Layer-by-layer growth of high-optical-quality ZnO film on atomically smooth and lattice relaxed ZnO buffer layer

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 14, 2003, Pages 2784-2786

  Tsukazaki, A ^a   Ohtomo, A ^a   Yoshida, S ^a   Kawasaki, M ^a,f   Chia, C H ^b   Makino, T ^b   Segawa, Y ^b   Koida, T ^c,d   Chichibu, S F ^b,c,d   Koinuma, H ^e,f  

^a TOHOKU UNIVERSITY   (Japan)

^b RIKEN   (Japan)

^c UNIVERSITY OF TSUKUBA   (Japan)

^d JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

^e TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^f NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; CRYSTAL STRUCTURE; EXCITONS; HIGH ENERGY ELECTRON DIFFRACTION; HIGH TEMPERATURE EFFECTS; OSCILLATIONS; SCANDIUM COMPOUNDS; ZINC OXIDE;

LAYER-BY-LAYER GROWTH;

THIN FILMS;

EID: 10744219778     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1615834     Document Type: Article

References (19)

1. P. Yu, Z. K. Tang, G. K. L. Wong, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Solid State Commun. 103, 459 (1997).
2. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
3. D. M. Bagnell, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
4. A. Ohtomo, K. Tamura, K. Saikusa, K. Takahashi, T. Makino, Y. Segawa, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 75, 2635 (1999).
5. T. Makino, C. H. Chia, N. T. Tuan, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, K. Tamura, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 76, 3549 (2000).
6. C. H. Chia, T. Makino, K. Tamura, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 82, 1848 (2003).
7. A. Ohtomo, K. Tamura, M. Kawasaki, T. Makino, Y. Segawa, Z. K. Tang, G. K. L. Wong, Y. Matsumoto, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 77, 2204 (2000).
8. K. Tamura, A. Ohtomo, K. Sikusa, Y. Osaka, T. Makino, Y. Segawa, M. Sumiya, S. Fuke, H. Koinuma, and M. Kawasaki, J. Cryst. Growth 214/215, 59 (2000).
9. A. Tsukazaki, H. Saito, K. Tamura, M. Ohtani, H. Koinuma, M. Sumiya, S. Fuke, T. Fukumura, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 81, 235 (2002).
10. T. Koida, S. F. Chichibu, A. Uedono, A. Tsukazaki, M. Kawasaki, T. Sota, Y. Segawa, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 82, 532 (2003).
11. A. Uedono, T. Koida, A. Tsukazaki, M. Kawasaki, Z. Q. Chen, S. F. Chichibu, and H. Koinuma, J. Appl. Phys. 93, 2481 (2003).
12. T. Ohnishi, A. Ohtomo, M. Kawasaki, K. Takahashi, M. Yoshimoto, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 72, 824 (1998).
13. A. Ohtomo, H. Kimura, K. Saito, T. Makino, Y. Segawa, H. Koinuma, and M. Kawasaki, J. Cryst. Growth 214/215, 284 (2000).
14. K. Terai, M. Lippmaa, P. Ahmet, T. Chikyow, T. Fujii, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 80, 4437 (2002).
15. T. Ohnishi, D. Komiyama, T. Koida, S. Ohashi, C. Stauter, H. Koinuma, A. Ohtomo, M. Lippmaa, N. Nakagawa, M. Kawasaki, T. Kikuchi, and K. Omote, Appl. Phys. Lett. 79, 536 (2001).
16. Our preliminary experiments on in situ annealing the buffer layer indicates that such a decrease of RHEED intensity can be avoided.
17. S. F. Chichibu, T. Sota, G. Cantwell, D. B. Eason, and C. W. Litton, J. Appl. Phys. 93, 756 (2003).
18. T. Makino, T. Yasuda, Y. Segawa, A. Ohtomo, K. Tamura, M. Kawasaki, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 79, 1282 (2001).
19. T. Makino (unpublished).