Structural, optical, and magnetic properties of Zn 0.93Mn 0.07O thin films grown on Al 2O 3 (0001) by r.f. magnetron sputtering

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 45, Issue 5 II, 2004, Pages 1304-1307

  Lee, Sejoon ^a   Lee, Hye Sung ^a   Kim, Doo Soo ^a   Kim, Deuk Young ^a   Woo, Yong Deuk ^b  

^a Dongguk University   (South Korea)

^b Woosuk University   (South Korea)

Author keywords

Diluted magnetic semiconductor; Ferromagnetism; Magnetron sputtering; ZnMnO

Indexed keywords

EID: 10444278082     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (23)

1. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 230 (1997).
2. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Wober, R, Russo and F. Yang, Science 292, 897 (2001).
3. M. T. Bjork, B. J. Ohlsson, T. Sass, A. I. Persson, C. Thelandcr, M. H. Magnusson, K. Deppert, L. R. Wallenberg and L. Samuelson, Appl. Phys. Lett. 80, 1058 (2002).
4. Z. Jin, T. Fukumura, M. Kawasaki, K. Ando, H. Saito, T. Sekiguchi, Y. Z. Yoo, M. Murakami, Y. Matsumoto. T. Hasegawa and H. Koimuma, Appl. Phys. Lett. 78, 3824 (2001).
5. K. Ueda, H. Tabata and T. Kawai, Appl. Phys. Lett. 79, 988 (2001).
6. Y. M. Cho, W. K. Choo, H. Kim, D. Kim and Y. E. Ihm, Appl. Phys. Lett. 80, 3358 (2002).
7. T. Edahiro, N. Fujimura and T. Ito, J. Appl. Phys. 93, 7673 (2003).
8. J. H. Kim and W. K. Choo, J. Korean Phys. Soc. 42, S258 (2003).
9. T. Dietl, H. Ohno, F. Matsukura, J. Cibert and D. Ferrand, Science 287, 1019 (2000).
10. H. Munekata, H. Ohno, S. von Molnar, A. Segmuller, L. L. Changand L. Esaki, Phys. Rev. Lett. 63, 1849 (1989).
11. H. Ohno, II. Munekata, T. Penny, S. von Molnar and L. L. Chang, Phys. Rev. Lett. 68, 2664 (1992).
12. T. Fukumura, Zhengwu Jin, A. Ohtomo, H. Koinuma and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 75, 3366 (1999).
13. S. W. Sung, S.-J. An, G. C. Yi, C. U. Jung, S.-I. Lee and S. Cho, Appl. Phys. Lett. 80, 4561 (2002).
14. D. S. Kim, H.-M. Kim, S. U. Yuldashev, S. J. Lee, T. W. Kang and D. Y. Kim, J. Korean Phys. Soc. 42, S333 (2003).
15. D. S. Kim, S. Lee, C. Min, H.-M. Kim, S. U. Yuldashev, T. W. Kang, D. Y. Kim and T. W. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 7217 (2003).
16. D. P. Norton, S. J. Pearton, A. F. Hebard, N. Theodoropoulou, L. A. Boatner and R. G. Wilson, Appl. Phys. Lett. 82, 239 (2003).
17. G. Xiong, J. Wilkinson, B. Mischuck, S. Tüzemen, K. B. Ucer and R. T. Williams, Appl. Phys. Lett. 80, 1195 (2002).
18. Sejoon Lee, Doo Soo Kim, Deuk Young Kim, Yong-deuk Woo and Tae Whan Kim, J. Korean Phys. Soc. 45, (2004, in press).
19. N. Fujimura, T. Nishihara, S. Goto, J. Xu and T. Ito, J. Crystal Growth 130, 269 (1993).
20. J. Wang, G. Du, Y. Zhang, B. Zhao, X. Yang and D. Liu, J. Crystal Growth 263, 269 (2004).
21. Y. Q. Chang, X. Y. Xu, X. H. Luo, C. P. Chen and D. P. Yu, J. Cryst. Growth 264, 232 (2004).
22. S.-J. Man, T.-H. Jang, Y. B. Kim, B.-G. Park, J.-H. Park and Y, H. Jeong, Appl. Phys. Lett. 83, 920 (2003).
23. I. S. Jacobs and J. S. Kouvel, Phys. Rev. 122, 412 (1961).