Changes in surface roughness and work function of indium-tin-oxide due to KrF excimer laser irradiation

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 23, Issue 5, 2005, Pages 1305-1308

  Lin, Yow Jon ^a   Baikie, Iain D ^b   Chou, Wei Yang ^c   Lin, Shih Ting ^c   Chang, Hsing Cheng ^d   Chen, Yao Ming ^d   Liu, Wen Fung ^d  

^a NATIONAL CHANGHUA UNIVERSITY OF EDUCATION   (Taiwan)

^b KP TECHNOLOGY LTD   (United Kingdom)

^c NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^d FENG CHIA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EXCIMER LASERS; SURFACE ROUGHNESS;

KELVIN PROBE MEASUREMENT; SURFACE WORK FUNCTION (SWF);

INDIUM COMPOUNDS;

EID: 31144431784     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1953670     Document Type: Article

References (20)

1. L. Zuppiroli, L. Si-Ahmed, K. Kamaras, F. Nuesch, M. N. Bussac, D. Ades, A. Siove, E. Moons, and M. Grätzel, Eur. Phys. J. B 11, 505 (1999).
2. J. S. Kim, B. Lägel, E. Moons, N. Johansson, I. D. Baikie, W. R. Salaneck, R. H. Friend, and F. Cacialli, Synth. Met. 111/112, 311 (2000).
3. E. Moons, A. Goossens, and T. Savenije, J. Phys. Chem. B 101, 8492 (1997).
4. J. Shinar, Organic Light-Emitting Devices (Springer, Berlin, 2003).
5. S. Y. Kim, H. W. Jang, and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 82, 61 (2003).
6. Y. C. Lin, S. J. Chang, Y. K. Su, C. S. Chang, S. C. Shei, J. C. Ke, H. M. Lo, S. C. Chen, and C. W. Kuo, Solid-State Electron. 47, 1565 (2003).
7. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Strum, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
8. M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong, and M. Wang, J. Appl. Phys. 86, 1688 (1999).
9. K. H. Lee, H. W. Jang, K. B. Kim, Y. H. Tak, and J. L. Lee, J. Appl. Phys. 95, 586 (2004).
10. A. L. Swint and P. W. Bohn, Appl. Phys. Lett. 84, 61 (2004).
11. D. J. Milliron, I. G. Hill, C. Shen, A. Kahn, and J. Schwartz, J. Appl. Phys. 87, 572 (2000).
12. F. Nuesch, L. J. Rothberg, E. W. Forsythe, Q. T. Le, and Y. Gao, Appl. Phys. Lett. 74, 880 (1999).
13. I. M. Chan, W. C. Cheng, and F. C. Hong, Appl. Phys. Lett. 80, 13 (2002).
14. K. B. Kim, Y. H. Tak, Y. S. Han, K. H. Baik, M. H. Yoon, and M. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 42, L438 (2002).
15. H. Kim, A. Piqú, J. S. Horwitz, H. Mattoussi, H. Murata, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 74, 3444 (1999).
16. N. G. Park, M. Y. Kwak, B. O. Kim, O. K. Kwon, Y. K. Kim, B. You, T. W. Kim, and Y. S. Kim, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 3, 1523 (2002).
17. P. J. Hartlieb, A. Roskowski, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 91, 9151 (2002).
18. J. F. Moulder, W. F. Strickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy (Perkin-Elmer, Eden Prairie, MN, 1992).
19. W. Ranke and H. J. Kuhr, Phys. Rev. B 39, 1595 (1989).
20. J. G. Choi and L. T. Thompson, Appl. Surf. Sci. 93, 143 (1996).