Charge storage model for hysteretic negative-differential resistance in metal-molecule-metal junctions

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 17, 2006, Pages

  Kiehl, Richard A ^a   Le, John D ^a   Candra, Panglijen ^a   Hoye, Rebecca C ^b   Hoye, Thomas R ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

^b MACALESTER COLLEGE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE STORAGE MODELS; ELECTRONIC BEHAVIORS; METAL-MOLECULE-METAL JUNCTIONS; NEGATIVE-DIFFERENTIAL RESISTANCE (NDR);

ELECTRIC CURRENTS; ELECTRIC RESISTANCE; ELECTRON TUNNELING; GOLD; HYSTERESIS; MATHEMATICAL MODELS; MERCURY (METAL); MOLECULAR STRUCTURE; OXIDATION; REDUCTION; VOLTAGE CONTROL;

ALCOHOLS;

EID: 33646432804     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2195696     Document Type: Article

References (16)

1. R. E. Holmlin, R. Haag, M. L. Chabinyc, R. F. Ismagilov, A. E. Cohen, A. Terfort, M. A. Rampi, and G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 123, 5075 (2001).
2. J. Chen, M. A. Reed, A. M. Rawlett, and J. M. Tour, Science 286, 1550 (1999).
3. I. Kratochvilova, M. Kocirik, A. Zambova, J. Mbindyo, T. E. Mallouk, and T. S. Mayer, J. Mater. Chem. 12, 2927 (2002).
4. I. Amlani, A. M. Rawlett, L. A. Nagahara, and R. K. Tsui, Appl. Phys. Lett. 80, 2761 (2002).
5. A. M. Rawlett, T. J. Hopson, L. A. Nagahara, R. K. Tsui, G. K. Ramachandran, and S. M. Lindsay, Appl. Phys. Lett. 81, 3043 (2002).
6. J. D. Le, Y. He, T. R. Hoye, C. C. Mead, and R. A. Kiehl, Appl. Phys. Lett. 83, 5518 (2003).
7. X. Y. Xiao, L. A. Nagahara, A. M. Rawlett, and N. J. Tao, J. Am. Chem. Soc. 127, 9235 (2005).
8. F. R. F. Fan, R. Y. Lai, J. Cornil, Y. Karzazi, J. L. Bredas, L. T. Cai, L. Cheng, Y. X. Yao, D. W. Price, S. M. Dirk, J. M. Tour, and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc. 126, 2568 (2004).
9. A. Salomon, R. Arad-Yellin, A. Shanzer, A. Karton, and D. Cahen, J. Am. Chem. Soc. 126, 11648 (2004).
10. C. B. Gorman, R. L. Carroll, and R. R. Fuierer, Langmuir 17, 6923 (2001).
11. N. P. Guisinger, M. E. Greene, R. Basu, A. S. Baluch, and M. C. Hersam, Nano Lett. 4, 55 (2004).
12. J. He and S. M. Lindsay, J. Am. Chem. Soc. 127, 11932 (2005).
13. R. McCreery, J. Dieringer, A. O. Solak, B. Snyder, A. M. Nowak, W. R. McGovern, and S. DuVall, J. Am. Chem. Soc. 125, 10748 (2003).
14. A. M. Nowak and R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc. 126, 16621 (2004).
15. C. A. Richter, D. R. Stewart, D. A. A. Ohlberg, and R. S. Williams, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 80, 1355 (2005).
16. L. O. Chua, Proc. IEEE 91, 1830 (2003).