. Macková, D. Subedi, J. Janča, S. Smirnov: Surf. Coat. Technol. 142-144 (2001) 449.
3. C. Vallée, A. Goullet, A. Granier, A. van der Lee, J. Durand, C. Marlière: J. Non-Cryst. Solids 273 (2000) 163.
4. A. M. Wrbel, M. Kryszewski, G. Czeremuszkin: Thin Solid Films 289 (1996) 112.
5. M. R. Yang, K. -S. Chen, S. -T. Hsu, T. -Z. Wu: Surf. Coat. Technol. 123 (2000) 204.
6. M. Shirai, S. Umeda, M. Tsunooka, T. Matsuo: Eur. Polym. J. 9 (1998) 1295.
7. A. Sonnefeld, T. M. Tun, L. Zajičková, K. V. Kozlov, H. -E. Wagner, J. F. Behnke, R. Hippler: Plasmas and Polymers 6 (2001) 2.
8. A. Sonnefeld, T. M. Tun, L. Zajičková, K. V. Kozlov, H. -E. Wagner, J. F. Behnke, R. Hippler: Proc. of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, Orlean, France 2001, 1295.
9. K. Schmidt-Szałowski, Z. Rżanek-Boroch, J. Sentek, Z. Rymuza, Z. Kusznierewicz, M. Misiak: Plasmas and Polymers 5 (2000) 173.
10. Y. Sawada, S. Ogawa, M. Kogoma: J. Phys. D: Appl. Phys. 28 (1995) 1661.
11. T. Opalińska, B. Ulejczyk, L. Karpiński, K. Schmidt-Szalowski: Pol. J. Chem. Technol. 4 (2002) 30.
12. T. Opalińska, B. Ulejczyk, L. Karpiński, K. Schmidt-Szałowski: Polimery 4 (2004) 257.
13. B. Ulejczyk, T. Opalińska, L. Karpiński, K. Schmidt-Szałowski: Acta Agrophysica 80 (2002) 275.
14. B. Ulejczyk, T. Opalińska, L. Karpiński, K. Schmidt-Szałowski: Plasma Processing and Polymers WILEY-VCH (2005), 103.
15. T. Opalińska, B. Ulejczyk, L. Karpiński, K. Schmidt-Szałowski: Proc. of HAKONE 8th International Symposium on High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry, Phajrve, Estonia 2002, 420.