Electroluminescence of thin films of organic compounds (Review)

Journal of Applied Spectroscopy

Volumn 70, Issue 2, 2003, Pages 165-194

  Kukhto, A V ^a  

^a B I STEPANOV INSTITUTE OF PHYSICS   (Belarus)

Author keywords

Efficiency; Electroluminescence; Excitation; Injection; Nanostructure; Organic electroactive materials; Thin films; Transport

Indexed keywords

INDIUM; ORGANIC COMPOUND; OXIDE; TIN DERIVATIVE; TIN OXIDE; UNCLASSIFIED DRUG;

CHEMICAL STRUCTURE; CONDUCTANCE; DEVICE; ELECTRIC FIELD; ELECTRIC POTENTIAL; ELECTRODE; FILM; FLUORESCENCE; IONIZATION; KINETICS; LUMINESCENCE; MATHEMATICAL COMPUTING; MOLECULE; OPERATION DURATION; QUANTUM YIELD; SHORT SURVEY; TEMPERATURE DEPENDENCE;

EID: 0141999757     PISSN: 00219037     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1023/A:1023819931571     Document Type: Short Survey

References (314)

1. I. Ambrush, Usp. Khim., 26, 345-358 (1957).
2. N. A. Borisevich, L. A. Barkova, V. V. Gruzinskii, V. V. Rozhkov, and L. K. Stratskevich, Zh. Prikl. Spektrosk., 25, 68-76 (1976).
3. V. V. Gruzinskii, L. A. Barkova, L. K. Stratskevich, and P. M. Shishlo, Izv. Akad. Nauk SSSR, Ser. Fiz., 42, 370-375 (1978).
4. R. W. Smith, P. P. Liao, and P. I. Maloney, IEEE J. Quant. Electron., 12, 539-542 (1976).
5. A. Bertanose and P. Vouaox, J. Chim. Phys., 50, 261-263 (1953).
6. M. Pope, H. Kallmann, and P. J. Magnante, J. Chem. Phys., 38, 2042-2043 (1963).
7. D. M. Hercules, Science, 145, 808-809 (1964).
8. A. J. Bard and D. J. Laser, J. Electrochem. Soc., 122, 632-640 (1975).
9. J. S. Dunnett and M. Voinov, J. Chem. Soc., Faraday Trans. I, 73, 853-857 (1977).
10. A. I. Bykh, I. F. Ogorodneichuk, and Yu. K. Khudenskii, Optochemotronics [in Russian], Kiev (1978).
11. H. Schaper, H. Kostlin, and E. Schnedler, J. Electrochem. Soc., 129, 1289-1294 (1982).
12. P. Zhagiro and V. Zhivnov, Izv. Akad. Nauk SSSR. Ser, Fiz., 51, 167-171 (1987).
13. H. Kojima, Y. Takagi, and H. Teramoto, Electrochim. Acta, 33, 1789-1793 (1988).
14. K. M. Maness, J. E. Bartelt, and R. M. Wightman, J. Phys. Chem., 98, 3993-3998 (1994).
15. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett., 51, 913-915 (1987).
16. J. H. Burroughes, D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burn, and A. B. Holmes, Nature, 347, 539-541 (1990).
17. A. Kraft, A. C. Grimsdale, and A. B. Holmes, Angew. Chem., 37, 402-438 (1998).
18. J. Kalinowski, J. Phys., D32, R179-R250 (1999).
19. F. Cacialli, Colloid Interface Sci., 4, 159-164 (1999).
20. A. J. Heeger, Synth. Met., 125, 23-42 (2002).
21. A. G. MacDiarmid, Synth. Met., 125, 11-22 (2002).
22. M. Granström, M. Berggren, D. Pede, O. Onganäs, M. R. Andersson, T. Hjertberg, and O. Wennerström, Supramol. Sci., 4, 27-34 (1997).
23. T.-W. Lee, O. O. Park, J. Yoon, and J.-J. Kim, Adv. Mater., 13, 211-213 (2001).
24. C. Y. Yang, F. Hide, A. J. Heeger, and Y. Cao, Synth. Met., 84, 895-896 (1997).
25. V. Bliznyuk, B. Ruhstaller, P. J. Brock, U. Scherf, and S. A. Carter, Adv. Mater., 11, 1257-1261 (1999).
26. S. A. Carter, J. C. Scott, and P. J. Brock, Appl. Phys. Lett., 71, 1145-1147 (1997).
27. A. V. Kukhto (Kukhta), E. E. Kolesnik, M. I. Taoubi, S. A. Vorobyova, E. M. Gartsueva, and A. I. Lesnikovich, in: Proc. 11th Int. Workshop on Inorganic and Organic Electroluminescence, September 23-26, 2002, Ghent (2002), pp. 457-460.
28. Y. Yang, C. Westerweele, C. Zhang, P. Smith, and A. J. Heeger, J. Appl. Phys., 77, 694-698 (1995).
29. A. V. Kukhto (Kukhta), E. E. Kolesnik, G. H. Shakah, and M. I. Taoubi, Proc. SPIE, 4105, 405-412 (2001).
30. A. V. Kukhto (Kukhta) and E. E. Kolesnik, in: V. E. Borisenko, S. V. Gaponenko, and V. S. Gurin (eds.), Physics, Chemistry and Application of Nanostructures, Singapore, (2001), pp. 403-407.
31. A. V. Kukhto (Kukhta), G. G. Gorokh, E. E. Kolesnik, A. I. Mitkovets, M. I. Taoubi, Yu. A. Koshin, and A. M. Mozalev, Surf. Sci., 507-510, 593-597 (2002).
32. G. G. Gorokh, V. A. Labunov, A. G. Smirnov, A. V. Kukhto (Kukhta), A. P. Stupak, and B. N. Chernukha, in: Proc. 22nd Int. Display Research Conf., October 2-4, 2002, Nice (2002), pp. 655-658.
33. M. Yoshida, A. Fujii, Y. Ohmori, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt 2, 35, L397-L400 (1996).
34. Y. Z. Wang, D. D. Gebler, L. B. Lin, J. W. Blatchford, S. W. Jessen, H. L. Wang, and A. J. Epstein, Appl. Phys. Lett., 68, 894-896 (1996).
35. G. A. Mesyats, Pulse Discharge in Dielectrics [in Russian], Moscow (1985).
36. M. Hiramoto, J. Tani, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett., 62, 666-668 (1993).
37. J. Shi and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 70, 1665-1667 (1997).
38. Y. Hamada, T. Sano, H. Fuji, Y. Nishio, H. Takahashi, and K. Shibata, Appl. Phys. Lett., 71, 3338-3340 (1997).
39. J. Ohmori, M. Uchida, C. Morishima, A. Fujii, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 32, L1663-L1666 (1993).
40. J. Kido, C. Ohtaki, K. Hongawa, K. Okuyama, and K. Nagai, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 32, L917-L920 (1993).
41. P. Ranke, I. Bleyl, J. Simmerer, D. Haarer, A. Bacher, and H. W. Schmidt, Appl. Phys. Lett., 71, 1332-1334 (1997).
42. N. Murata, G. G. Malliaras, M. Uchida, Y. Shen, and Z. H. Kafafi, Chem. Phys. Lett., 339, 161-166 (2001).
43. D. O'Brien, M. S. Weaver, D. C. Lidzey, and D. D. C. Bradley, Appl. Phys. Lett., 69, 881-883 (1996).
44. C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett., 55, 1489-1491 (1989).
45. M. A. Baldo, S. Lamansky, P. E. Burrows, M. E. Thompson, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 75, 4-6 (1999).
46. C. Hosokawa, H. Higashi, H. Nakamura, and T. Kusumoto, Appl. Phys. Lett., 67, 3853-3855 (1995).
47. T. Noda, H. Ogawa, N. Noma, and Y. Shirota, Appl. Phys. Lett., 70, 699-701 (1997).
48. S. Tokito, H. Tanaka, A. Okada, and Y. Taga, Appl. Phys. Lett., 69, 878-880 (1996).
49. Y. Shirota, Y. Kuwabara, H. Inada, T. Wakimoto, H. Nakada, Y. Yonemoto, S. Kawami, and K. Imai, Appl. Phys. Lett., 65, 807-809 (1994).
50. A. V. Kukhto, E. E. Kolesnik, M. I. Tobi, and I. K. Grabchev, Zh. Prikl. Spektrosk., 67, 678-680 (2000).
51. F. Wu, W. Tian, Z. Zhang, Y. Ma, G. Li, J. Shen, L. Zhang, B. Zhang, and Y. Gao, Thin Solid Films, 363, 214-217 (2000).
52. C. Adachi, K. Nagai, and N. Tamoto, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 1, 35, 4819-4825 (1996).
53. C.-W. Ko and Y.-T. Tao, Synth. Met., 126, 37-41 (2002).
54. Y. Qiu, J. Qiao, J. Gao, D. Zhang, and L. Wang, Synth. Met., 129, 25-28 (2002).
55. Y. Hamada, C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 1, 31, 1812-1816 (1992).
56. H. Okii, H. Hara, and Y. Ohba, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 31, L416-L418 (1992).
57. M. Yamaguchi and T. Nagamoto, Thin Solid Films, 363, 21-24 (2000).
58. Z. D. Popovic, S. Xie, N. Hu, A. Hor, D. Fork, G. Anderson, and C. Tripp, Thin Solid Films, 363, 6-8 (2000).
59. B. Winkler, F. Meghdadi, S. Tasch, B. Evers, I. Schneider, W. Fischer, F. Stelzer, and G. Leising, Synth. Met., 102, 1083-1084 (1999).
60. B. X. Mi, Z. Q. Gao, C. S. Lee, H. L. Kwong, N. B. Wang, and S. T. Lee, J. Mater. Chem., 11, 2244-2247 (2001).
61. A. V. Kukhto (Kukhta), E. E. Kolesnik, and G. H. Shakah, in: Proc. 6th Int. Symp. "Advanced Display Technologies," October 12-16, 1997, Partenit (Ukraine) (1997), pp. 143-145.
62. Yu. K. Mikhailovskii, A. V. Kukhto, V. E. Agabekov, and V. K. Ol'khovik, Zh. Prikl. Spektrosk., 69, 36-43 (2002).
63. L. S. Hung and S. T. Lee, Mater. Sci. Eng. B, 85, 104-108 (2001).
64. Y. Hamal, T. Sano, M. Fujita, T. Nishio, and K. Shabata, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 32, L511-L513 (1993).
65. T. Tominaga, K. Hayashi, and N. Toshima, Appl. Phys. Lett., 70, 762-763 (1997).
66. C. Adachi, R. Kwong, and S. R. Forrest, Org. Electron., 2, 37-43 (2001).
67. A. Chowdhury and A. J. Pai, Thin Solid Films, 385, 266-270 (2001).
68. D. F. O'Brien, C. Giebeler, R. B. Fletcher, A. J. Cadby, L. C. Palilis, D. G. Lidzey, P. A. Lane, D. D. Bradley, and W. Blau, Synth. Met., 116, 379-383 (2001).
69. M. A. Baldo, D. F. O'Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson, and S. R. Forrest, Nature, 395, 151-154 (1998).
70. S. W. Pyo, S. P. Lee, H. S. Lee, O. K. Kwon, H. S. Hoe, S. H. Lee, Y. Ha, Y. K. Kim, and J. S. Kim, Thin Solid Films, 363, 232-235 (2000).
71. C. J. Liang, Z. R. Hong, X. Y. Liu, D. Zhao, W. L. Li, J. B. Peng, J. Q. Yu, C. S. Lee, and S. T. Lee, Thin Solid Films, 359, 14-16 (2000).
72. G. Yu, Y. Liu, D. Zhu, H. Li, L. Jin, and M. Wang, Synth. Met., 121, 1719-1720 (2001).
73. W. Hu, M. Matsumura, M. Wang, and L. Jin, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 1, 39, 645-648 (2000).
74. Y. Liang, Q. Lin, H. Zhang, and Y. Zheng, Synth. Met., 123, 377-379 (2001).
75. Z. Hong, C. Liang, R. Li, W. Li, D. Zhao, D. Fan, D. Wang, B. Chu, F. Zang, L.-S. Hong, and S.-T. Lee, Adv. Mater., 13, 1241-1245 (2001).
76. A. V. Kukto (Kukhta), E. E. Kolesnik, T. A. Pavich, and M. I. Taoubi, in: Proc. 20IDRC, September 25-28, 2000, Palm Beach (2000), pp. 155-158.
77. D. Ma, D. Wang, B. Li, Z. Hong, S. Lu, L. Wang, X. Zhao, N. Minami, N. Takada, Y. Ichino, K. Yase, H. Zhang, X. Jing, and F. Wang, Synth. Met., 102, 1136-1137 (1999).
78. V. Christou, O. V. Salata, T. Q. Ly, S. Capecchi, N. J. Bailey, A. Cowley, and A. M. Chippindale, Synth. Met., 111-112, 7-10 (2000).
79. D. G. Moon, O. V. Salata, M. Etchells, P. J. Dobson, and V. Christou, Synth. Met., 123, 355-357 (2001).
80. J. Wang, R. Wang, J. Yang, Z. Zheng, M. D. Carducci, T. Cayou, N. Peyghambarian, and G. E. Jabbour, J. Am. Chem. Soc., 123, 6179-6180 (2001).
81. R. Pudzich and J. Salbeck, in: Proc. Int. Conf. on Organic Electronics, Potsdam, November 18-21, 2001, Potsdam (2001), pp. 40-43.
82. J. Huang, M. Feiffer, J. B. Lochwitz, A. W. Erner, J. S. Albeck, S. Liu, and K. Leo, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 1, 40, 6630-6633 (2001).
83. J. Bettenhausen and P. Strohriegl, Adv. Mater., 8, 507-509 (1996).
84. K. Kreger, M. Jandke, and P. Strohriegl, Synth. Met., 119, 163-164 (2001).
85. Y. Kuwabara, H. Ogawa, H. Inoda, N. Noma, and Y. Shirota, Adv. Mater., 6, 677-679 (1994).
86. M. Berggren, G. Gustafsson, O. Inganäs, M. R. Andersson, T. Hjertberg, and O. Wennerström, J. Appl. Phys., 76, 7530-7534 (1994).
87. M. J. Frampton, R. Beavington, J. M. Lupton, I. D. W. Samuel, and P. L. Burn, Synth. Met, 121, 1671-1672 (2001).
88. K. Y. Lee, Y. K. Kim, O. K. Kwon, J. W. Lee, D. M. Shin, D. Y. Kim, B. C. Sohn, and D. S. Choi, Thin Solid Films, 363, 225-228 (2000).
89. S. Tasch, A. Niko, G. Leising, and U. Scherf, Appl. Phys. Lett., 68, 1090-1092 (1996).
90. I. Sokolik, Z. Yang, F. E. Karasz, and D. C. Morton, J. Appl. Phys., 74, 3584-3586 (1993).
91. D. J. Choo, A. Talaie, Y. K. Lee, J. Jang, S. H. Park, G. Huh, K. H. Yoo, and J. Y. Lee, Thin Solid Films, 363, 37-41 (2000).
92. I. D. Parker, J. Appl. Phys., 75, 1656-1666 (1994).
93. R. Riehn, J. Morgado, R. Iqbal, S. C. Moratti, A. B. Holmes, S. Volta, and F. Cacialli, Synth. Met., 124, 67-69 (2001).
94. Y. Ohmori, H. Kajii, T. Sawatani, H. Ueta, and K. Yoshino, Thin Solid Films, 393, 407-411 (2001).
95. J. Kido, K. Hongawa, K. Okuyama, and K. Nagai, Appl. Phys. Lett., 64, 815-817 (1994).
96. J. Kido, H. Shinoya, and K. Nagai, Appl. Phys. Lett., 67, 2281-2283 (1995).
97. M. Hamaguchi, A. Fujii, O. Yutaka, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 35, L1462-L1464 (1996).
98. Y. Kim, J.-G. Lee, K. Han, H.-K. Hwang, D.-K. Choi, Y.-Y. Jung, J.-H. Keum, S. Kim, S.-S. Park, and W. B. Im, Thin Solid Films, 363, 263-267 (2000).
99. E. I. Mal'tsev, M. A. Brusentseva, V. A. Kolesnikov, V. I. Berendyaev, B. V. Kotov, and A. V. Vannikov, Appl. Phys. Lett., 71, 3480-3482 (1997).
100. A. V. Kukhto (Kukhta), E. E. Kolesnik, M. I. Taoubi, and D. Drozdova, Synth. Met., 119, 129-130 (2001).
101. S. Y. Abe, J. C. Bernede, M. A. Delvalle, Y. Tregouer, F. Ragot, F. R. Diaz, and S. Lefrant, Synth. Met., 126 1-6 (2002).
102. L. S. Hung, Thin Solid Films, 363, 47-50 (2000).
103. P. Bröms, J. Birgersson, N. Johansson, M. Lögdlund, and W. R. Salaneck, Synth. Met., 74, 179-181 (1995).
104. G. Yu, Q. Pei, and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett., 70, 934-936 (1997).
105. S. Okuyama, Y. Ito, K. Sugawara, and K. Matsushita, Appl. Phys. Lett., 71, 2877-2879 (1997).
106. A. Andersson, N. Johansson, P. Bröms, N. Yu, D. Lupo, and W. R. Salaneck, Adv. Mater., 10, 859-863 (1998).
107. J. Zhao, S. Xie, S. Han, Z. Yang, L. Ye, and T. Yang, Synth. Met., 114, 251-254 (2000).
108. R. P. Mikalo, G. Appel, P. Hoffmann, and D. Schmeißer, Synth. Met., 122, 249-261 (2001).
109. R. Mazeikiene and A. Malinauskas, Synth. Met., 128, 121-125 (2002).
110. N. Matsumoto, H. Shima, T. Fudjii, and F. Kannari, Appl. Phys. Lett., 71, 2469-2471 (1997).
111. C. Hong, H. B. Chae, K. H. Lee, S. K. Ahn, C. K. Kim, T. W. Kim, N. I. Cho, and S. O. Kim, Thin Solid Films, 409, 37-42 (2002).
112. K. Gorgy, F. Fusalba, U. Evans, K. Kontturi, and V. J. Cunnane, Synth. Met., 125, 365-373 (2002).
113. T. R. Hebner, C. C. Wu, D. Marcy, M. H. Lu, and J. C. Sturm, Appl. Phys. Lett., 72, 519-521 (1998).
114. Y. Sakuratani, T. Watanabe, and S. Miyata, Thin Solid Films, 388, 256-259 (2001).
115. J.-M. Ouyang, Z.-M. Zhang, X.-L. Zhang, Q.-J. Chao, C.-J. Ye, and H.-W. Di, Thin Solid Films, 363, 130-133 (2000).
116. T. Salditt, Q. An, A. Plech, J. Peisl, C. Eschbaumer, C. H. Weidl, and U. S. Schubert, Thin Solid Films, 354, 208-214 (1999).
117. M. Era, C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Chem. Phys. Lett., 178, 488-490 (1991).
118. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett., 70, 1348-1350 (1997).
119. Y. Hamada, T. Sano, M. Fujita, Y. Nishio, and K. Shibata, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 32, L514-L515 (1993).
120. F. Li, H. Tang, J. Anderegg, and J. Shinar, Appl. Phys. Lett., 70, 1233-1235 (1997).
121. G. Yu, Synth. Met., 80, 143-150 (1996).
122. G. E. Jabbour, B. Kippelen, N. R. Armstrong, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett., 73, 1185-1187 (1998).
123. T. Tsutsui, M.-J. Yang, M. Yahiro, K. Nakamura, T. Watanabe, T. Tsuji, Y. Fukuda, T. Wakimoto, and S. Miyaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 38, L1502-L1504 (1999).
124. G. E. Jabbour, Y. Kawabe, S. E. Shaheen, J. F. Wang, M. M. Morrell, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett., 71, 1762-1764 (1997).
125. S. A. Carter, M. Angelopoulos, S. Karg, P. J. Brock, and J. C. Scott, Appl. Phys. Lett., 70, 2067-2069 (1997).
126. M. Uekawa, Y. Miyamoto, H. Ikeda, K. Kaifu, T. Ichi, and T. A. Nakaya, Thin Solid Films, 352, 185-188 (1999).
127. S. Tasch, E. J. W. List, O. Ekstrom, W. Graupner, G. Leising, P. Schlichting, U. Rohr, Y. Geerts, U. Scherf, and K. Müllen, Appl. Phys. Lett., 71, 2883-2885 (1997).
128. X. Y. Jiang, Z. L. Zhang, B. X. Zhang, W. Q. Zhu, and S. H. Xu, Synth. Met., 129, 9-13 (2002).
129. R. H. Jordan, A. Dodabalapur, M. Strukelj, and T. M. Miller, Appl. Phys. Lett., 68, 1192-1194 (1996).
130. S.-S. Lee, D. Ko, C.-H. Chung, and S. M. Cho, Synth. Met., 128, 51-55 (2002).
131. V. Cimrova and D. Neher, Synth. Met., 76, 125-128 (1996).
132. S. Tokito, K. Noda, and Y. Taga, Appl. Phys. Lett., 68, 2633-2635 (1996).
133. A. Dodabalapur, L. G. Rothberg, T. M. Miller, and E. W. Kwock, Appl. Phys. Lett., 64, 2486-2488 (1994).
134. N. Tessler, Adv. Mater., 11, 263-370 (1999).
135. M. Yoshida, A. Fujii, Y. Ohmori, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 35, L397-L400 (1996).
136. M. Onoda, K. Tada, M. Ozaki, and K. Yoshino, Thin Solid Films, 363, 9-12 (2000).
137. M. Hamaguchi and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 1, 35, 4813-4817 (1996).
138. M. Granström, M. Berggren, D. Pede, O. Inganäs, M. R. Andersson, T. Hjertberg, and O. Wennerström, Supramol. Sci., 4, 27-34 (1997).
139. M. Yoshida, A. Fujii, Y. Ohmori, and K. Yoshino, Appl. Phys. Lett., 69, 734-736 (1996).
140. J.-F. Wang, Y. Kawabe, S. E. Shaheen, M. M. Morrell, G. E. Jabbour, P. A. Lee, J. Anderson, N. R. Armstrong, B. Kippelen, E. A. Mash, and N. Peyghambarian, Adv. Mater., 10, 230-233 (1998).
141. H. Ogawa, R. Okuda, and Y. Shirota, Appl. Phys. A, 67, 599-602 (1998).
142. A. Fujii, M. Yoshida, Y. Ohmori, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Pt. 2, 35, L37-L39 (1969).
143. G. Giro, M. Cocchi, J. Kalinowski, P. Di Marco, and V. Fattori, Chem. Phys. Lett., 318, 137-141 (2000).
144. T. Granlund, L. A. A. Pettersson, M. R. Anderson, and O. Inganäs, J. Appl. Phys., 81, 8097-8104 (1997).
145. J. Rommens, A. Vaes, M. Van der Auweraer, F. C. De Schryver, H. Bässler, H. Vestweber, and J. Pommerehne, J. Appl. Phys., 84, 4487-4494 (1998).
146. G. G. Roberts, M. McGinnity, W. A. Barlow, and P. S. Vimcett, Solid State Commun., 32, 683-686 (1979).
147. T. Katsume, M. Hiramoto, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett., 64, 2546-2548 (1994).
148. R. N. Marks, F. Biscarini, R. Zamboni, and C. Taliani, Europhys. Lett., 32, 523-528 (1995).
149. S. E. Burns, N. Pfeffer, J. Grüner, M. Remmers, T. Javoreck, D. Neher, and R. H. Friend, Adv. Mater., 9, 395-398 (1997).
150. A. Fujii, Y. Ohmori, C. Morishima, M. Yoshida, and K. Yoshino, Synth. Met., 71, 2015-2016 (1996).
151. J. Kovac, T. C. Wong, M. K. Fung, M. W. Liu, V. Kremnican, and I. Bello, Mater. Sci. Eng., B85, 172-176 (2001).
152. W. Reiss, H. Reil, T. Beierlein, W. Brütting, P. Müller, and P. F. Seidler, IBM J. Res. & Dev., 45, 77-88 (2001).
153. A. R. Brown, D. D. C. Bradley, J. H. Burroughes, R. H. Friend, N. C. Greenham, P. L. Burn, A. B. Holmes, and A. Kraft, Appl. Phys. Lett., 61, 2793-2795 (1995).
154. J. Pommerehne, H. Vestweber, Y. K. Tak, and H. Bässler, Synth. Met., 76, 67-70 (1996).
155. T. Östergård, A. J Pal, and H. Stubb, J. Appl. Phys., 84, 2338-2342 (1998).
156. V. Savvate'ev, J. H. Friedl, L. Zou, J. Shinar, K. Christensen, W. Oldham, L. J. Rothberg, Z. Chen-Esterslit, and R. Kopelman, Mater. Sci. Eng., B85, 224-227 (2001).
157. D. Braun, D. Moses, C. Zhang, and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett., 61, 3092-3094 (1992).
158. W. Brüttig, S. Berleb, and A. G. Mückl, Org. Electron., 2, 1-36 (2001).
159. H. Kurczewska and H. Bässler, J. Luminesc., 15, 261-266 (1977).
160. H. Becker, S. E. Burns, and R. H. Friend, Phys. Rev. B, 56, 1893-1905 (1997).
161. J. Grüner, M. Remmers, and D. Neher, Adv. Mater., 9, 964-968 (1997).
162. C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett., 56, 799-801 (1990).
163. D. Moses, A. Dogariu, and A. J. Heeger, Synth. Met., 116, 19-22 (2001).
164. Y. Hou, X. Yang, Y. Li, X. Xu, Thin Solid Films, 363, 248-251 (2000).
165. R. Kersting, U. Lemmer, M. Deussen, H. J. Bakker, R. F. Mahrt, H. Kurz, V. I. Arkhipov, H. Bässler, and E. O. Gobel, Phys. Rev. Lett., 73, 1440-1443 (1994).
166. V. I. Arkhipov, H. Bässler, M. Deussen, R. Kersting, H. Kurz, U. Lemmer, H. J. Bakker, and R. F. Mahrt, Phys. Rev. B, 52, 4932-4940 (1995).
167. W. Stampor, Chem. Phys., 256, 351-362 (2000).
168. A. V. Kukto (Kukhta), E. E. Kolesnik, G. H. Shakah, and M. I. Taoubi, in: Abstr. Eur. Conf. on Surface Science, 24C, Madrid (2000), p. 208.
169. M. Deussen, M. Scheidler, and H. Bässler, Synth. Met., 73, 123-129 (1995).
170. A. N. Terenin, Photonics of Dye Molecules and Relative Organic Compounds [in Russian], Leningrad (1967).
171. F. Cacialli, R. H. Friend, C.-M. Bouche, P. Le Barny, H. Facoetti, F. Soyer, and P. Robin, J. Appl. Phys., 83, 2343-2356 (1998).
172. J. Stampfl, S. Tasch, G. Leising, and U. Scherf, Synth. Met., 71, 2125-2128 (1995).
173. Z. Bao, Z. Peng, M. Galvin, and E. A. Chandross, Chem. Mater., 10, 1201-1204 (1998).
174. N. A. Borisevich, S. M. Kazakov, A. V. Kukhto, D. V. Murtazaliev, T. A. Pavich, and O. V. Khristoforov, Zh. Prikl. Spektrosk., 69, 421-424 (2002).
175. F. Cacialli, C.-M. Bouche, P. Le Barny, R. H. Friend, H. Facoetti, F. Soyer, and P. Robin, Opt. Mater., 9, 163-167 (1998).
176. K. Yamashita, J. Futenma, T. Mori, and T. Mizutani, Synth. Met., 111-112, 87-90 (2000).
177. S. Morita, T. Akashi, A. Fujii, M. Yoshida, Y. Ohmori, K. Yoshimoto, T. Kawai, A. A. Zakhidov, S. B. Lee, and K. Yoshino, Synth. Met., 69, 433-434 (1995).
178. Y. Cao, G. Yu, A. J. Heeger, and C. Y. Yang, Appl. Phys. Lett., 68, 3218-3220 (1996).
179. D. B. Romero, M. Schaer, L. Zuppiroli, B. Cesar, and B. Francois, Appl. Phys. Lett., 67, 1659-1661 (1995).
180. F. Huang, A. G. MacDiarmid, and B. R. Hsieh, Appl. Phys. Lett., 71, 2415-2417 (1997).
181. S. Dailey, M. Halim, E. Rebourt, L. E. Horsburgh, I D. W. Samuel, and A. P. Monkman, J. Phys.: Condens. Matter, 10, 5171-5178 (1998).
182. G. Y. Jung, C. Pearson, M. Kilitziraki, L. E. Horsburgh, A. P. Monkman, I. D. W. Samuel, and M. C. Petty, J. Mater. Chem., 10, 163-167 (2000).
183. J. Bettenhausen, P. Strohrieg, W. Brütting, H. Tokuhisa, and T. Tsutsui, J. Appl. Phys., 82, 4957-4961 (1997).
184. K.-H. Choi, D.-H. Hwang, H.-M. Lee, L.-M. Do, and T. Zyung, Synth. Met., 96, 123-126 (1998).
185. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett., 70, 152-154 (1997).
186. Y. Zhao, S. Y. Liu, and J. Y. Hou, Thin Solid Films, 397, 208-210 (2001).
187. T. M. Brown, I. S. Millard, D. J. Lacey, J. H. Burroughes, R. H. Friend, and F. Cacialli, Synth. Met., 124, 15-17 (2001).
188. A. C. Fou, O. Onitsuka, M. Ferreira, M. F. Rubner, and B. R. Hsieh, J. Appl. Phys., 79, 7501-7509 (1996).
189. F. Zhang, A. Petr, U. Kirbach, and L. Dunsch, in: Proc. Eur. Conf. on Organic Electronics, November 18-21, 2001, Potsdam (2001) pp. 137-139 (2001).
190. D. Troadec, G. Veriot, R. Antony, and A. Moliton, Synth. Met., 124, 49-51 (2001).
191. F. Li, J. Feng, G. Cheng, and S. Liu, Synth. Met., 126, 347-350 (2002).
192. L. S. Hung and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett., 78, 3732-3734 (2001).
193. T.-W. Lee, O. O. Park, J. Yoon, and J.-J. Kim, Synth. Met., 121, 1737-1738 (2001).
194. H. An, B. Chen, J. Hou, J. Shen, and S. Liu, J. Phys. D: Appl. Phys., 31, 1144-1148 (1998).
195. C. Zhang, D. Braun, and A. J. Heeger, J. Appl. Phys., 73, 5177-5180 (1993).
196. T.-W. Lee and O. O. Park, Adv. Mater., 12, 801-604 (2000).
197. M. Scheffel, A. Hunze, J. Birnstock, J. Blassing, W. Rogler, G. Wittmann, and A. Winnacker, in: Proc. Eur. Conf. on Organic Electronics, November 18-21, 2001, Potsdam (2001), pp. 158-160.
198. A. J. Heeger, Solid State Commun., 107, 673-679 (1998).
199. D. I. Slovetskii, in: Chemistry of Plasma [in Russian], Moscow (1974), pp. 156-202.
200. Ya. M. Kolotyrkin, (ed.), Physical Chemistry. Modern Problems [in Russian], Moscow (1980).
201. V. K. Milinchuk and V. I. Tupikov (eds.), Radiation Stability of Organic Materials [in Russian], Moscow (1986).
202. T. Zyung and J.-J. Kim, Appl. Phys. Lett., 67, 3420-3422 (1995).
203. M. Matsumura and Y. Jinde, Synth. Met., 91, 197-198 (1997).
204. H. Aziz, Z. Popovic, S. Xie, A.-M. Hor, N.-X. Hu, C. Tripp, and G. Xu, Appl. Phys. Lett., 72, 756-758 (1998).
205. M. Fujihira, L. Do, A. Koike, and E. Han, Appl. Phys. Lett., 68, 1787-1789 (1996).
206. H. Aziz, Z. D. Popovic, N.-X. Hu, A.-M. Hor, and G. Xu, Science, 283, 1900-1902 (1999).
207. H. Aziz, Z. Popovic, C. P. Tripp, N.-X. Hu, A.-M. Hor, and G. Xu, Appl. Phys. Lett., 72, 2642-2644 (1998).
208. B. H. Cumpston and K. F. Jensen, Appl. Phys. Lett., 69, 3941-3943 (1966).
209. T. P. Nguyen, P. Jolinat, P. Destruel, R. Clergereaux, and J. Farenc, Thin Solid Films, 325, 2642-2644 (1998).
210. P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, L. S. Sapochak, D. M. McCarty, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett., 65, 2922-2925 (1994).
211. K. Seki, E. Ito, H. Oji, D. Yoshimura, N. Hayashi, Y. Sakurai, Y. Hosoi, T. Yokoyama, T. Imai, Y. Ouchi, and H. Ishii, Synth. Met., 119, 19-24 (2001).
212. J. He, M. Lu, X. Zhou, J. R. Cao, K. L. Wang, L. S. Liao, Z. B. Deng, X. M. Ding, X. Y. Hou, and S. T. Lee, Thin Solid Films, 363, 240-243 (2000).
213. S. A. Van Slyke, C. H. Chen, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 69, 2160-2162 (1996).
214. L. Zhu, H. Tang, Y. Harima, K. Yamashita, J. Ohshita, and A. Kunai, Synth. Met., 126, 331-335 (2002).
215. M. Carrard, S. Gonsalves-Conto, L. Si-Ahmed, D. Ades, and A. Siove, Thin Solid Films, 352, 189-194 (1999).
216. A. Berntsen, Y. Croonen, C. Liedenbaum, H. Schoo, R.-J. Visser, J. Vleggaar, and P. van de Weijer, Opt. Mater., 9, 125-133 (1998).
217. K. Book, V. R. Nikitenko, H. Bässler, and A. Elshner, Synth. Met., 122, 135-139 (2001).
218. E.-N. Lotfia, A.-H. Latifa, M. M. Omar, and M. Ragabv, Chem. Phys. Lett., 286, 8-14 (1998).
219. D. Braun and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett., 58, 1982-1984 (1991).
220. H. Vestweber, H. Bässler, J. Grüner, and R. H. Friend, Chem. Phys. Lett., 256, 37-42 (1996).
221. V. I. Arkhipov, E. V. Emelianova, Y. H. Tak, and H. Bässler, J. Appl. Phys., 84, 848-856 (1998).
222. M. Matsumura, T. Akai, M. Saito, and T. Kimura, J. Appl. Phys., 79, 264-268 (1996).
223. S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, Wiley, New York (1981).
224. M. I. Elinson and G. F. Vasil'ev, Self-Electronic Emission [in Russian], Moscow (1958).
225. M. Stössel, J. Staudigel, F. Steuber, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. A, 68, 387-390 (1999).
226. C. Wert and R. M. Thompson, Physics of Solids [Russian translation], Moscow (1958).
227. N. D. Lang and W. Kohn, Phys. Rev. B, 1, 4555-4568 (1970).
228. Z. Liu, O. V. Salata, and N. Male, Synth. Met., 128, 211-214 (2002).
229. F. Nüesch, F. Rotzinger, L. Si-Ahmed, and L. Zuppiroli, Chem. Phys. Lett., 288, 861-867 (1998).
230. I. H. Campbell, J. D. Kress, R. L. Martin, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett., 71, 3528-3530 (1997).
231. R. A. Hatton, S. R. Day, M. A. Chesters, and M. R. Willis, Thin Solid Films, 394, 292-297 (2001).
232. Q.-T. Le, E. W. Forsythe, F. Nuesch, L. J. Rothberg, L. Yan, and Y. Gao, Thin Solid Films, 363, 42-46 (2000).
233. W. D. Harkins and E. K. Fischer, J. Chem. Phys., 1, 852-862 (1933).
234. S. V. Novikov, in: Proc. Eur. Conf. on Organic Electronics, November 18-21, 2001, Potsdam (2001), pp. 121-124.
235. Y. Sakuratani, M. Asai, M. Tokita, and S. Miyata, Synth. Met., 123, 207-210 (2001).
236. M. Pfeiffer, J. Huang, J. Blochwitz, and K. Leo, in: Proc. Eur. Conf. on Organic Electronics, November 18-21, 2001, Potsdam (2001), p. 69.
237. H. Ishii, K. Sugiyama, E. Ito, and K. Seki, Adv. Mater., 11, 605-625 (1999).
238. K. Seki, N. Hayashi, H. Oji, E. Ito, Y. Ouchi, and H. Ishii, Thin Solid Films, 393, 298-303 (2001).
239. M. Kiy, I. Gamboni, U. Suhner, G. Conradin, I. Biaggio, and P. Gunter, Synth. Met., 111-112, 307-309 (2000).
240. Y. Gao, K. T. Park, and B. R. Hsieh, J. Appl. Phys., 73, 7894-7899 (1993).
241. Y. Harima, H. Okazaki, Y. Kunugi, K. Yamashita, H. Ishii, and K. Seki, Appl. Phys. Lett., 69, 1059-1061 (1996).
242. S. T. Lee, X. Y. Hou, M. G. Mason, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 72, 1593-1595 (1998).
243. A. Curionu and W. Andreoni, Synth. Met., 111-112, 299-301 (2000).
244. F. Rohlfing and T. Yamada, J. Appl. Phys., 86, 4978-4984 (1999).
245. Yu. D. Korolev and G. A. Mesyats, Physics of Pulsed Breakdown in Gases [in Russian], Moscow (1991).
246. P. W. Anderson, Phys. Rev., 109, 1492-1505 (1958).
247. R. A. Marcus and N. Sutin, Biochim. Biophys. Acta, 811, 265-322 (1985).
248. J. Simon and J.-J. Andre, Molecular Semiconductors. Photoelectrical Properties and Solar Cells [Russian translation], Moscow (1988).
249. L. I. Boguslavskii and A. V. Vannikov, Organic Semiconductors and Biopolymers [in Russian], Moscow (1968).
250. A. E. Pochtennyi, D. I. Sagaidak, G. G. Fedoruk, and A. V. Misevich, Fiz. Tverd. Tela., 38, 2592-2601 (1996).
251. A. P. Tyutnev and D. N. Sadovnichii, Khim. Fiz., 17, 121-133 (1998).
252. T. Mori, K. Miyachi, and T. Mizutani, J. Phys. D: Appl. Phys., 28, 1461-1467 (1995).
253. A. P. Tyutnev, D. N. Sadovnichii, P. A. Pavlov, V. S. Saenko, and E. D. Pozhidaev, Vysokomolek. Soed., Ser. A, 40, 821-827 (1998).
254. L.-B. Lin, S. A. Jenekhe, R. H. Young, and P. M. Borsenberger, Appl. Phys. Lett., 70, 2052-2054 (1997).
255. R. Österbacka, G. Juška, K. Arlauskas, A. J. Pal, K.-M. Kälman, and H. Stubb, J. Appl. Phys., 84, 3359-3363 (1998).
256. P. S. Vincett and G. G. Roberts, Thin Solid Films, 68, 135-171 (1980).
257. E. E. Polymeropoulos and J. Sagiv, J. Chem. Phys., 69, 1836-1847 (1978).
258. A. V. Kukhto, Zh. Prikl. Spektrosk., 65, 694-708 (1998).
259. H. Venghaus and H.-J. Hinz, Phys. Status Solidi, B65, 239-247 (1974).
260. M. Allan, J. Electron. Spectrosc. Rel. Phenomena, 48, 219-351 (1989).
261. V. V. Gruzinskii, A. V. Kukhto (Kukhta), V. A. Suchkov, and S. M. Kazakov, Spectrosc. Lett., 27, 65-75 (1994).
262. N. A. Borisevich, S. M. Kazakov, E. E. Kolesnik, A. V. Kukhto, A. I. Mit'kovets, D. V. Murtazaliev, and O. V. Kristoforov, Zh. Prikl. Spektrosk., 68, 343-348 (2001).
263. N. A. Borisevich, S. M. Kazakov, A. V. Kukhto, D. V. Murtazaliev, and O. V. Khristoforov, Zh. Prikl. Spektrosk., 69, 166-171 (2002).
264. N. A. Borisevich, S. M. Kazakov, A. V. Kukhto, A. I. Mit'kovets, D. V. Murtazaliev, T. F. Raichenok, and O. V. Khristoforov, Zh. Prikl. Spektrosk., 68, 664-668 (2001).
265. D. I. Slovetskii, Mechanisms of Chemical Reactions in Nonequilibrium Plasma [in Russian], Moscow (1980).
266. C. W. Tang, S. A. VanSlyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys., 65, 3610-3616 (1989).
267. L. S. Polak, A. A. Ovsyannikov, D. I. Slovetskii, and F. B. Vurzel' (eds.), in: Theoretical and Applied Plasma Chemistry [in Russian], Moscow (1975).
268. V. V. Gruzinskii, S. V. Davydov, and A. V. Kukhto, Zh. Prikl. Spektrosk., 46, 924-931 (1987).
269. V. V. Gruzinskii and A. V. Kukhto, Zh. Prikl. Spektrosk., 47, 409-417 (1987).
270. Yu. P. Raizer, Gas Discharge Physics [in Russian], Moscow (1987).
271. Y. Hatano, in: L. G. Christophorou, E. Illenberger, and W. F. Schmidt (eds.), in: The Behaviour of Slow Electrons, New York (1994).
272. S. Kawakami, M. Kitagawa, H. Kusano, D. Morita, Y. Horii, Y. Hirooka, K. Hatano, T. Sawada, T. Tsushima, and H. Kobayashi, Thin Solid Films, 363, 17-20 (2000).
273. K. A. Neyts and P. D. Visschere, J. Appl. Phys., 68, 4163-4171 (1990).
274. Y. Kawabe, M. M. Morrell, G. E. Jabbour, S. E. Shaheen, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, J. Appl. Phys., 84, 5306-5314 (1998).
275. S. Kazakov, A. Kukhta, and V. Suchkov, J. Fluoresc., 10, 409-412 (2000).
276. V. V. Gruzinskii and A. V. Kukhto, Zh. Prikl. Spektrosk., 65, 146-148 (1998).
277. A. V. Kukto (Kukhta), E. E. Kolesnik, and V. V. Galkin, in: Proc. Int. Workshop on Hopping Transport in Organic Solids, Potsdam (2001), pp. 10-12.
278. A. Kukhto (Kukhta), E. Kolesnik, M. Taoubi, and V. Galkin, J. Optoelectron. Adv. Mater., 4, 575-580 (2002).
279. A. V. Kukhto, E. E. Kolesnik, M. I. Tobi, V. V. Gal'kin, and I. I. Zholnerevich, Zh. Prikl. Spektrosk., 69, 741-746 (2002).
280. Z. Shen, P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Science, 276, 2009-2011 (1997).
281. Proc. 22nd Int. Display Research Conf., October 2-4, 2002, Nice (2002).
282. N. Tessler, G. J. Denton, and R. H. Friend, Nature, 382, 695-697 (1996).
283. F. Hide, B. J. Schwartz, M. A. Diaz-Garcia, and A. J. Heeger, Chem. Phys. Lett., 256, 424-430 (1996).
284. Y. Kawabe, C. Spiegellberg, A. Schulzgen, M. F. Nabor, B. Kippelen, E. A. Mash, P. M. Allemand, M. Kuwata-Gonokami, K. Takeda, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett., 72, 141-143 (1998).
285. A. Schülzgen, C. Spiegelberg, M. M. Morrell, S. B. Mendes, P.-M. Allemand, Y. Kawabe, M. Kuwata-Gonokami, S. Honkanen, M. Fallahi, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Opt. Eng., 37, 1149-1156 (1998).
286. N. Becker, R. H. Friend, and T. Wilkinson, Appl. Phys. Lett., 72, 1266-1268 (1998).
287. S. E. Burns, G. Denton, N. Tessler, M. A. Stevens, F. Cacialli, and R. H. Friend, Opt. Mater., 9, 18-24 (1998).
288. M. A. Diaz-Garcia, F. Hide, B. J. Schwartz, M. D. McGehee, M. R. Andersson, and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett., 70, 3191-3193 (1997).
289. C. Spiegelberg, A. Schülzgen, P. M. Allemand, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Phys. Status Solidi (b), 206, 131-138 (1998).
290. A. V. Kukhto (Kukhta), S. M. Kazakov, E. E. Kolesnik, A. I. Mit'kovets, D. V. Murtazaliev, and G. Sorokin, Proc. SPIE, 4747, 224-229 (2002).
291. A. V. Kukhto, E. E. Kolesnik, V. V. Gal'kin, and I. I. Zholnerevich, Zh. Prikl. Spektrosk., 69, 318-323 (2002).
292. M. Berggren, A. Dodabalapur, and R. E. Slusher, Appl. Phys. Lett., 71, 2230-2232 (1997).
293. T. Granlund, M. Theander, M. Berggren, M. Andersson, A. Ruzeckas, V. Sundstrom, G. Bjork, M. Granström, and O. A. Inganäs, Chem. Phys. Lett., 288 879-884 (1998).
294. R. C. Polson, J. D. Huang, and Z. V. Vardeny, Synth. Met., 119, 7-12 (2001).
295. M. Kuwata-Gonokami and K. Takeda, Opt. Mater., 9, 12-17 (1998).
296. B. Zhang, Y. Ma, M. Xu, K. Wu, C. Huang, Y. Zhao, D. Zhuo, L. Yin, and X. Zhao, Solid State Commun., 104, 593-596 (1997).
297. N. M. Lawandy, R. M. Balachandran, A. S. L. Gomes, and E. Sauvain, Nature, 368, 436-438 (1994).
298. W. Holzer, A. Penzkofer, R. Stockmann, H. Meysel, H. Liebegott, and H. H. Horhold, Synth. Met., 125, 343-357 (2002).
299. M. Berggren, O. Inganäs, T. Granlund, S. Guo, G. Gustafsson, and M. R. Andersson, Synth. Met., 76, 121-123 (1996).
300. N. Takada, T. Tsutsui, and S. Saito, Synth. Met., 71, 2099-2100 (1995).
301. W. Graupner, G. Cerullo, G. Lanzani, M. Nisoli, E. J. W. List, G. Leising, and S. De Silvestri, Phys. Rev. Lett., 81, 3259-3262 (1998).
302. T. Katsume, M. Hiramoto, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett., 69, 3722-3724 (1996).
303. M. Hiramoto, K. Yoshimura, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett., 60, 324-325 (1992).
304. M. Chikamatsu, J. P. Ni, T. Tano, Y. Ishino, Y. Ioshida, N. Takada, M. Yoshida, T. Kamata, and K. Yase, in: Proc. Eur. Conf. on Organic Electronics, November 18-21, 2001, Potsdam (2001), pp. 145-146.
305. T. Katsume, M. Hiramoto, and M. Yokoyama, Appl. Phys. Lett., 66, 2992-2994 (1995).
306. G. G. Malliaras, V. V. Krasnikov, H. J. Bolink, and G. Hadziioannoyu, Appl. Phys. Lett., 65, 262-264 (1994).
307. J. M. Hong, S. Wang, T. Sands, J. Washburu, J. D. Flood, J. L. Mera, and T. Low, Appl. Phys. Lett., 48, 142-144 (1986).
308. B. O'Regan and M. Gratzel, Nature 363, 737-740 (1991).
309. L. Aguilhon, J.-P. Bourgoin, A. Barraud, and P. Hesto, Synth. Met., 71, 1971-1974 (1995).
310. R. C. Hoffman and R. S. Potember, Appl. Opt., 28, 1417-1421 (1989).
311. G. Yu, K. Pakbaz and A. J. Heeger, J. Electron. Mater., 23, 925-928 (1994).
312. M. A. Kervey, M. J. Schwing-Weill, and F. Arnaud, in: G. N. Gockel (ed.), New Comprehensive Supramolecular Chemistry, Vol. 1, (1996).
313. A. V. Chadwick, P. B. M. Dunning, and J. D. Wright, Mol. Cryst. Liq. Cryst., 134, 137 (1986).
314. J. H. Schön, A. Dodabalapur, Z. Bao, C. Kloc, O. Schenker, and B. Batlogg, Nature, 410, 189-192 (2001).