Perfecting imperfect "monolayers": Removal of siloxane multilayers by CO 2 snow treatment

Langmuir

Volumn 21, Issue 11, 2005, Pages 4782-4785

  Chow, Brian Y ^a   Mosley, David W ^a   Jacobson, Joseph M ^a  

^a MIT MEDIA LAB   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MOMENTUM TRANSFER; MONOLAYER FILMS; SILICON OXIDE; SNOW TREATMENT;

ANNEALING; CARBON DIOXIDE; FOURIER TRANSFORMS; HYDROLYSIS; MULTILAYERS; SILANES; SILICON COMPOUNDS;

SELF ASSEMBLY;

EID: 20444373702     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la050144x     Document Type: Article

References (41)

1. Xia, Y.; Mrksich, M.; Kim, E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9576-9577.
2. Sullivan, T. P.; Huck, W. T. S. Eur. J. Org. Chem. 2003, 1, 17-29.
3. Kim, N. Y.; Jeon, N. L.; Choi, I. S.; Takami, S.; Harada, Y.; Finnie, K. R.; Girolami, G. S.; Nuzzo, R. G.; Whitesides, G. M.; Laibinis, P. E. Macromolecules 2000, 33, 2793-2795.
4. Diaz-Quijada, G. A.; Wayner, D. D. M. Langmuir 2004,20, 9607-9611.
5. Mooney, J. F.; Hunt, A. J.; McIntosh, J. R.; Liberko, C. A.; Walba, D. M.; Rogers, C. T. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 1996, 93, 12287-12291.
6. Voicu, R.; Boukherroub, R.; Barzoka, V.; Ward, T.; Wojtyk, J. T. C.; Wayner, D. D. M. Langmuir 2004, 20, 11713-11720.
7. Jonas, U.; del Campo, A.; Krüger, C.; Glasser, G.; Boos, D. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2002, 99, 5034-5039.
8. Tillman, N.; Ulman, A.; Penner, T. L. Langmuir 1989, 5, 101-111.
9. Carraro, C.; Yauw, O. W.; Sung, M. M.; Maboudian, R. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 4441-4445.
10. Schwartz, D. K. Annu. Reu. Phys. Chem. 2001, 52, 107-137.
11. Parikh, A.; Allara, D. L.; Azouz, I.; Rondelez, F. J. Phys. Chem. 1994, 98, 7577-7590.
12. Glaser, A.; Foisner, J.; Hoffman, H.; Friedbacher, G. Langmuir 2004, 20, 5599-5604.
13. Valiant, T.; Brunner, H.; Mayer, U.; Hoffman, H.; Leitner, T.; Resch, R.; Friedbacher, G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 7190-7197.
14. Vandenberg, E. T.; Bertilsson, L.; Liedberg, B.; Uvdal, K; Erlandsson, R.; Elwing, H.; Lundström, I. J. Colloid Interface Sci. 1991, 747, 103-118.
15. Wang, Y.; Lieberman, M. Langmuir 2003, 19, 1159-1167.
16. Heiney, P.; Grüneberg, K.; Fang, J. Langmuir 2000, 16, 2651-2657.
17. Hu, M.; Noda, S.; Okubu, T.; Yamaguchi, Y.; Komiyama, H. Appl. Surf. Sci. 2001, 181, 307-316.
18. Banga, R.; Yarwood, J.; Morgan, A. M.; Evans, B.; Keils, J. Langmuir 1995, 11, 4393-4399.
19. Pavlovic, E.; Quist, A. P.; Gelius, U.; Oscarsson, S. J. Colloid Interface Sci. 2002, 254, 200-203.
20. Ulman, A. An Introduction to Ultrathin Organic Films; From Langmuir-Blodgett to Self-Assembly; Academic Press: San Diego, 1991.
21. Bakiamoh, S. B.; Blanchard, G. J. Langmuir 2001, 17, 3438-3446.
22. Sherman, R.; Hirt, D.; Vane, R. J. Vac. Sci. Technol., A 1994, 12, 1876-1881.
23. Sherman, R.; Whitlock, W. J. Vac. Sci. Technol., B 1990, 8, 563-567.
24. Walheim, S.; Müller, R.; Sprenger, M.; Loser, E.; Mlynek, J.; Steiner, U. Adv. Mater. 1999, 11, 1431-1433.
25. Pirrung, M. C. Angew. Chem., Int. Ed. 2002, 41, 1276-1289.
26. Gao, X.; LeProust, E.; Zhang, H.; Srivannavit, O.; Gulari, E.; Yu, P.; Nishiguchi, C.; Xiang, Q.; Zhou, X. Nucleic Acids Res. 2001, 29, 4744-4750.
27. Pease, A. C.; Solas, D.; Sullivan, E. J.; Cronin, M. T.; Holmes, C. P.; Fodor, S. P. A. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 1994, 91, 5022-5026.
28. Silicon-Containing Polymers: The Science and Technology of Their Synthesis and Applications; Jones, R. G., Ando, W., Chojnowski, J., Eds.; Kluwer Academic Publishers: Dordrecht, 2000.
29. Moon, J. H.; Kim, J. H.; Kim, K. J.; Kang, T. H.; Kim, B.; Kim, C. H.; Hahn, J. H.; Park, J. W. Langmuir 1997, 13, 4305-4310.
30. Yuan, S.; Zhang, Y.; Li, Y.; Xua, G. Colloids Surf., A 2004, 242, 129-135.
31. Schwartz, D. K.; Steinberg, S.; Israelachvili, J.; Zasadzinski, J. A. N. Phys. Rev. Lett. 1992, 69, 3354-3357.
32. Clegg, R. S.; Hutchinson, J. E. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 5319-5327.
33. Cohen, S. R.; Naaman, R.; Sagiv, J. J. Phys. Chem. B 1986, 90, 3054-3056.
34. Kim, Y. T.; McCarley, R. L.; Bard, A. J. Langmuir 1993, 8, 1941-1944.
35. Schneider, T. W.; Buttry, D. A. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12391-12397.
36. Kato, S.; Pac, C. Langmuir 1998, 14, 2372-2377.
37. Yoshida, W.; Castro, R. P.; Jou, J. D.; Cohen, Y. Langmuir 2001, 17, 5882-5888.
38. Zemanian, T. S.; Fryxell, G. E.; Liu, J.; Mattigod, S.; Franz, J. A.; Nie, Z. Langmuir 2001, 17, 8172-8177.
39. Weibel, G. L.; Ober, C. K. Microelectron. Eng. 2003, 65, 145-152.
40. Sundararajan, N.; Yang, S.; Ogino, K.; Valiyaveetil, S.; Wang, J.; Zhou, X.; Ober, C. K. Chem. Mater. 2000, 12, 41-48.
41. Cao, C.; Fadeev, A. Y.; McCarthy, T. J. Langmair 2001, 17, 757-761.