Deposition of thin films based on silica on polycarbonates by pulsed dielectric barrier discharge

Polimery/Polymers

Volumn 49, Issue 4, 2004, Pages

  Opalińska, Teresa ^a   Ulejczyk, Bogdan ^a   Karpiński, Lesław ^b   Schmidt Szałowski, Krzysztof ^c  

^a INDUSTRIAL CHEMISTRY RESEARCH INSTITUTE   (Poland)

^b SOLTAN INSTITUTE FOR NUCLEAR STUDIES   (Poland)

^c WARSAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Poland)

Author keywords

Polycarbonates; Pulsed discharge; Tetraethoxysilane; Thin films

Indexed keywords

COMPOSITION; CONCENTRATION (PROCESS); DEPOSITION; ELECTRIC DISCHARGES; MIXTURES; SILICA; THIN FILMS;

PULSED DISCHARGES; TETRAETHOXYSILANE;

POLYCARBONATES;

EID: 1942440011     PISSN: 00322725     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.14314/polimery.2004.257     Document Type: Article

References (17)

1. Wróbel M., Wertheimer M. R.: "Plasma Deposition, Treatment, and Etching of Polymers" (Ed. d'Agostino R.), Academic Press, San Diego 1990, Chapter 3.
2. Hatanaka Y., Sano K., Aoki T., Wróbel A. M.: Thin Solid Films 2000, 368, 287.
3. Behnisch J., Tyczkowski J., Gazicki M., Pela I., Holländer A., Ledzion R.: Surf. Coat. Technol. 1998, 98, 872.
4. Schmidt-Szałowski K., Rżanek-Boroch Z., Sentek J., Rymuza Z., Kusznierewicz Z., Misiak M.: Plasmas Polym. 2000, 5, 173.
5. Schmidt-Szałowski K., Fabianowska W., Rżanek - Boroch Z., Sentek J.: J. Chem. Vap. Deposition 1998, 6, 183.
6. Opalińska T., Ulejczyk B., Karpiński L., Schmidt-Szałowski K.: Pol. J. Chem Technol. 2002, 4, 30.
7. Vallée C., Goullet A., Granier A., van der Lee A., Durand J., Marliére C.: J. Non-Cryst. Sol. 2000, 272, 163.
8. Bapin E., Rohr R.: Surf. Coat. Technol. 2001, 142-144, 649.
9. Zajičkowá L., Buršikowá V., Peřina V., Macková A., Subedi D., Janča J., Smirnov S.: Surf. Coat. Technol. 2001, 142-144, 449.
10. Miralaï S. F., Czeremuszkin G., Wertheimer M. R.: Proceedings Int. Symp. High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE VII), Greifswald 2000, 33-37.
11. Wróbel M., Walkiewicz-Pietrzykowska A., Wickramanayaka S., Hatanaka Y: J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2866.
12. Delsol R., Raynaud P., Segui Y., Latreche M., Agres L., Mage L.: Thin Solid Films 1996, 289, 170.
13. Shirai M., Umeda S., Tsunooka M., Matsuo T.: Eur. Polym. J. 1998, 9, 1295.
14. Wróbel A. M., Kryszewski M., Czeremuszkin G.: Thin Solid Films 1996, 289, 112.
15. Yang M. R., Chen K. S, Hsu S. T., Wu T. Z.: Surf. Coat. Technol. 2000, 123, 204.
16. Czupryńska J.: Polimery 2002, 47, 8.
17. Ulejczyk B., Opalińska T., Karpiński L., Schmidt-Szałowski K.: Acta Agrophysica 2002, 80, 275.