Effective Capacitance Enhancement Methods for 90-nm DRAM Capacitors

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 44, Issue 1, 2004, Pages 112-116

  Park, Y K ^a   Ahn, Y S ^a   Kim, S B ^a   Lee, K H ^a   Cho, C H ^a   Chung, T Y ^a   Kim, Kinam ^a  

^a SAMSUNG Electronics   (South Korea)

Author keywords

AlO HfO; Capacitor; Diamond typed OCS; DMO(Dual Mold Oxide); DRAM

Indexed keywords

EID: 0842285801     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (7)

1. Kinam Kim, Chang-Gyu Hwang and Jong-Gil Lee, IEEE Trans. Electron Dev. 45, 598 (1998).
2. Kinam Kim and Moon-Young Jeong, IEEE Trans. Semiconductor Manufacturing 15, 137 (2002).
3. K. N. Kim, H. S. Jeong, W. S. Yang, Y. S. Hwang, C. H. Cho, M. M. Jeong, S. Park, S. J. Ahn, Y. S. Chun, S. H. Shin, J. S. Park, S. H. Song, J. Y. Lee, S. M. Jang, C. H. Lee, J. H. Jeong, M. H. Cho, H. I. Yoon and J. S. Jeon, Symp. on VLSI Tech. (Kyoto, June, 2001), p. 7.
4. Jaegoo Lee, Changhyun Cho, Juyong Lee, Minsang Kim, Jaekyu Lee, Sooho Shin, Donghwa Kwak, Kwanhyeob Koh, Gitae Jeong, Hongsik Jeong, Taeyoung Chung and Kinam Kim, J. Korean Phys. Soc. 41, 487 (2002).
5. K. N. Kim, T. Y. Chung, H. S. Jeong, J. T. Moon, Y. W. Park, G. T. Jeong, K. H. Lee, G. H. Koh, D. W. Shin, Y. S. Hwang, D. W. Kwak, H. S. Uh, D. W. Ha, J. W. Lee, S. H. Shin, M. H. Lee, Y. S. Chun, J. K. Lee, B. J. Park, J. H. Oh, J. G. Lee and S. H. Lee, Symp. on VLSI Tech. (Honolulu, June, 2000), p. 10.
6. H. S. Jeong, W. S. Yang, Y. S. Hwang, C. H. Cho, S. Park, S. J. Ahn, Y. S. Chun, S. H. Shin, S. H. Song, J. Y. Lee, S. M. Jang, C. H. Lee, J. H. Jeong, M. H. Cho, J. K. Lee and Kinam Kim, IEDM Tech. Dig. (San Fransisco, Dec., 2000), p. 353.
7. Jeong-Hoon Oh, Hoon Jeong, J. M. Park, J. Y. Park, K. H. Hong, Y. J. Choi, K. H. Lee, T. Y. Chung, Y. J. Park and Kinam Kim, J. Korean Phys. Soc. 41, 884 (2002).