Temperature- and field-dependent leakage current of Pt/(Ba 0.7Sr0.3)TiO2 interface

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 8, 2003, Pages 1611-1613

  Yang, Hao ^a   Chen, Bin ^a   Tao, Kun ^a   Qiu, Xianggang ^a   Xu, Bo ^a   Zhao, Bairu ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CAPACITORS; ELECTRIC FIELDS; ELECTRIC SPACE CHARGE; INTERFACES (MATERIALS); LEAKAGE CURRENTS; PERMITTIVITY; THERMAL EFFECTS;

FOWLER-NORDHEIM TUNNELING;

YTTRIUM BARIUM COPPER OXIDES;

EID: 0042782766     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1604181     Document Type: Article

References (17)

1. G. W. Dietz, W. Antpohler, M. Klee, and R. Waser, J. Appl. Phys. 78, 6113 (1995).
2. C. S. Hwang, B. T. Lee, C. S. Kang, J. W. Kim, K. H. Lee, H. J. Cho, H. Horii, W. D. Kim, S. I. Lee, Y. B. Roh, and M. Y. Lee, J. Appl. Phys. 83, 3703 (1998).
3. G. W. Dietz, M. Schumacher, R. Waser, S. K. Streifer, C. Basceri, and A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 82, 2359 (1997).
4. B. Nagaraj, T. Sawhney, S. Perusse, S. Aggarwal, V. S. Kaushik, S. Zafar, R. E. Jones, J. H. Lee, V. Balu, and J. Lee, Appl. Phys. Lett. 74, 3194 (1999).
5. S. T. Chang and J. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 655 (2002).
6. Y. Shimada, A. Inoue, T. Nasu, K. Arita, Y. Nagano, A. Matsuda, Y. Uemoto, E. Fujii, M. Azuma, Y. Oishi, S. I. Hayashi, and T. Otsuki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 140 (1996).
7. C. S. Hwang, B. T. Lee, C. S. Kang, K. H. Lee, H. J. Cho, H. Hideki, W. D. Kim, S. I. Lee, and M. Y. Lee, J. Appl. Phys. 85, 287 (1999).
8. H. Yang, K. Tao, B. Chen, X. G. Qiu, B. Xu, and B. R. Zhao, Appl. Phys. Lett. 81, 4817 (2002).
9. K. H. Ahn, S. S. Kim, and S. G. Baik, J. Appl. Phys. 92, 421 (2002).
10. K. H. Ahn, S. G. Baik, and S. S. Kim, J. Appl. Phys. 92, 2651 (2002).
11. Y. P. Wang and T. Y. Tseng, J. Appl. Phys. 81, 6762 (1997).
12. H. Y. Hsu, J. D. Luttmer, R. Tsu, S. Summerfelt, M. Bedekar, T. Tokumoto, and J. Nulman, Appl. Phys. Lett. 66, 2975 (1995).
13. C. J. Peng and S. B. Krupanidhi, J. Mater. Res. 10, 708 (1995).
14. H. Hu and S. B. Krupanidhi, J. Mater. Res. 9, 1484 (1994).
15. R. Waser and M. Klee, Proceedings of the Third International Symposium on Integrated Ferroelectrics, Colorado Springs, CO (1991), pp. 288-305.
16. M. A. Lampert and P. Mark, Current Injection in Solids (Academic, New York, 1970).
17. S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed. (Wiley, New York, 1981).