Ultra small self-organized nitride nanotips

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 23, Issue 6, 2005, Pages 2496-2498

  Ji, L W ^a   Fang, T H ^a   Hung, S C ^b   Su, Y K ^b   Chang, S J ^b   Chuang, R W ^b  

^a NATIONAL FORMOSA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; INDIUM COMPOUNDS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; NANOTECHNOLOGY; QUANTUM THEORY; SELF ASSEMBLY;

LOCAL DENSITY; LOCALIZATION EFFECTS; NANOTIPS; NEAR-FIELD MICROSCOPY;

NITRIDES;

EID: 29044433097     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2131083     Document Type: Article

References (23)

1. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, J. Appl. Phys. 76, 8189 (1994).
2. F. A. Ponce and D. P. Bour, Nature (London) 386, 351 (1997).
3. I. Akasaki and H. Amano, J. Cryst. Growth 175/176, 29 (1997).
4. S. Nakamura, Science 281, 956 (1998).
5. S. Khalfallah, C. Gorecki, J. Podlecku, M. Nishioka, H. Kawakatsu, and Y. Arakawa, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 71, 223 (2000).
6. Y. Terada, H. Yoshida, T. Urushido, H. Miyake, and K. Hiramatsu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 41, L1194 (2002).
7. S. Muthukumar, H. Sheng, J. Zhong, N. W. Emanetoglu, and Y. Lu, Nanotechnology 2, 50 (2003).
8. W. Han, S. Fan, Q. Li, and Y. Hu, Science 277, 1287 (1997).
9. W. Han, P. Redlich, F. Ernst, and M. Rühle, Appl. Phys. Lett. 76, 652 (2000).
10. H. Yoshida, T. Urushido, H. Miyake, and K. Hiramatsu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 40, L1301 (2001).
11. C. C. Tang, S. S. Fang, H. Y. Dang, P. Li, and Y. M. Liu, Appl. Phys. Lett. 77, 1961 (2000).
12. S. Y. Bae, H. W. Seo, J. Park, H. Kim, and S. Kim, Appl. Phys. Lett. 82, 4564 (2003).
13. L. W. Tu, C. L. Hsiao, T. W. Chi, and I. Lo, Appl. Phys. Lett. 82, 1601 (2003).
14. S. J. Chang, M. L. Lee, J. K. Sheu, W. C. Lai, Y. K. Su, C. S. Chang, C. J. Kao, G. C. Chi, and J. M. Tsai, IEEE Electron Device Lett. 24, 212 (2003).
15. S. J. Chang, C. H. Kuo, Y. K. Su, L. W. Wu, J. K. Sheu, T. C. Wen, W. C. Lai, J. F. Chen, and J. M. Tsai, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 8, 744 (2002).
16. S. J. Chang, W. C. Lai, Y. K. Su, J. F. Chen, C. H. Liu, and U. H. Liaw, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 8, 278 (2002).
17. W. C. Lai, S. J. Chang, M. Yokoyama, J. K. Sheu, and J. F. Chen, IEEE Photonics Technol. Lett. 13, 559 (2001).
18. S. Tanaka, S. Iwai, and Y. Aoyagi, Appl. Phys. Lett. 69, 4096 (1996).
19. K. Tachibana, T. Someya, and Y. Arakawa, Appl. Phys. Lett. 74, 383 (1999).
20. C. Adelmann, J. Simon, G. Feuillet, N. T. Pelekanos, and B. Daudin, Appl. Phys. Lett. 76, 1570 (2000).
21. L. W. Ji, Y. K. Su, S. J. Chang, L. W. Wu, T. H. Fang, J. F. Chen, T. Y. Tsai, Q. K. Xue, and S. C. Chen, J. Cryst. Growth 249, 144 (2003).
22. N. Moll, M. Scheffler, and E. Pehlke, Phys. Rev. B 58, 4566 (1998).
23. V. A. Shchukin, D. Bimberg, T. P. Munt, and D. E. Jesson, Phys. Rev. Lett. 90, 076102 (2003).