Thermal wet oxidation of GaP and Al0.4Ga0.6P

Applied Physics Letters

Volumn 77, Issue 8, 2000, Pages 1161-1163

  Epple, J H ^a   Chang, K L ^a   Pickrell, G W ^a   Cheng, K Y ^a   Hsieh, K C ^a  

^a UNIVERSITY OF ILLINOIS AT URBANA CHAMPAIGN   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0344775433     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1286871     Document Type: Article

References (15)

1. J. M. Dallesasse, N. Holonyak, Jr., A. R. Sugg, T. A. Richard, and N. El-Zein, Appl. Phys. Lett. 57, 2844 (1990).
2. K. D. Choquette, K. L. Lear, R. P. Schneider, Jr., and K. M. Geib, Appl. Phys. Lett. 66, 3413 (1995).
3. J. J. Wierer, P. W. Evans, N. Holonyak, Jr., and D. A. Kellogg, Appl. Phys. Lett. 71, 2286 (1997).
4. E. I. Chen, N. Holonyak, Jr., and S. A. Maranowski, Appl. Phys. Lett. 66, 2688 (1995).
5. A. Massengale, M. C. Larson, C. Dai, and J. S. Harris, Jr., Electron. Lett. 32, 399 (1996).
6. P. A. Parikh, P. M. Chavarkar, and U. K. Mishra. IEEE Electron Device Lett. 18, 111 (1997).
7. M. Rubenstein, J. Electrochem. Soc. 113, 540 (1966).
8. Y. Kato, K. M. Geib, R. G. Gann, P. R. Brusenhack, and C. W. Wilmsen, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 588 (1984).
9. G. P. Schwartz, G. J. Gualtieri, J. E. Griffiths, C. D. Thurmond, and B. Schwartz, J. Electrochem. Soc. 127, 2488 (1980).
10. Y. Kato, K. M. Geib, R. G. Gann, P. R. Brusenback, and C. W. Wilmsen, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1530 (1991).
11. JCPDS Powder Diffraction File, International Centre for Diffraction Data (1994).
12. T. H. Oh, D. L. Huffaker, L. A. Graham, H. Deng, and D. G. Deppe, Electron. Lett. 32, 2024 (1996).
13. A. R. Sugg, E. I. Chen, N. Holonyak, Jr., K. C. Hsieh, J. E. Baker, and N. Finnegan, J. Appl. Phys. 74, 3880 (1993).
14. K. D. Choquette, K. M. Geib, C. I. H. Ashby, R. D. Twesten, O. Blum, H. Q. Hou, D. M. Follstaedt, B. E. Hammons, D. Mathes, and R. Hull, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 3, 916 (1997).
15. C. I. H. Ashby, J. P. Sullivan, P. P. Newcomer, N. A. Missert, H. Q. Huo, B. E. Hammons, M. J. Hafich, and A. G. Baca, Appl. Phys. Lett. 70, 2443 (1997).