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Volumn 65, Issue 11, 2002, Pages 1153061-1153064

Kinetic instabilities during plasma etching of GaAs(001)

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ARSENIC DERIVATIVE; GALLIUM;

EID: 2442467444     PISSN: 01631829     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
Times cited : (10)

References (30)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.