Controlling hole-transport in aluminum tris (8-hydroxyquinoline), Alq 3-based organic light emitting diodes to improve the device lifetime by an oxidized transport layer

Journal of Applied Physics

Volumn 95, Issue 12, 2004, Pages 8240-8245

  Mathai, Mathew K ^a   Papadimitrakopoulos, Fotios ^a   Hsieh, Bing R ^b  

^a UNIVERSITY OF CONNECTICUT   (United States)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON TRANSPORT LAYERS (ETL); HOLE TRANSPORT LAYERS (HTL); ORGANIC LIGHT EMITTING DIODES (OLED); OXIDIZED TRANSPORT LAYERS (OTL);

ALUMINUM COMPOUNDS; CARRIER CONCENTRATION; CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; DEGRADATION; ELECTRON MOBILITY; HOLE MOBILITY; MOLECULAR WEIGHT; MULTILAYERS; OXIDATION; RESISTORS;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 3142722042     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1728289     Document Type: Article

References (38)

1. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. A. Tullo, Chemical and Engineering News (American Chemical Society, Washington, D.C., 2001), Vol. 79, pp. 49-54.
3. J. McElvian, H. Antoniadis, M. R. Hueschen, J. N. Miller, D. M. Roitman, J. R. Sheats, and R. L. Moon, J. Appl. Phys. 80, 6002 (1996).
4. S. T. Lee, Z. Q. Gao, and L. S. Hung, Appl. Phys. Lett. 75, 1404 (1999).
5. M. Fujihira, L.-M. Do, A. Koike, and E.-M. Han, Appl. Phys. Lett. 68, 1787 (1996).
6. L. S. Liao, J. He, X. Zhou, M. Lu, Z. H. Xiong, Z. B. Deng, X. Y. Hou, and S. T. Lee, J. Appl. Phys. 88, 2386 (2000).
7. H. Aziz, Z. Popovic, S. Xie, A.-M. Hor, N.-X. Hu, C. Tripp, and G. Xu, Appl. Phys. Lett. 72, 756 (1998).
8. Y. Shirota, K. Okumoto, and H. Inada, Synth. Met. 111-112, 387 (2000).
9. S. A. Van Slyke, C. H. Chen, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 69, 2160 (1996).
10. L. F. Cheng, L. S. Liao, W. Y. Lai, X. H. Sun, N. B. Wong, C. S. Lee, and S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 319, 418 (2000).
11. A. Bohler, S. Dirr, H. H. Johannes, D. Ammermann, and W. Kowalsky, Synth. Met. 91, 95 (1997).
12. P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, L. S. Sapochak, D. M. McCarty, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 65, 2922 (1994).
13. H. Aziz, Z. D. Popovic, N.-X. Hu, A.-M. Hor, and G. Xu, Science 283, 1900 (1999).
14. F. Papadimitrakopoulos, X. M. Zhang, D. L. Thomsen III, and K. A. Higginson, Chem. Mater. 8, 1363 (1996).
15. D. Y. Kondakov, J. R. Sandifer, C. W. Tang, and R. H. Young, J. Appl. Phys. 93, 1108 (2003).
16. C. Giebeler, H. Antoniadis, D. D. C. Bradley, and Y. Shirota, J. Appl. Phys. 85, 608 (1999).
17. C. Adachi, K. Nagai, and N. Tamoto, Appl. Phys. Lett. 66, 2679 (1995).
18. Z. D. Popovic, H. Aziz, C. P. Tripp, N.-X. Hu, A.-M. Hor, and G. Xu, Proc. SPIE 3476, 68 (1998).
19. H. Aziz and Z. D. Popovic, Appl. Phys. Lett. 80, 2180 (2002).
20. Z. Y. Xie, L. S. Hung, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 1048 (2001).
21. Y. Hamada, T. Sano, K. Shibata, and K. Kuroki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L824 (1995).
22. A. Yamamori, C. Adachi, T. Koyama, and Y. Taniguchi, Appl. Phys. Lett. 72, 2147 (1998).
23. B. R. Hsieh, Xerox Corporation, 1998, US Patent 5,853,906.
24. B. R. Hsieh, Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc. Div. Polym. Chem.) 43, 452 (2002).
25. Y. Shen, K. Diest, M. H. Wong, B. R. Hsieh, D. H. Dunlap, and G. G. Malliaras, Phys. Rev. B 68, 081204(1) (2003).
26. C. Ganzorig and M. Fujihira, Appl. Phys. Lett. 77, 4211 (2000).
27. P. Piromreun, H. Oh, Y. Shen, G. G. Malliaras, J. Campbell, and P. J. Brock, Appl. Phys. Lett. 77, 2403 (2000).
28. B. R. Hsieh, Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc. Div. Polym. Chem.) 43, 452 (2002).
29. P. E. Burrows, Z. Shen, V. Bulovic, D. M. McCarty, S. R. Forrest, J. A. Cronin, and M. E. Thompson, J. Appl. Phys. 79, 7991 (1996).
30. M. Hiramoto, K. Koyama, K. Nakayama, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 76, 1336 (2000).
31. F. Rohlfing and T. Yamada, J. Appl. Phys. 86, 4978 (1999).
32. M. Stößel, J. Staudigel, F. Steuber, J. Blässing, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. Lett. 76, 115 (2000).
33. G. G. Malliaras and J. C. Scott, J. Appl. Phys. 83, 5399 (1998).
34. C. W. Tang, S. A. VanSlyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
35. R. G. Kepler, P. M. Beeson, S. J. Jacobs, R. A. Anderson, M. B. Sinclair, V. S. Valencia, and P. A. Cahill, Appl. Phys. Lett. 66, 3618 (1995).
36. R. H. Young, C. W. Tang, and A. P. Marchetti, Appl. Phys. Lett. 80, 874 (2002).
37. A. G. Muckl, S. Berleb, W. Bruiting, and M. Schwoerer, Synth. Met. 111-112, 91 (2000).
38. S. Barth, P. Muller, H. Riel, P, F. Seidler, W. Riess, H. Vestweber, and H. Bassler, J. Appl. Phys. 89, 3711 (2001).