Precipitation of amorphous ferromagnetic semiconductor phase in epitaxially grown Mn-doped Ge thin films

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters

Volumn 44, Issue 46-49, 2005, Pages

  Sugahara, Satoshi ^a,b   Lee, Kok Leong ^a   Yada, Shinsuke ^a   Tanaka, Masaaki ^a,b  

^a UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

^b JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

Author keywords

Ferromagnetic semiconductor; Germanium; Magnetic circular dichroism; Magnetism; Manganese; Molecular beam epitaxy; Spintronics

Indexed keywords

DOPING (ADDITIVES); EPITAXIAL GROWTH; FERROMAGNETIC MATERIALS; GERMANIUM; MANGANESE; SEMICONDUCTOR DEVICES; THIN FILMS;

FERROMAGNETIC SEMICONDUCTOR; MAGNETIC CIRCULAR DICHROISM; SEMICONDUCTOR BEHAVIOR; SPINTRONICS;

AMORPHOUS ALLOYS;

EID: 31844431595     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.44.L1426     Document Type: Article

References (29)

1. H. Munekata, H. Ohno, S. von Molnar, A. Segmuller, L. L. Chang and L. Esaki: Phys. Rev. Lett. 63 (1989) 1849.
2. H. Ohno, A. Shen, F. Matsukura, A. Oiwa, A. Endo, S. Katsumoto and Y. lye: Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 363.
3. T. Dietl and H. Ohno: MRS Bull. 28 (2003) 714.
4. M. Tanaka: J. Cryst. Growth 278 (2005) 25.
5. H. Ohno, D. Chiba, F. Matsukura, T. Omiya, E. Abe, T. Dietl, Y. Ohno and K. Ohtani; Nature 408 (2000) 944.
6. D. Chiba, M. Yamanouchi, F. Matsukura and H. Ohno: Science 301 (2003) 943.
7. J. Fabian and I. Zutic: Phys. Rev. B 69 (2004) 115314.
8. M. E. Flatte, Z. G. Yu, E. Johnston-Halperin and D. D. Awschalom: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 4740.
9. S. Sugahara and M. Tanaka: J. Appl. Phys. 97 (2005) 10D503.
10. D. L. Harama, S. J. Koester, G. Freeman, P. Cottrel, K. Rim, G. Dehlinger, D. Ahlgren, J. S. Dunn, D. Greenberg, A. Joseph, F. Anderson, J.-S. Rieh, S. A. S. T. Onge, D. Coolbaugh, V. Ramachandran, J. D. Cressler and S. Subbanna: Appl. Surf. Sci. 224 (2004) 9.
11. M. L. Lee, E. A. Fitzgerald, M. T. Bulsara, M. T. Currie and A. Lochtefeld: J. Appl. Phys. 97 (2005) 011101.
12. T. Maeda, K. Ikeda, S. Nakaharai, T. Tezuka, Y. Moriyama, N. Sugiyama, Y. Moriyama and S. Takagi: IEEE Electron Device Lett. 26 (2005) 102.
13. Y. D. Park, A. T. Hanbicki, S. C. Erwin, C. S. Hellberg, J. M. Sullivan, J. E. Mattson, T. F. Ambrose, A. Wilson, G. Spanos and B. T. Jonker: Science 295 (2002) 651.
14. F. D'Orazio, F. Lucari, M. Passacantando, P. Picozzi, S. Santucci and A. Verna: IEEE Trans. Mag. 38 (2002) 2856.
15. S. Cho, S. Choi, S. C. Hong, Y. Kim, J. B. Ketterson, B.-J. Kim, Y. C. Kim and J.-H. Jung: Phys. Rev. B 66 (2002) 033303.
16. F. D'Orazio, F. Lucari, S. Santucci. P. Picozzi, A. Verna, M. Passacantando, N. Pinto, L. Morresi, R. Gunnella and R. Murri: J. Magn. Magn. Mater. 262 (2003) 158.
17. K. Araki, K. Sato and H. Katayama-Yoshida: 63rd Autumn Meeting, The Japan Society of Applied Physics, Niigata, 2002, 26p-ZA-3.
18. K. Araki, M. Shirai, K. Sato and H. Katayama-Yoshida: 50th Spring Meeting, The Japan Society of Applied Physics, Yokohama, 2003, 29a-ZH-2.
19. A. Stroppa, S. Picozzi, A. Continenza and A. J. Freeman: Phys. Rev. B 68 (2003) 155203.
20. H. Weng and J. Dong: Phys. Rev. B 71 (2005) 035201.
21. A. P. Li, J. Shen, J. R. Thompson and H. H. Weitering: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 152507.
22. J.-S. Kang, G. Kim, S. C. Wi, S. S. Lee, S. Choi, S. Cho, S. W. Han, K. H. Kim, H. J. Song, H. J. Shin, A. Sekiyama, S. Kasai, S. Suga and B. I. Min: Phys. Rev. Lett. 94 (2005) 147202.
23. S. Picozzi, L. Ottaviano, M. Passacantando. G. Profeta. A. Continenza, F. Priolo, M. Kim and A. J. Freeman: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 062501.
24. K. Ando: in Magneto-Optics, Springer Series in Solid-State Science, eds. S. Sugano and N. Kojima (Springer, Berlin, 2000) Vol. 128, p. 211.
25. K. Ando, T. Hayashi, M. Tanaka and A. Twardowski: J. Appl. Phys. 83 (1998) 6548.
26. S. Ohya, H. Kobayashi and M. Tanaka: Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2175.
27. K. Ando: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 100.
28. H. Saitoh, V. Zayets, S. Yamagata and K. Ando: Phys. Rev. Lett. 90 (2003) 207202.
29. in preparation for publication.