Copper nitride films produced by reactive pulsed laser deposition

Materials Letters

Volumn 57, Issue 26-27, 2003, Pages 4130-4133

  Soto, G ^a,b   Diaz J A ^a   De la Cruz, W ^a  

^a UNIVERSIDAD NACIONAL AUTÓNOMA DE MÉXICO   (Mexico)

^b CENTRO DE CIENCIAS DE LA MATERIA CONDENSADA   (Mexico)

Author keywords

Characterization methods; Deposition; Electronic materials; Thin films

Indexed keywords

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CHEMICAL BONDS; ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY; PULSED LASER DEPOSITION; STOICHIOMETRY; THIN FILMS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ELECTRONIC MATERIALS;

COPPER COMPOUNDS;

EID: 0042061372     PISSN: 0167577X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0167-577X(03)00277-5     Document Type: Article

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