Coulomb blockade tuned by NO2 molecules in nanostructured silicon

Advanced Materials

Volumn 18, Issue 18, 2006, Pages 2422-2425

  Borini, Stefano ^a   Boarino, Luca ^a   Amato, Giampiero ^a  

^a ISTITUTO NAZIONALE DI RICERCA METROLOGICA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ENERGY GAP; MESOPOROUS MATERIALS; MICROSTRUCTURE; NANOSTRUCTURED MATERIALS; NITROGEN OXIDES; SEMICONDUCTOR QUANTUM DOTS; SILICON;

COLLECTIVE TRANSPORT; MESOPOROUS SILICA; REPULSIVE ENERGY BARRIER; THERMAL ENERGY;

COULOMB BLOCKADE;

EID: 33749351393     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200600198     Document Type: Article

References (27)

1. C. A. Leatherdale, C. R. Kagan, N. Y. Morgan, S. A. Empedocles, M. A. Kastner, M. G. Bawendi, Phys. Rev. B 2000, 62, 2669.
2. C. T. Black, C. B. Murray, R. L. Sandstrom, S. Sun, Science 2000, 290, 1131.
3. C. I. Duruöz, R. M. Clarke, C. M. Marcus, J. S. Harris, Phys. Rev. Lett. 1995, 74, 3237.
4. R. P. Andres, J. D. Bielefeld, J. I. Henderson, D. B. Janes, V. R. Kolagunta, C. P. Kubiak, W. J. Mahoney, R. G. Osifchin, Science 1996, 273, 1690.
5. R. Parthasarathy, X. M. Lin, H. M. Jaeger, Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 186 807.
6. A. G. Cullis, L. T. Canham, P. Calcott, J. Appl. Phys. 1997, 82, 909.
7. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 1046.
8. Y. Nakajima, A. Kojima, N. Koshida, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2472.
9. A. Kojima, N. Koshida, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 22 102.
10. L. Boarino, C. Baratto, F. Geobaldo, G. Amato, E. Comini, A. M. Rossi, G. Faglia, G. Lerondel, G. Sberveglieri, Mater. Sci. Eng. B 2000, 69, 210.
11. M. Chiesa, G. Amato, L. Boarino, E. Garrone, F. Geobaldo, E. Giamello, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 5032.
12. E. Garrone, F. Geobaldo, P. Rivolo, G. Amato, L. Boarino, M. Chiesa, E. Giamello, R. Gobetto, P. Ugliengo, A. Viale, Adv. Mater. 2005, 17, 528.
13. B. Hamilton, J. Jacobs, D. A. Hill, R. F. Pettifer, D. Teehan, L. T. Canham, Nature 1998, 395, 443.
14. F. Geobaldo, P. Rivolo, S. Borini, L. Boarino, G. Amato, M. Chiesa, E. Garrone, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 18 306.
15. M. I. J. Beale, J. D. Benjamin, M. J. Uren, N. G. Chew, A. G. Cullis, J. Cryst. Growth 1985, 73, 622.
16. H. Fan, K. Yang, D. M. Boye, T. Sigmon, K. J. Malloy, H. Xu, G. P. Lopez, C. J. Brinker, Science 2004, 304, 567.
17. R. Parthasarathy, X.-M. Lin, K. Elteto, T. F. Rosenbaum, H. M. Jaeger, Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 76 801.
18. H. E. Romero, M. Drndic, Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 156 801.
19. A. Bezryadin, R. M. Westervelt, M. Tinkham, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 2699.
20. A. N. Aleshin, H. J. Lee, S. H. Jhang, H. S. Kim, K. Akagi, Y. W. Park, Phys. Rev. B 2005, 72, 153 202.
21. A. A. Middleton, N. S. Wingreen, Phys. Rev. Lett. 1993, 71, 3198.
22. A. J. Rimberg, T. R. Ho, J. Clarke, Phys. Rev. Lett. 1995, 74, 4714.
23. H. Münder, M. G. Berger, S. Frohnhoff, M. Thonissen, H. Luth, J. Lumin. 1993, 57, 5.
24. A. Grosman, C. Ortega, J. Siejka, M. Chamarro, J. Appl. Phys. 1993, 74, 1992.
25. M. G. Ancona, W. Kruppa, R. W. Rendell, A. W. Snow, D. Park, J. B. Boos, Phys. Rev. B 2001, 64, 33 408.
26. Z. Gaburro, P. Bettotti, M. Saiani, L. Pavesi, L. Pancheri, C. J. Oton, N. Capuji, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 555.
27. S. Billat, M. Thonissen, R. ArensFischer, M. G. Berger, M. Kruger, H. Luth, Thin Solid Films 1997, 297, 22.