Normale für die dimensionelle und analytische Nanometrologie

PTB - Mitteilungen Forschen und Prufen

Volumn 114, Issue 1, 2004, Pages 16-24

  Koenders, Ludger ^a   Dziomba, Thorsten ^a   Thomsen Schmidt, Peter ^a   Senoner, Mathias ^b  

^a PTB Arbeitsgruppe Schichtdicke/N ^*  (Germany)

^b Lab Mikrobereichs /O   (Germany)

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EID: 2042510363     PISSN: 0030834X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (21)

1. Danzebrink, H.-U. et al.: Metrologische Rastersondenmikroskope - Messgeräte für die dimensionelle Nanometrologie; PTB-Mitteilungen 114 (2004), S. 4-15 (in diesem Heft)
2. Wilkening, G.: Methoden der Oberflächen-messtechnik, in VDI Berichte 1669, VDI-Verlag, Düsseldorf 2003, S. 21
3. Garnaes, J.; Kofod, N;. Jørgensen, J. F.; Kühle, A.; Besmens, P.; Ohlsson, O.; Rasmussen, J. B.; Lindelof, P. E.; Wilkening, G.; Koenders, L.; Mirandé, W.; Hasche, K.; Haycocks, J.; Nunn, J.; Stedman, M.: Nanometre scale transfer standards, Proceedings for euspen 1st international conference and general meeting of the european society for precision engineering and nanotechnology, Edited by: P. McKeown, J. Corbett et al., on May 31st - June 4th 1999 Congress Centre Bremen, Germany, Vol 2, (1999), S. 134-137
4. Eine Liste mit kommerziell erhältlichen Normalen ist auf der website der PTB unter http://www.ptb.de/de/org/5/51/12_alt/spmstdrev.pdf
5. Keller, D.: Reconstruction of STM and AFM images distorted by finite-size tipsSurf. Sci. 253 (1991), S. 353
6. Wiliams, P. M.; Shakesheff, K. M.; Davies, M. C.; Jackson, D. E.; Roberts C. J.: Blind reconstruction of scanning probe image data, JVST B 14 (2) (1996), S. 1557-62
7. Villarrubia, J. S.: Algorithms for Scanned Probe Microscope, Image Simulation, Surface Reconstruction and Tip Estimation. J. Nat. Inst. Stand. and Technol. 102 (1997), S. 435-454, siehe auch: http://ois.nist.gov/jres/102/4/ j24vil.pdf
8. Hübner, U.; Morgenroth, W.; Meyer, H. G.; Sulzbach, Th.; Brendel, B.; Mirandé, W.; Downwards to metrology in nanoscale: determination of the AFM tip shape with well-known sharp-edged calibration structures. Applied Physics A 76 (2003), S. 913-917
9. Meli, F.: Critical dimension (CD) measurements using a metrology AFM profiler. Procee-dings of the 4th seminar on Quantitative Microscopy QM 2000 Dimensional measurements in the micro- and nanometre range, Edited by Klaus Hasche, Werner Mirandé, Günter Wilkening, Semmering, Austria, January 12-14 2000, PTB-Bericht F- 39 (2000), S. 58-65
10. Oberthaler, M.: Präzisionslineale auf Nanometerskala, Machbarkeitsstudie Kompetenzzentrum "NanoClub Lateral", Uni. Konstanz, (2001)
11. Flügge J. et al.: Messtechnik an mikro- und nanostrukturierten Längenteilungen; PTB-Mitteilungen 114 (2004), S. 25-35 (in diesem Heft)
12. Wüllner, D.; Wehmann, H.-H.; Bönsch, P.; Schlachetzki, A.; Lacmann, R.: III/V Semiconductor Calibration Standards for Atomic-Force Microscopy, Proceedings of the 2nd Seminar on Quantitative Microscopy: Geometrical measurements in the micro-and nanometre range with far and near field methods, Edited by Klaus Hasche, Werner Mirandé, Günter Wilkening, Wien, Austria, Nov. 6 - 7 1997, PTB-Bericht F- 30 (1997) S. 154-157
13. Koenders, L.: Heterostrukturnormale für die Kalibrierung von Rastersondenmikroskopen, Machbarkeitsstudie Kompetenzzentrum "Nanoanalytik", Hamburg, (2002)
14. Herrmann, K.; Koenders, L.; Danzebrink, H.-U.; Hasche, K.; Wilkening, G.; Pohlenz, F.; Hoffmann, K.-P.: Dimensional Metrology Using Scanning Probe Microscopy. Vortrag Sino-German Symposium on Micro Systems and Nano Technology, 5. bis 7. Sept. 2001, Braunschweig
15. Koenders L. et al: Comparison on Nanometrology - NANO2: Step height. Metrologia 40 (2003) 04001
16. Krüger-Sehm, R.; Dziomba, T.; Dai, G.: Profile Assessment of Nano Roughness Standards by Contact and Non-contact Methods, XI. Int. Oberflächenkolloquium Chemnitz, 2. bis 3. Feb. 2004, Chemnitz, wird veröffentlicht
17. Thomsen-Schmidt, P.; Hasche, K.; Ulm, G.; Herrmann, K.; Krumrey, M.; Ade, G.; Stümpel, J.; Busch, I.; Schädlich, S.; Schindler, A.; Frank, W.; Hirsch, D.; Procop, M.; Beck, U.: Realization and metrological characterization of thickness standards below 100 nm. Appl. Phys. A, DOI:10.1007/s00339-003-2273- 7
18. 2 films on Si with X-ray reflectometry at the Si K edge, Thin Solid Films, im Druck
19. Thomsen-Schmidt, P.: Consistent standards for nanometrology or step height versus film thickness measurement, Proc. XI. Oberflächenkolloquium Chemnitz, 2. bis 3. Feb. 2004, Chemnitz, wird veröffentlicht
20. Senoner, M.: Report on an inter-laboratory comparison "Measurement of lateral structures in the nanometrer range with Secondary Ion Mass Spectrometry", BAM, Berlin 2003
21. Yacoot, A.; Kütgens, U.; Koenders, L.; Weimann, T.: A combined scanning tunnelling microscope and X-Ray interferometer, Meas. Sci. Technol, 12 (2001), S. 1660-1665