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Volumn 69, Issue 8, 2004, Pages

Calibration of embedded-cluster method for defect studies in amorphous silica

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SILICON DIOXIDE;

EID: 1842616156     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.69.085202     Document Type: Article
Times cited : (54)

References (44)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.