Surface oxidation activates indium tin oxide for hole injection

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 1, 2000, Pages 572-576

  Milliron, D J ^a   Hill, I G ^b   Shen, C ^b   Kahn, A ^b   Schwartz, J ^a  

^a PRINCETON UNIVERSITY   (United States)

^b Princeton University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001600108     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371901     Document Type: Article

References (23)

1. F. Cacialli, J. Appl. Phys. 84, 6859 (1999).
2. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
3. I. D. Parker, J. Appl. Phys. 75, 1656 (1994).
4. Y. Yang, E. Westerweele, C. Zhang, P. Smith, and A. J. Heeger, J. Appl. Phys. 77, 694 (1995).
5. I. G. Hill and A. Kahn, J. Appl. Phys. 84, 5583 (1998).
6. I. G. Hill and A. Kahn, J. Appl. Phys. 86, 2116 (1999).
7. I. H. Campbell, S. Rubin, T. A. Zawodzinski, J. D. Kress, R. L. Martin, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Phys. Rev. B 54, R14321 (1996).
8. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
9. J. S. Kim, M. Granström, R. H. Friend, N. Johansson, W. R. Salaneck, R. Daik, W. J. Feast, and F. Cacialli, J. Appl. Phys. 84, 6859 (1998).
10. M. Stössel et al., Chem. Phys. 1, 1791 (1999).
11. F. Steuber, J. Staudigel, M. Stössel, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. Lett. 74, 3558 (1999).
12. I. G. Hill, A. Rajagopal, Y. Hu, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 73, 662 (1998).
13. T. Ishida, H. Kobayashi, and Y. Nakato, J. Appl. Phys. 73, 4344 (1993).
14. G. Lu, J. Schwartz, and S. L. Bernasek (unpublished results).
15. H. Öfner, J. Kraft, R. Hofmann, S. L. Surnev, F. P. Netzer, J. J. Paggel, and K. Horn, Surf. Sci. 316, 112 (1994).
16. 2 a minimum estimate. See, S. K. Van der Kam, E. S. Gawalt, J. Schwartz, and A. B. Bocarsly, Langmuir 15, 6598 (1999).
17. P. B. Smith, S. L. Bernasek, J. Schwartz, and G. S. McNulty, J. Am. Chem. Soc. 108, 5654 (1986).
18. T. A. Sasaki, Y. Baba, H. Yamamoto, M. Sasase, and S. Isobe, Surf. Interface Anal. 20, 682 (1993).
19. A. G. Davies, Organotin Chemistry (VCH, New York, 1997), Chap. 9.
20. D. Brandes and A. Blaschette, J. Organomet. Chem. 78, 1 (1974).
21. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994).
22. T. Osada, T. Kugler, P. Bröms, and W. R. Salaneck, Synth. Met. 96, 77 (1998).
23. F. Nüesch, K. Kamarás, and L. Zuppiroli, Chem. Phys. Lett. 283, 194 (1998).