Hole-transport properties of a furan-containing oligoaryl

Journal of Applied Physics

Volumn 93, Issue 9, 2003, Pages 5465-5471

  Wu, Chung Chih ^a   Hung, Wen Yi ^a   Liu, Tsung Li ^a   Zhang, Ling Zhi ^a,b   Luh, Tien Yau ^a,b  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b INSTITUTE OF CHEMISTRY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRIC FIELDS; LIGHT EMITTING DIODES; MOLECULAR STRUCTURE; MORPHOLOGY; OLIGOMERS; PHOTOCURRENTS; THIN FILMS; XEROGRAPHY;

MORPHOLOGICAL STABILITY;

HOLE MOBILITY;

EID: 0037648819     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1567056     Document Type: Article

References (56)

1. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. C. W. Tang, S. A. VanSlyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
3. C. H. Chen, J. Shi, and C. W. Tang, Macramol. Symp. 125, 1 (1997).
4. J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burns, and A. B. Holmes, Nature (London) 347, 539 (1990).
5. C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett. 57, 531 (1990).
6. K.-W. Klupfel, O. Sus, H. Behmenburg, and W. Neugebauer, US Patent No. 3,180,730 (1965).
7. T. B. Brantly, L. E. Contois, and C. J. Fox, US Patent No. 3,567,450 (1971).
8. Y. Shirota, J. Mater. Chem. 10, 1 (2000).
9. D. F. O'Brien, P. E. Burrows, S. R. Forrest, B. E. Koene, D. E. Loy, and M. E. Thompson, Adv. Mater. 10, 1108 (1998).
10. C. C. Wu et al., Appl. Phys. Lett. 81, 577 (2002).
11. J. Shi and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 70, 1665 (1997).
12. T. Sano, T. Fujii, Y. Nishio, Y. Hamada, K. Shibata, and K. Kuioki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 3124 (1995).
13. K. Kawate, Proc. SPIE 2174, 200 (1994).
14. C.-F. Lee, L.-M. Yang, T.-Y. Hwu, A.-S. Feng, J.-C. Tseng, and T.-Y. Luh, J. Am. Chem. Soc. 122, 4992 (2000).
15. L.-Z. Zhang, C.-W. Chen, C.-F. Lee, C.-C. Wu, and T.-Y. Luh, Chem. Commun. (Cambridge) 2002, 2336 (2002).
16. J. C. de Mello, H. F. Wittmann, and R. H. Friend, Adv. Mater. 9, 230 (1997).
17. K.-T. Wong et al., J. Am. Chem. Soc. 124, 11576 (2002).
18. H. Mattoussi, H. Murata, C. D. Merritt, Y. Iizumi, J. Kido, and A. H. Kafafi, J. Appl. Phys. 86, 2642 (1999).
19. D. Z. Garbuzov, S. R. Forrest, A. G. Tsekoun, V. Bulovic, and M. E. Thompson, J. Appl. Phys. 80, 4644 (1996).
20. H. Kirihata and M. Uda, Rev. Sci. Instrum. 52, 68 (1981).
21. T. Sano, Y. Hamada, and K. Shibata, IEEE J. Sci. Top. Quantum Electron. 4, 34 (1998).
22. A. Elschner, F. Bruder, H.-W. Heuer, F. Jonas, A. Karbach, S. Kirchmeyer, S. Thurm, and R. Wehrmann, Synth. Met. 111, 139 (2000).
23. P. M. Borsenberger and D. S. Weiss, Organic Photoreceptors for Imaging Systems (Marcel Dekker, New York, 1993).
24. C.-C. Wu, T.-L. Liu, W.-Y. Hung, Y.-T. Lin, K.-T. Wong, R.-T. Chen, Y.-M. Chen, and Y.-Y. Chien, J. Am. Chem. Soc. (in press).
25. J. Salbeck, N. Yu, J. Bauer, F. Steuber, F. Weissörtel, and H. Bestgen, Synth. Met. 91, 209 (1997).
26. M. R. Robinson, S. Wang, G. C. Bazan, and Y. Cao, Adv. Mater. 12, 1701 (2000).
27. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
28. J. Kido, Appl. Phys. Lett. 73, 2866 (1998).
29. B. J. Chen, W. Y. Lai, Z. Q. Gao, C. S. Lee, S. T. Lee, and W. A. Gambling, Appl. Phys. Lett. 75, 4010 (1999).
30. T. Wakimoto, Y. Fukuda, K. Nagayama, A. Yokoi, H. Nakada, and M. Tsuchida, IEEE Trans. Electron Devices 44, 1245 (1997).
31. C.-W. Chen, T.-Y. Cho, C.-C. Wu, H.-L. Yu, and T.-Y. Luh, Appl. Phys. Lett. 81, 1570 (2002).
32. C. Adachi, K. Nagai, and N. Tamoto, Appl. Phys. Lett. 66, 2679 (1995).
33. S. Okutsu, T. Onikubo, M. Tamano, and T. Enokida, IEEE Trans. Electron Devices 44, 1302 (1997).
34. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
35. M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong, and M. Wang, J. Appl. Phys. 86, 1688 (1999).
36. H. Ishii, K. Suguyama, E. Ito, and K. Seki, Adv. Mater. 11, 605 (1999).
37. S. T. Lee, Y. M. Wang, X. Y. Hou, and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 74, 670 (1999).
38. A. Schmidt, M. L. Andersen, and N. R. Armstrong, J. Appl. Phys. 78, 5619 (1995).
39. A. Rajagopal, C. I. Wu, and A. Kahn, J. Appl. Phys. 83, 2649 (1998).
40. A. Rajagopal and A. Kahn, J. Appl. Phys. 84, 355 (1998).
41. Y. Kijima, N. Asai, and S. Tamura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 5274 (1999).
42. L.-B. Lin, S. A. Jenekhe, and P. M. Borsenberger, J. Chem. Phys. 105, 8490 (1996).
43. W. D. Gill, J. Appl. Phys. 43, 5033 (1972).
44. M. Redecker, D. D. C. Bradley, M. Inbasekaran, W. W. Wu, and E. P. Woo, Adv. Mater. 11, 241 (1999).
45. P. M. Borsenberger, W. T. Gruenbaum, and E. H. Magin, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 2698 (1996).
46. L.-B. Lin, S. A. Jenekhe, and P. M. Borsenberger, Appl. Phys. Lett. 69, 3495 (1996).
47. G. G. Malliaras, Y. Shen, D. H. Dunlap, H. Murata, and Z. H. Kafafi, Appl. Phys. Lett. 79, 2582 (2001).
48. H. Murata, G. G. Malliaras, M. Uchida, Y. Shen, and Z. H. Kafafi, Chem. Phys. Lett. 339, 161 (2001).
49. H. Tokuhisa, M. Era, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett. 66, 3433 (1995).
50. J. Frenkel, Phys. Rev. 54, 647 (1938).
51. H. Bässler, Philos. Mag. B 65, 795 (1992).
52. H. Bässler, Phys. Status Solidi B 15, 175 (1993).
53. H. Bässler, Int. J. Mod. Phys. 8, 847 (1994).
54. G. Schönherr, H. Bässler, and M. Silver, Philos. Mag. B 44, 47 (1981).
55. P. M. Borsenberger, L. Pautmeier, and H. Bässler, J. Chem. Phys. 94, 5447 (1991).
56. J. S. Facci and M. Stolka, Phys. Rev. B 54, 1 (1986).